原子核结构模型制造技术

本发明专利技术公开了一种原子核结构模型，它涉及原子核技术领域。它包括主结构和付结构，所述的主结构为本结构为一至三轴一至七层陀螺结构，依次为氦轴，二层为单链8对中质子，三、四、五、六层为满8对中质子对至趋18对中质子对，最外层为支撑性中质子，其原理：二层单链8对中质子首先决定因素是：其排布适应陀转需要也适应并磁需要，同时，也由其排列紧密为尺度。本发明专利技术有助于人们认识自然，有利于物理、化学、力学等研究，有助于材料的开发，有助于生化、生物、医学、医药学的发展及其他有关学科的发展，有助于教学活动，可以作为开发儿童智力的模型。

【技术实现步骤摘要】
原子核结构模型
本专利技术涉及的是原子核
，具体涉及一种原子核结构模型。
技术介绍
现有理论认为原子内部的相互作用是有强弱，质子和中子的区别是带电不带电，这些原子微观理论不容易被理解，不能解决原子的动力问题，不利于人们认识自然，不利于物理、化学、力学等研究，也不利于人们认识原子核结构，给教学也带来了一些困难。
技术实现思路
针对现有技术上存在的不足，本专利技术目的是在于提供一种原子核结构模型，有助于人们认识自然，有利于物理、化学、力学等研究，有助于材料的开发，生化、生物、医学、医药学的发展及其他有关学科的发展，有助于教学活动，可以作为开发儿童智力的模型。 为了实现上述目的，本专利技术是通过如下的技术方案来实现:原子核结构模型包括主结构和付结构，所述的主结构为本结构为一至三轴一至七层陀螺结构，依次为氦轴，二层为单链8对中质子，三、四、五、六层为满8对中质子对至趋18对中质子对，最外层为支撑性中质子，其原理:二层单链8对中质子首先决定因素是:其排布适应陀转需要也适应并磁需要，同时，也由其排列紧密为尺度(以下相同)。 所述的付结构:沿主结构链以本文档来自技高网...

【技术保护点】
原子核结构模型，其特征在于，包括主结构和付结构，所述的主结构为本结构为一至三轴一至七层陀螺结构，依次为氦轴，二层为单链8对中质子，三、四、五、六层为满8对中质子对至趋18对中质子对，最外层为支撑性中质子，其原理：二层单链8对中质子首先决定因素是：其排布适应陀转需要也适应并磁需要，同时，也由其排列紧密为尺度。

【技术特征摘要】
1.原子核结构模型，其特征在于，包括主结构和付结构，所述的主结构为本结构为一至三轴一至七层陀螺结构，依次为氦轴，二层为单链8对中质子，三、四、五、六层为满8对中质子对至趋18对中质子对，最外层为支撑性中质子，其原理:二层单链8对中质子首先决定因素是:其排布适应陀转需要也适应并磁需要，同时，也由其排列紧密为尺度。2.根据权利要求1所述的原子核结构模型，其特征在于，所述的付结构:沿主结构链以并磁作用附着相应位置的中质子，二、三层陀由于旋转势和球面积小而只能附着中子，四、五陀层会因其外层满8对至18对中质而改变陀层转势，改变后的陀势势阱范围扩大，双链两边呈易附着区，以并磁作用相应附着边缘以中子为界，四、五层以七:九:九:七为满邻层角交处和轴交处为势阱浅处有附着中子机会，但要根据整个陀势和环境。3.根据权利要求1所述的原子核结构模型，其特征在于，所述的主结构和付结构共同构成一个陀螺，整元素序数由主结构优先排序，付结构为辅的递增趋势，小序数陀螺以一、二层陀螺为主旋转，随着陀螺结构增大，三层以上陀螺以外层旋转势为主，与二层陀圈形成双转势有效化解陀螺的不同方位的压力差，使得陀螺能灵活旋转。4.根据权利要求3所述的原子核结构模型，其特征在于，所述的原子核体积:陀螺的体积一般以内核和核外电子的整体结构计算，核外电子离核距离受...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶恒俊，
申请(专利权)人：叶恒俊，
类型：发明
国别省市：江苏;32