双向触发二极管芯片制造技术

技术编号:10896863 阅读:116 留言:0更新日期:2015-01-09 20:00
本实用新型专利技术提供一种双向触发二极管芯片,包括:形成于一衬底正面上的外延层;形成于所述衬底与外延层之间的埋层;形成于所述外延层中的基区、二极管掺杂区、电阻区;形成于所述基区中的发射区;以及贯穿所述外延层并延伸至衬底中的隔离槽。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种双向触发二极管芯片,其特征在于,包括: 形成于一衬底正面上的外延层; 形成于所述衬底与外延层之间的埋层; 形成于所述外延层中的基区、二极管掺杂区、电阻区; 形成于所述基区中的发射区;以及 贯穿所述外延层并延伸至衬底中的隔离槽。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王英杰徐敏杰刘宪成崔建
申请(专利权)人:杭州士兰集成电路有限公司
类型:新型
国别省市:浙江;33

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