一种圆偏振片及其制备方法、显示面板技术

本发明专利技术涉及偏振片技术领域，公开一种圆偏振片及其制备方法、显示面板，其中，该圆偏振片包括：基板、位于基板一侧的线型光栅结构层和四分之一波长片，其中，所述四分之一波长片为通过光聚合液晶材料形成的四分之一波长片。上述圆偏振片可以直接集成于显示面板的上基板或/和下基板上，因此可以简化显示面板的结构。

【技术实现步骤摘要】
—种圆偏振片及其制备方法、显示面板
本专利技术涉及偏振片
，特别涉及一种圆偏振片及其制备方法、显示面板。
技术介绍
现有技术中，显示面板中需要获得圆偏振光时，一般都是采用将圆偏振片贴附于显示面板的上基板和/或下基板上，从而使得显示面板的结构比较复杂。
技术实现思路
本专利技术提供了一种圆偏振片及其制备方法、显示面板，其中，上述圆偏振片可以直接集成于显示面板的上基板或/和下基板上，简化显示面板的结构。 为达到上述目的，本专利技术提供以下技术方案: 一种圆偏振片，包括:基板、位于基板一侧的线型光栅结构层和四分之一波长片，其中，所述四分之一波长片为通过光聚合液晶材料形成的四分之一波长片。 光束通过线型光栅结构后可以变为线偏振光，线偏振光通过四分之一波长片后可以变为圆偏振光，因此，上述圆偏振片通过线型光栅结构层和四分之一波长片的组合可以获得圆偏振光；由于上述圆偏振片的线型光栅结构层和四分之一波长片是形成于基板上的，因此，当上述圆偏振片的基板为显示面板的上基板或/和下基板时，上述圆偏振片的线型光栅结构层和四分之一波长片可以直接形成于显示面板的上基板或/和下基板上，此时，上述圆偏振片为集成于显示面板上，因此可以简化显示面板的结构。 优选地，所述线型光栅结构层的光栅间距小于200nm。 优选地，所述线型光栅结构层的光栅间距为60?lOOnm。 优选地,所述四分之一波长片为使O光和e光的光程差为四分之一波长的波片，或者，所述四分之一波长片为使ο光和e光的光程差为四分之三波长的波片。 优选地，所述四分之一波长片为使O光和e光的光程差为四分之一波长的波片以及使ο光和e光的光程差为四分之三波长的波片间隔排列所形成的波片。 优选地，所述线型光栅结构层位于所述基板和所述四分之一波长片之间。 优选地，所述四分之一波长片位于所述基板和所述线型光栅结构层之间。 本专利技术还提供一种显示面板，所述显示面板包括上基板和下基板，其中，所述上基板为上述任意一个技术方案中所述的圆偏振片，和/或，所述下基板为上述任意一个技术方案中所述的圆偏振片。 本专利技术还提供一种圆偏振片的制备方法，包括: 清洗基板； 在基板上形成线型光栅结构层和四分之一波长片，其中，所述四分之一波长片为通过光聚合液晶材料形成的四分之一波长片。 优选地，所述在基板上形成线型光栅结构层和四分之一波长片，具体包括: 在基板上形成线型光栅结构层； 在线型光栅结构层上涂覆OC材料找平； 在OC材料上形成四分之一波长片。 优选地，所述在基板上形成线型光栅结构层，具体包括:在基板上形成金属层，对金属层进行涂胶、曝光、显影，以形成线型光栅结构； 所述在OC材料上形成四分之一波长片，具体包括:在OC材料上形成光聚合液晶材料，通过紫外偏振光照射光聚合液晶材料、以形成四分之一波长片。 优选地，所述曝光为采用激光的干涉曝光法进行曝光。 优选地， 所述在基板上形成线型光栅结构层，具体包括:在基板上形成金属层，在金属层上涂覆可压印液体材料，利用凹凸纳米压印模具对液体材料进行压印，并进行光固化、脱模、以形成具有光栅图形的固化材料；利用所述固化材料作为掩模板对金属层进行刻蚀、显影，以形成线型光栅结构； 所述在OC材料上形成四分之一波长片，具体包括:在OC材料上形成光聚合液晶材料，通过紫外偏振光照射光聚合液晶材料、以形成四分之一波长片。 优选地，所述在基板上形成金属层，具体包括:在基板上溅射或蒸镀金属层。 优选地，所述在基板上形成线型光栅结构层和四分之一波长片，具体包括: 在基板上形成四分之一波长片； 在四分之一波长片上形成保护层； [0031 ] 在保护层上形成线型光栅结构层。 优选地， 所述在保护层上形成线型光栅结构层，具体包括:在保护层上形成金属层，对金属层进行涂胶、曝光、显影，以形成线型光栅结构； 所述在基板上形成四分之一波长片，具体包括:在基板上形成光聚合液晶材料，通过紫外偏振光照射光聚合液晶材料、以形成四分之一波长片。 优选地，所述曝光为采用激光的干涉曝光法进行曝光。 优选地， 所述在保护层上形成线型光栅结构层，具体包括:在保护层上形成金属层，在金属层上涂覆可压印液体材料，利用凹凸纳米压印模具对液体材料进行压印，并进行光固化、脱模、以形成具有光栅图形的固化材料；利用所述固化材料作为掩模板对金属层进行刻蚀、显影，以形成线型光栅结构； 所述在基板上形成四分之一波长片，具体包括:在基板上形成光聚合液晶材料，通过紫外偏振光照射光聚合液晶材料、以形成四分之一波长片。 优选地，所述在基板上形成金属层，具体包括:在基板上溅射或蒸镀金属层。 【附图说明】 图1a?图1d为本专利技术实施例提供的一种圆偏振片的制备过程示意图； 图2a?图2f为本专利技术实施例提供的另一种圆偏振片的制备过程示意图； 图3a?图3d为本专利技术实施例提供的另一种圆偏振片的制备过程示意图； 图4a?图4f为本专利技术实施例提供的另一种圆偏振片的制备过程示意图； 图5为本专利技术实施例提供的一种圆偏振片的制备方法流程图； 图6为图1a?图1d所示的制备过程的流程图； 图7为图2a?图2f所示的制备过程的流程图； 图8为图3a?图3d所示的制备过程的流程图； 图9为图4a?图4f所示的制备过程的流程图。 【具体实施方式】 下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。 请参考图1a?图1cU图2a?图2f、图3a?图3d、图4a?图4f，图1a?图1d为本专利技术实施例提供的一种圆偏振片的制备过程示意图；图2a?图2f为本专利技术实施例提供的另一种圆偏振片的制备过程示意图；图3a?图3d为本专利技术实施例提供的另一种圆偏振片的制备过程示意图；图4a?图4f为本专利技术实施例提供的另一种圆偏振片的制备过程示意图。 如图1d、图2f、图3d、图4f所示，本专利技术实施例提供的一种圆偏振片，包括:基板1、位于基板I 一侧的线型光栅结构层3和四分之一波长片5，其中，四分之一波长片5为通过光聚合液晶材料形成的四分之一波长片5。 光束通过线型光栅结构后可以变为线偏振光，线偏振光通过四分之一波长片后可以变为圆偏振光，因此，上述圆偏振片通过线型光栅结构层3和四分之一波长片5的组合可以获得圆偏振光；由于上述圆偏振片的线型光栅结构层3和四分之一波长片5是形成于基板I上的，因此，当上述圆偏振片的基板I为显示面板的上基板或/和下基板时，上述圆偏振片的线型光栅结构层3和四分之一波长片5可以直接形成于显示面板的上基板或/和下基板上，此时，上述圆偏振片为集成于显示面板上，因此可以简化显示面板的结构。 如图1d、图2f、图3d、图4f所示，一种具体的实施例中，线型光栅结构层3的光栅间距小于200nm。该线型光栅结构层3的光栅间距需要小于入射光波长的二分之一，因此，当入射光为可见光波段时，线型光栅结构层3的光栅间距需小于200nm。优选地，线型光栅结构层3的光栅间本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种圆偏振片，其特征在于，包括：基板、位于基板一侧的线型光栅结构层和四分之一波长片，其中，所述四分之一波长片为通过光聚合液晶材料形成的四分之一波长片。

