地下隧洞排水结构制造技术

本实用新型专利技术涉及水利水电领域，尤其是一种地下隧洞排水结构。所要解决的技术问题是提供一种有效减少外水载荷，从而保护隧洞结构的地下隧洞排水结构。地下隧洞排水结构，包括由顶部弧面和底部隧洞构成的隧洞体，还包括相邻两个隧洞体之间的隧洞缝，所述底部隧洞内部设置有止水带，所述止水带的止水带顶端高于隧洞体的隧洞内水的水面，所述隧洞缝通过止水带阻止隧洞内水流出。在实际应用中，由于隧洞体的顶部弧面是存在有隧洞缝的，故而顶部弧面外渗透的外水就可以通过这一隧洞缝流动到隧洞体内，从而降低了隧洞体结构所承受的外水的压力。本实用新型专利技术尤其适用于外水渗透较严重、隧洞体承受较大外水压力的地下隧洞中。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及水利水电领域，尤其是一种地下隧洞排水结构。
技术介绍
随着国家对水电清洁能源的需求，修建了大量的高坝，相应也修建大量深埋的大型地下隧洞，包括交通隧洞或输水隧洞。为减少外水荷载，目前采用的技术是隧洞顶部结构采用排水孔进行排水。但是，这样的排水方式不仅在隧洞顶部的排水孔数量较少，而且由于排水孔孔径有限，排水通道总面积很少，排水不通畅。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种有效减少外水载荷，从而保护隧洞结构的地下隧洞排水结构。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:地下隧洞排水结构，包括由顶部弧面和底部隧洞构成的隧洞体，还包括相邻两个隧洞体之间的隧洞缝，所述底部隧洞内部设置有止水带，所述止水带的止水带顶端高于隧洞体的隧洞内水的水面，所述隧洞缝通过止水带阻止隧洞内水流出。进一步的是，所述底部隧洞由两个隧洞侧面和隧洞底面构成，所述隧洞侧面和隧洞底面内分别设置有侧面止水带和底面止水带，所述侧面止水带的侧面止水带最高点高于隧洞体的隧洞内水的水面。进一步的是，包括设置于顶部弧面的排水孔，所述排水孔沿顶部弧面均布。进一步的是，包括设置于顶部弧面的排水孔，所述排水孔沿隧洞体的本文档来自技高网...

【技术保护点】
地下隧洞排水结构，包括由顶部弧面(11)和底部隧洞(12)构成的隧洞体(1)，其特征在于：包括相邻两个隧洞体(1)之间的隧洞缝(3)，所述底部隧洞(12)内部设置有止水带(15)，所述止水带(15)的止水带顶端(151)高于隧洞体(1)的隧洞内水(2)的水面，所述隧洞缝(3)通过止水带(15)阻止隧洞内水(2)流出。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王仁坤，夏勇，杨怀德，杨敬，刘强，石江涛，华大恩，鲁毅，
申请(专利权)人：中国电建集团成都勘测设计研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51