本实用新型专利技术公开了一种陶瓷底部去釉机，包括：传送带机构、陶瓷架及清洗箱，所述传送带机构包括三个呈三角形分布的滚筒及绕在这三个滚筒上的皮带，其中两个滚筒位于上侧，并在同一直线上，另外一个滚筒位于下侧，所述皮带的外表面铺设有海绵层；所述陶瓷架安装于所述传送带机构的上方，所述陶瓷架设置有上架板和下架板，所述下架板开设有用于放置陶瓷的通孔，所述上架板挂设有用于卡在陶瓷的瓶口的定位塞；所述清洗箱安装于位于下侧的所述滚筒的下方，所述清洗箱安装有毛刷滚筒，所述毛刷滚筒与所述皮带上的海绵层接触。本实用新型专利技术能够自动对陶瓷底部进行去釉，去釉效果好，工作效率高。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了一种陶瓷底部去釉机，包括：传送带机构、陶瓷架及清洗箱，所述传送带机构包括三个呈三角形分布的滚筒及绕在这三个滚筒上的皮带，其中两个滚筒位于上侧，并在同一直线上，另外一个滚筒位于下侧，所述皮带的外表面铺设有海绵层；所述陶瓷架安装于所述传送带机构的上方，所述陶瓷架设置有上架板和下架板，所述下架板开设有用于放置陶瓷的通孔，所述上架板挂设有用于卡在陶瓷的瓶口的定位塞；所述清洗箱安装于位于下侧的所述滚筒的下方，所述清洗箱安装有毛刷滚筒，所述毛刷滚筒与所述皮带上的海绵层接触。本技术能够自动对陶瓷底部进行去釉，去釉效果好，工作效率高。【专利说明】 一种陶瓷底部去釉机
本技术涉及一种陶瓷上釉处理设备，尤其涉及一种陶瓷底部去釉机。
技术介绍
在陶瓷制作领域，在对陶瓷进行上釉并干燥后，便可进一步对陶瓷进行烧制，由于上釉过程中需要把陶瓷整体浸泡在釉液中，陶瓷底部同样会包裹有釉层，对于不需要底部上釉的陶瓷，陶瓷底部的釉层有可能在烧制过程中粘结在支撑板上，甚至会导制陶瓷整体粘在支撑板上，造成陶瓷的损坏，影响产品的质量。因此必须将坯体底部的瓷釉擦去。现有的去釉方法是人工擦除，这种方法工人劳动强度大、效率低，且有可能造成釉刺、粘釉等缺陷，甚至会损坏陶瓷。
技术实现思路
本技术的目的是为了克服现有技术的不足，提供了一种陶瓷底部去釉机，其能够自动对陶瓷底部进行去釉，去釉效果好，工作效率高。 本技术是通过以下技术方案实现:一种陶瓷底部去釉机，其包括:传送带机构、陶瓷架及清洗箱，所述传送带机构包括三个呈三角形分布的滚筒及绕在这三个滚筒上的皮带，其中两个滚筒位于上侧，并在同一直线上，另外一个滚筒位于下侧，所述皮带的外表面铺设有海绵层；所述陶瓷架安装于所述传送带机构的上方，所述陶瓷架设置有上架板和下架板，所述下架板开设有用于放置陶瓷的通孔，所述上架板挂设有用于卡在陶瓷的瓶口的定位塞；所述清洗箱安装于位于下侧的所述滚筒的下方，所述清洗箱安装有毛刷滚筒，所述毛刷滚筒与所述皮带上的海绵层接触。 其他优选的结构还有: 所述下架板上开设有多个通孔，所述上架板挂设有多个与所述通孔对应的定位塞。 所述清洗箱的水面能浸泡到经过位于下侧的所述滚筒的皮带上的海绵层。 所述毛刷滚筒的底部浸泡在所述清洗箱的水中。 本技术具有以下优点和特点:本技术由通孔和定位塞对陶瓷进行定位，然后由传送带自动对陶瓷底部进行擦除去釉，去釉效果好，工作效率高；清洗箱及毛刷滚筒能及时把传送带上的海绵层清理干净。 【专利附图】【附图说明】 图1是本技术的一种陶瓷底部去釉机结构示意图。 【具体实施方式】 以下参照附图并结合【具体实施方式】来进一步描述，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施，保护范围并不受制于本技术方案的实施方式。 