本发明专利技术提供一种光取向曝光装置及光取向曝光方法。将取向曝光方式适用于多域法时，消除单位图像区域的分割区域中的边界附近的取向混乱。一种光取向曝光装置(100)，其将液晶显示元件的各单位图像区域分割为多个分割区域，并分别向不同方向对各分割区域的取向材料膜进行光取向，所述光取向曝光装置具备：第1掩模(M1)及第1曝光装置(11)，用于单独接近式曝光第1分割区域(Da1)；第2掩模(M2)及第2曝光装置(12)，用于单独接近式曝光与第1分割区域(Da1)相邻的第2分割区域(Da2)；及第3掩模(M3)及第3曝光装置(13)，用于曝光第1分割区域(Da1)与第2分割区域(Da2)的边界附近的第1分割区域(Da1)侧的区域，第3曝光装置(13)相对于被曝光面Bs具备与第1曝光装置(11)或第2曝光装置(12)相同的光照射角度，在第3掩模(M3)的掩模开口与被曝光面(Bs)之间具备聚光机构(20)，其使掩模透射光聚光于边界附近的第1分割区域(Da1)侧的区域。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于形成液晶显示元件的取向膜的。
技术介绍
作为形成液晶显示元件的取向膜的方式，已知有为了确定液晶的预倾角大小及取向方向而相对于成为取向膜的光敏性高分子膜倾斜照射紫外线的光取向曝光方式。 另一方面，将液晶显示元件的一个单位图像区域(像素或子像素，或者它们的集合区域)分割为2个或2个以上，并改变所分割的每个区域的液晶的取向方向，由此改善液晶面板的视角，该方法称为像素分割法或多域法。 将前述的光取向曝光方式适用于多域法时，形成相对于取向材料膜上的被曝光面以不同角度照射的多个紫外线曝光光，经由掩模的一个开口从一方向对将单位图像区域进行分割的一个区域照射紫外线，并经由掩模的另一开口从另一方向对将单位图像区域进行分割的另一区域照射紫外线。由此，能够对将单位图像区域进行分割的多个区域的每一个实施预倾角与取向方向不同的光取向处理。 此时，下述专利文献1中记载的以往技术中，将排列成直线状的多个单位图像区域的每一个，以沿着其排列方向的分割线分割为2个区域，并沿着单位图像区域的排列方向移动被曝光面来扫描曝光多个单位图像区域，由此相对于多个单位图像区域连续实施光取向处理。该以往技术中，使用具有与被分割的一个区域对应的开口图案及对应于与其相邻的另一区域的开口图案的2个掩模图案。并且，对各个开口图案照射沿着扫描方向的曝光光且相对于被曝光面不同角度的紫外线曝光光，将掩模图案投影曝光(接近式曝光)于被曝光面，由此对被分割的2个区域实施沿着扫描方向的互不相同的方向的光取向处理。 现有技术文献 专利文献 专利文献1:日本专利公开2012-63652号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题 如图1(a)所示，以往技术中使用的曝光装置具备:光源1，放射紫外线；聚光透镜2，将从光源1放射的紫外线曝光光设为平行光来照射于掩模Μ ;及复眼透镜(将多个单位透镜排列成矩阵状的透镜阵列)3，配设于光源1与聚光透镜2之间，使照射于掩模Μ的光的强度分布均匀化，向相对于被曝光面Bs的扫描方向S交叉的方向排列复眼透镜3。 这种曝光装置中，如图1(b)所示，通过复眼透镜的聚光作用，产生倾斜地通过掩模Μ的开口 Ma的光线L1，该光线L1若通过掩模Μ的开口 Ma，则通过平行光半角Θ扩散而照射于被曝光面Bs上。由此，被曝光面Bs上不仅是掩模Μ的开口图案的正下方的区域Me，超出该区域Me而照射有曝光光。 使用这种曝光装置来进行基于多域法的光取向曝光时，使用如图2(a)所示的光取向曝光装置。据此，配备有第I曝光装置Exl及第2曝光装置Ex2，其在被曝光面Bs上远离配置具有用于曝光单位图像区域的被分割的一个区域的开口图案的第I掩模Ml及具有用于曝光被分割的另一区域的开口图案的第2掩模M2，经由各个掩模M1、M2分别曝光被曝光基板B的被曝光面Bs。第I曝光装置Exl照射沿着扫描方向S的曝光光且相对于被曝光基板B的被曝光面Bs为照射角度Θ e (例如40° )的紫外线曝光光，第2曝光装置Ex2照射沿着扫描方向S的曝光光且相对于被曝光基板B的被曝光面Bs为照射角度-Θ e (例如-40° )的紫外线曝光光。 据此，以图2(b)所示的曝光强度依次进行一个单位图像区域Pa内的分割区域Dal、Da2的曝光，通过图1(b)所示的基于平行光半角的超出曝光，在分割区域Dal、Da2的边界附近的范围a中进行双重曝光。 此时，由于取向材料中的光异构化反应的可逆性，产生如下问题，即在范围a的分害I]区域Da2侧可得到适当的光取向，但是范围a的分割区域Dal侧的区域al中无法得到所希望的方向的光取向。区域al中的取向混乱是由于因基于前述的平行光半角的超出曝光引起的不充分的强度的双重曝光而产生的，其宽度为10?15μπι左右，但是在根据液晶显示面板的高精细化而要求更窄的单位图像区域Pa的宽度的情况下，成为为了充分确保有效图像区域而无法忽视的宽度。 本专利技术将解决这种问题作为课题的一例。即本专利技术的目的在于，将光取向曝光方式适用于多域法时，消除将单位图像区域进行分割的分割区域中的边界附近的取向混乱，相对于单位图像区域的窄幅化确保充分的有效图像区域等。 用于解决技术课题的手段 为了实现这种目的，本专利技术的至少具备以下的各特征。 