一种蛇形波导及其制作方法技术

一种蛇形波导及其制作方法，包括并列弯曲呈波浪形的至少一组波导，其特征在于：该至少一组波导包括均匀间隔设置的至少两条波导，并且每条波导包括衬底材料层和位于衬底材料层上方的薄膜层，所述至少一组波导弯曲所成的半径范围为300μm-3mm，并且至少两条波导之间的间隔为30μm。该蛇形波导，不但结构新颖，可以进行弯曲传输，减少空间，并且制作方便。

【技术实现步骤摘要】
一种蛇形波导及其制作方法
本专利技术涉及一种波导及其制作方法。
技术介绍
硫系基质弯曲波导是由脊型、条形波导和蛇形波导组成的结构新型波导，它与传统的脊型或是条形波导而言，有很多优点，其中较显著的优点是此种结构的波导不但可以进行直线传输、弯曲传输、节省空间、并且制作简单。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种可以既直线传输、又可以弯曲传输，节省传输空间且制备简单方便的弯曲平板波导。本专利技术解决上述技术问题所采用的技术方案为：一种蛇形波导，包括并列弯曲呈波浪形的至少一组波导，其特征在于：该至少一组波导包括均匀间隔设置的至少两条波导，并且每条波导包括衬底材料层和位于衬底材料层上方的薄膜层，所述至少一组波导弯曲所成的半径范围为300μm-3mm，并且至少两条波导之间的间隔为30μm。优选地，所述波导为至少两组时，每组之间的间隔为300μm，并且每组波导的宽度沿一个方向逐渐缩小。优选地，所述波导为6组，每组波导包括5条，第一组波导每条的宽度为18μm-20μm，第二组波导每条的宽度为14μm-16μm，第三组波导每条的宽度为10μm-12μm，第四组波导每条的宽度为5μm-8μm本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蛇形波导，包括并列弯曲呈波浪形的至少一组波导，其特征在于：该至少一组波导包括均匀间隔设置的至少两条波导，并且每条波导包括衬底材料层和位于衬底材料层上方的薄膜层，所述至少一组波导弯曲所成的半径范围为300μm‑3mm，并且至少两条波导之间的间隔(b)为30μm。

【技术特征摘要】
1.一种蛇形波导，包括并列弯曲呈波浪形的至少一组波导，其特征在于：该至少一组波导包括均匀间隔设置的至少两条波导，并且每条波导包括衬底材料层和位于衬底材料层上方的薄膜层，所述至少一组波导弯曲所成的半径范围为300μm-3mm，并且至少两条波导之间的间隔(b)为30μm；所述波导为至少两组时，每组之间的间隔为300μm，并且每组波导的宽度沿一个方向逐渐缩小。2.如权利要求1所述的蛇形波导，其特征在于：所述波导为6组，每组波导包括5条，第一组波导每条的宽度为18μm-20μm，第二组波导每条的宽度为14μm-16μm，第三组波导每条的宽度为10μm-12μm，第四组波导每条的宽度为5μm-8μm，第五组波导每条的宽度为2μm-4μm，第六组波导每条的宽度为1μm-2μm。3.如权利要求2所述的蛇形波导，其特征在于：所述薄膜层的厚度为800nm-1500nm。4.如权利要求2所述的蛇形波导，其特征在于：所述薄膜层为硫系玻璃。5.如权利要求3所述的蛇形波导，其特征在于：所述薄膜层材料为Ge20Sb15Se65，所述衬底材料层材料为SiO2。6.如权利要求1-5中任一项所述的蛇形波导的制作方法，其特征在于：包括如下步骤，在基底材料上设置衬底材料层，在衬底材料层上利用磁控溅射涂覆薄膜层，在薄膜层上涂覆光刻胶，然后曝光、显影，得到所制备的波导的形貌，利用电感耦合等离子体...

【专利技术属性】
技术研发人员：张巍，魏凤娟，韩金涛，王贤旺，张培晴，吴越豪，徐培鹏，聂秋华，
申请(专利权)人：宁波大学，
类型：发明
国别省市：浙江;33