如图1所示，本技术优选的一个实施方式为:一种陶瓷底部去釉机，包括:传送带机构、陶瓷架1及清洗箱10，传送带机构包括三个呈三角形分布的滚筒7及绕在这三个滚筒7上的皮带8，其中两个滚筒7位于上侧，并在同一直线上，另外一个滚筒7位于下侧，其中一个滚筒7与电机连接作为主动滚筒，皮带8的外表面铺设有海绵层9 ;陶瓷架1安装于传送带机构的上方，陶瓷架1设置有上架板5和下架板6，下架板6开设有用于放置陶瓷3的通孔，下架板6位于传送带机构的上方，上架板5位于下架板6的上方，上架板5挂设有用于卡在陶瓷3的瓶口的定位塞4 ;清洗箱10安装于位于下侧的滚筒7的下方，清洗箱10的左侧安装有毛刷滚筒11，毛刷滚筒11上安装有软刷毛，毛刷滚筒11与皮带8上的海绵层9接触，毛刷滚筒11能够转动。 其他优选的结构还有: 下架板6上开设有多个通孔，上架板5挂设有多个与通孔对应的定位塞4。清洗箱10的水面能浸泡到经过位于下侧的滚筒7的皮带8上的海绵层9。毛刷滚筒11的底部浸泡在清洗箱10的水中。 工作原理:把陶瓷3安放在陶瓷架1上，陶瓷3位于下架板6的各个通孔内，然后把定位塞4卡在陶瓷3的瓶口，防止陶瓷3上下左右移动，不需要夹持陶瓷3的侧面，避免对陶瓷3侧面的釉层产生破坏。陶瓷3的底部由皮带8及海绵层9支撑，通过电机驱动传送带机构运动，皮带8顺时针运动，海绵层9对陶瓷3底部进行擦除去釉，当海绵层9经过清洗箱10时，由清洗箱10内的水对其进行清洗，并保持海绵层潮湿柔软，当海绵层9经过毛刷滚筒11时，毛刷滚筒11可进一步刷除海绵层9上的釉溃，且挤压海绵层9上吸收的水分，避免海绵层9有过多的水分而弹性不足。本技术自动对陶瓷3底部进行擦除去釉，去釉效果好，工作效率高；清洗箱10及毛刷滚筒11能及时把传送带8上的海绵层9清理干净。 通过以上实施例可以详细的解释本技术，公开本技术的目的旨在保护本技术范围内的一切技术改进。【权利要求】1.一种陶瓷底部去釉机，其特征是，包括:传送带机构、陶瓷架及清洗箱，所述传送带机构包括三个呈三角形分布的滚筒及绕在这三个滚筒上的皮带，其中两个滚筒位于上侧，并在同一直线上，另外一个滚筒位于下侧，所述皮带的外表面铺设有海绵层；所述陶瓷架安装于所述传送带机构的上方，所述陶瓷架设置有上架板和下架板，所述下架板开设有用于放置陶瓷的通孔，所述上架板挂设有用于卡在陶瓷的瓶口的定位塞；所述清洗箱安装于位于下侧的所述滚筒的下方，所述清洗箱安装有毛刷滚筒，所述毛刷滚筒与所述皮带上的海绵层接触。2.根据权利要求1所述的陶瓷底部去釉机，其特征是，所述下架板上开设有多个通孔，所述上架板挂设有多个与所述通孔对应的定位塞。3.根据权利要求1所述的陶瓷底部去釉机，其特征是，所述清洗箱的水面能浸泡到经过位于下侧的所述滚筒的皮带上的海绵层。4.根据权利要求1所述的陶瓷底部去釉机，其特征是，所述毛刷滚筒的底部浸泡在所述清洗箱的水中。【文档编号】B28B17/00GK204054325SQ201420432365【公开日】2014年12月31日 申请日期:2014年7月31日 优先权日:2014年7月31日 【专利技术者】陈向阳 申请人:广西北流仲礼瓷业有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种陶瓷底部去釉机，其特征是，包括：传送带机构、陶瓷架及清洗箱，所述传送带机构包括三个呈三角形分布的滚筒及绕在这三个滚筒上的皮带，其中两个滚筒位于上侧，并在同一直线上，另外一个滚筒位于下侧，所述皮带的外表面铺设有海绵层；所述陶瓷架安装于所述传送带机构的上方，所述陶瓷架设置有上架板和下架板，所述下架板开设有用于放置陶瓷的通孔，所述上架板挂设有用于卡在陶瓷的瓶口的定位塞；所述清洗箱安装于位于下侧的所述滚筒的下方，所述清洗箱安装有毛刷滚筒，所述毛刷滚筒与所述皮带上的海绵层接触。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈向阳，
申请(专利权)人：广西北流仲礼瓷业有限公司，
类型：新型
国别省市：广西;45
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