【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种有机电致发光装置(或有机发光显示装置)。更具体地,本专利技术涉及一种能够使由具有在容易产生裂缝(crack)的焊盘区或者包括该焊盘区的非显示区中形成的线孔(line hole)的台阶部分产生裂缝最小化的柔性有机电致发光装置及其制造方法。
技术介绍
有机电致发光装置是平板显示器(FPD)中的一种,具有高亮度和低操作电压的特性。另外,因为有机电致发光装置是自发光装置,所以有机电致发光装置具有大的对比度,能够被用作超薄显示器,具有与几微秒(μs)一样快的响应时间以便于实现视频,在视角方面没有限制,在低温下稳定,并且以直流电流的从5V至15V范围内的低电压驱动。另外,有机电致发光装置的制造工艺仅需要沉积和封装设备,因此非常简单。将具有上述特性的有机电致发光装置划分为无源矩阵型有机电致发光装置和有源矩阵型有机电致发光装置。在无源矩阵型有机电致发光装置中,扫描线和信号线以矩阵形式交叉,并且为了驱动各像素,扫描线随时间被顺序地驱动。因此,为了获得所需的平均亮度,需要获得与通过将线的数量乘以平均亮度所获得的值相对应的瞬间亮度(即瞬间亮度与平均亮度和线的数量的乘积一样高)。然而,在有源矩阵型有机电致发光装置中,薄膜晶体管(TFT)被用作接通或断开像素区的开关元件,并且设置在各像素区中。TFT连接至电源线和各像素区中的有机发光二极管(OLED)。在这种情况下,连接至驱动TFT的第一电极通过像素区被接
【技术保护点】
一种柔性有机电致发光装置,所述柔性有机电致发光装置包括:基板,其具有包括多个像素区的显示区和在所述显示区的外部的包括焊盘区的非显示区;多个薄膜晶体管TFT,其形成在所述基板上的各个所述像素区中;层间绝缘层,其形成在包括所述TFT的所述显示区和所述非显示区中,并且具有形成在所述非显示区的所述焊盘区中的至少一个第一线孔图案;钝化层,其形成在所述层间绝缘层上;至少一个线孔图案,其形成在位于所述非显示区的所述层间绝缘层和所述钝化层中的至少一个中;平整层,其形成在所述钝化层上;第一电极,其形成在所述钝化层上并在各像素区中,并且连接至各TFT的漏极;像素限定层,其形成在包括所述第一电极和所述非显示区的所述基板的各像素区的周围;有机发光层,其分开地形成在所述第一电极上并在各像素区中;以及第二电极,其形成在所述显示区的整个表面上并在所述有机发光层的上方。
【技术特征摘要】
2013.08.30 KR 10-2013-0104342;2013.12.03 KR 10-2011.一种柔性有机电致发光装置,所述柔性有机电致发光装置包括:
基板,其具有包括多个像素区的显示区和在所述显示区的外部的包括焊盘区的非
显示区;
多个薄膜晶体管TFT,其形成在所述基板上的各个所述像素区中;
层间绝缘层,其形成在包括所述TFT的所述显示区和所述非显示区中,并且具
有形成在所述非显示区的所述焊盘区中的至少一个第一线孔图案;
钝化层,其形成在所述层间绝缘层上;
至少一个线孔图案,其形成在位于所述非显示区的所述层间绝缘层和所述钝化层
中的至少一个中;
平整层,其形成在所述钝化层上;
第一电极,其形成在所述钝化层上并在各像素区中,并且连接至各TFT的漏极;
像素限定层,其形成在包括所述第一电极和所述非显示区的所述基板的各像素区
的周围;
有机发光层,其分开地形成在所述第一电极上并在各像素区中;以及
第二电极,其形成在所述显示区的整个表面上并在所述有机发光层的上方。
2.如权利要求1所述的柔性有机电致发光装置,所述柔性有机电致发光装置还
包括:
下钝化层,其形成在包括所述第二电极的所述基板的所述整个表面上;
有机层,其形成在所述下钝化层上并在所述显示区中;
上钝化层,其形成在包括所述有机层的所述第一钝化层上;
阻挡膜,其设置为面对所述基板;以及
偏振板,其附接至所述阻挡膜。
3.如权利要求1所述的柔性有机电致发光装置,其中,所述基板是具有柔性特
性的柔性玻璃基板或用柔性材料制成。
4.如权利要求1所述的柔性有机电致发光装置,其中,所述线孔图案交叠。
5.如权利要求1所述的柔性有机电致发光装置,其中,所述线孔图案不交叠。
6.如权利要求1所述的柔性有机电致发光装置,其中,所述线孔图案形成在所
\t述非显示区的焊盘区或形成在包括所述焊盘区的所述非显示区。
7.如权利要求1所述的柔性有机电致发光装置,其中,所述至少一个线孔图案
还形成在所述栅绝缘层的所述焊盘区中。
8.如权利要求6所述的柔性有机电致发光装置,其中,形成在包括所述焊盘区
的非显示区的曲线型的所述线孔图案包括:第一孔图案,其具有围绕形成在所述焊盘
区的上部和下部的边缘的修剪线的曲线部分;以及第二孔图案,其从具有直线部分的
...
【专利技术属性】
技术研发人员:金首豪,金相培,全俊泰,李庸三,
申请(专利权)人:乐金显示有限公司,
类型:发明
国别省市:韩国;KR
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