一种光取向曝光装置，其将液晶显示元件的各单位图像区域分割为多个分割区域，并分别向不同方向对各分割区域的取向材料膜进行光取向，其中，所述光取向曝光装置具备:第I掩模及第I曝光装置，用于单独接近式曝光作为所述分割区域之一的第I分割区域；第2掩模及第2曝光装置，用于单独接近式曝光作为所述分割区域之一且与所述第I分割区域相邻的第2分割区域；及第3掩模及第3曝光装置，用于曝光所述第I分割区域与所述第2分割区域的边界附近的所述第I分割区域侧的区域，所述第3曝光装置相对于被曝光面具备与所述第I曝光装置相同的光照射角度，在所述第3掩模的掩模开口与被曝光面之间具备聚光机构，其使掩模透射光聚光于所述边界附近的所述第I分割区域侧的区域。 一种光取向曝光方法，其将液晶显示元件的各单位图像区域分割为多个分割区域，并分别向不同方向对各分割区域的取向材料膜进行光取向，其中，所述光取向曝光方法具有:第I曝光工序，经由第I掩模单独接近式曝光作为所述分割区域之一的第I分割区域；第2曝光工序，经由第2掩模单独接近式曝光作为所述分割区域之一且与所述第I分割区域相邻的第2分割区域；及第3曝光工序，经由第3掩模曝光所述第I分割区域与所述第2分割区域的边界附近的所述第I分割区域侧的区域，所述第3曝光工序中，相对于被曝光面以与所述第I曝光工序相同的光照射角度进行曝光，在所述第3掩模的掩模开口与被曝光面之间配置聚光机构，从而使掩模透射光聚光于所述边界附近的所述第I分割区域侧的区域。 专利技术效果 根据这种结构，对于基于第I曝光装置的曝光(第I曝光工序中的曝光)与基于第2曝光装置的曝光(第2曝光工序中的曝光)中产生的第I分割区域与第2分割区域的边界附近的取向混乱，通过将基于第3曝光装置的曝光(基于第3曝光装置的曝光)聚光于产生有取向混乱的区域，能够对产生有取向混乱的区域进行对光取向充分的强度的曝光。由此，能够对产生有取向混乱的区域实施与基于第I曝光装置的曝光(第I曝光工序中的曝光)相同方向的光取向。 如此，根据本专利技术的，将光取向曝光方式适用于多域法时，能够消除将单位图像区域进行分割的分割区域中的边界附近的取向混乱，并能够相对于单位图像区域的窄幅化确保充分的有效图像区域。 【附图说明】 图1是表示以往技术中使用的曝光装置的说明图。 图2是表示以往的光取向曝光装置的说明图。 图3是表示本专利技术的一实施方式所涉及的的说明图。 图4是表示本专利技术的实施方式所涉及的光取向曝光装置中使用的掩模的例子的说明图，该图(a)表示第I掩模的例子，该图(b)表示第2掩模的例子，该图(C)表示第3掩模的例子及聚光机构的配置例。 图5是表示本专利技术的实施方式所涉及的光取向曝光方法的被曝光面上的光取向状态的说明图。 【具体实施方式】 以下，参考附图对本专利技术的实施方式进行说明。图3是表示本专利技术的一实施方式所涉及的的说明图。图3(a)表示光取向曝光装置的结构例，本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种光取向曝光装置，其将液晶显示元件的各单位图像区域分割为多个分割区域，并分别向不同方向对各分割区域的取向材料膜进行光取向，其特征在于，所述光取向曝光装置具备：第1掩模及第1曝光装置，用于单独接近式曝光作为所述分割区域之一的第1分割区域；第2掩模及第2曝光装置，用于单独接近式曝光作为所述分割区域之一且与所述第1分割区域相邻的第2分割区域；及第3掩模及第3曝光装置，用于曝光所述第1分割区域与所述第2分割区域的边界附近的所述第1分割区域侧的区域，所述第3曝光装置相对于被曝光面具备与所述第1曝光装置相同的光照射角度，在所述第3掩模的掩模开口与被曝光面之间具备聚光机构，其使掩模透射光聚光于所述边界附近的所述第1分割区域侧的区域。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.07.05 JP 2012-1516301.一种光取向曝光装置，其将液晶显示元件的各单位图像区域分割为多个分割区域，并分别向不同方向对各分割区域的取向材料膜进行光取向，其特征在于， 所述光取向曝光装置具备:第I掩模及第I曝光装置，用于单独接近式曝光作为所述分割区域之一的第I分割区域；第2掩模及第2曝光装置，用于单独接近式曝光作为所述分割区域之一且与所述第I分割区域相邻的第2分割区域；及第3掩模及第3曝光装置，用于曝光所述第I分割区域与所述第2分割区域的边界附近的所述第I分割区域侧的区域， 所述第3曝光装置相对于被曝光面具备与所述第I曝光装置相同的光照射角度， 在所述第3掩模的掩模开口与被曝光面之间具备聚光机构，其使掩模透射光聚光于所述边界附近的所述第I分割区域侧的区域。2.根据权利要求1所述的光取向曝光装置，其特征在于， 所述光取向曝光装置具备基板扫描机构，其沿着多个所述单位图像区域的排列方向且沿着所述分割区域的分割线扫描具有所述被曝光面的基板， 沿着所述基板扫描机构的扫描方向，依次隔开间隔配置所述第I掩模及所述第I曝光装置、所述第2掩模及所述第2曝光装置、所...
【专利技术属性】
技术研发人员：梶山康一，桥本和重，新井敏成，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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