【技术特征摘要】
1.一种圆偏振片，其特征在于，包括:基板、位于基板一侧的线型光栅结构层和四分之一波长片，其中，所述四分之一波长片为通过光聚合液晶材料形成的四分之一波长片。2.根据权利要求1所述的圆偏振片，其特征在于，所述线型光栅结构层的光栅间距小于 200nm。3.根据权利要求2所述的圆偏振片，其特征在于，所述线型光栅结构层的光栅间距为60 ?lOOnm。4.根据权利要求1所述的圆偏振片，其特征在于，所述四分之一波长片为使ο光和e光的光程差为四分之一波长的波片，或者，所述四分之一波长片为使ο光和e光的光程差为四分之三波长的波片。5.根据权利要求1所述的圆偏振片，其特征在于，所述四分之一波长片为使ο光和e光的光程差为四分之一波长的波片以及使ο光和e光的光程差为四分之三波长的波片间隔排列所形成的波片。6.根据权利要求1?5任一项所述的圆偏振片，其特征在于，所述线型光栅结构层位于所述基板和所述四分之一波长片之间。7.根据权利要求1?5任一项所述的圆偏振片，其特征在于，所述四分之一波长片位于所述基板和所述线型光栅结构层之间。8.—种显示面板，包括上基板和下基板，其特征在于，所述上基板为如权利要求1?7任一项所述的圆偏振片，和/或，所述下基板为如权利要求1?7任一项所述的圆偏振片。9.一种圆偏振片的制备方法，其特征在于，包括: 清洗基板； 在基板上形成线型光栅结构层和四分之一波长片，其中，所述四分之一波长片为通过光聚合液晶材料形成的四分之一波长片。10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述在基板上形成线型光栅结构层和四分之一波长片，具体包括: 在基板上形成线型光栅结构层； 在线型光栅结构层上涂覆0C材料找平； 在0C材料上形成四分之一波长片。11.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于， 所述在基板上形成线型光栅结构层，具体包括:在基板上形成金属层，对金属层进行涂胶、曝光、显影，以形成线型光栅结构； 所述在0C材料上形成四分之一波长片，具体包括:在0C材料上形成光聚合液晶材料，通过紫外偏振光照射光聚合液晶材料、以形成四分之一波长片。12.根据权利要求11所...

【专利技术属性】
技术研发人员：李文波，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11