齿板均流式冷等离子体尾气处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种齿板均流式冷等离子体尾气处理装置，它涉及废气处理装置。它包括外壳、进出口变径、高频高压电源、涂覆介质层、电极、检修口；双齿板电极分布于两侧，中间为带介质层的板式电极，等离子体产生于“窗体”间隙，污染气体经过等离子体区域后与等离子体发生作用，达到降解污染气体的目的；所述的尾气处理装置包括壳体，壳体有进出口变径。本实用新型专利技术能够使气流均匀进入反应器内，在提高气体处理流量的同时维持高密度大面积的等离子体，以提高处理效率，降低能耗。

【技术实现步骤摘要】
齿板均流式冷等离子体尾气处理装置
本技术涉及废气处理装置，具体涉及一种齿板均流式冷等离子体尾气处理装 置。
技术介绍
随着经济的发展，随之而来的是工业生产等领域产生的有毒有害气态污染（如 H2S、S02、N0x、V0Cs等）问题也日益严重。 传统治理污染气体的方法有燃烧法、吸附法、生物法、膜分离法、光催化法等。低温 等离子技术是近年来气态污染物治理领的热点技术。相比于传统的空气净化技术，等离子 体技术具有处理流程短、效率高、能耗低、二次污染少、适用范围广等特点，被认为是一种极 具前途的环境污染深度净化技术。等离子体是电子、正负离子、激发态原子、原子以及自由 基的混合状态。等离子体的状态主要取决于它的化学成分、粒子密度和粒子温度等物理化 学参量，其中粒子的密度和温度是等离子体的两个最基本的参量。在等离子体环境中，各种 化学反应都是在高激发态下进行的，比通常的化学反应所产生的活性粒子种类更多、活性 更强、更易于和废气中的污染物发生反应，在较短时间内使得污染物分子分解，从而达到降 解污染物的目的。等离子体放电形式可以分为电晕放电、辉光放电、介质阻挡放电和电弧放 电。电弧的高温、以及电极损耗难以在污染气体中获得应用。实现大气压下的辉光形式的 均勻稳定放电十分困难。低气压条件下可以产生稳定的辉光放电。辉光放电又可以分为直 流辉光放电、射频辉光放电和微波放电，由于需要真空系统，并不适合于大气压下的气体净 化处理。介质阻挡放电具有电流密度大、电子密度高和可在常压下产生稳定等离子体的特 点，使其在工业污染气体的处理中具有良好的应用前景。 介质阻挡放电可以在电极间加入单介质层或双介质层来形成。平行板式或同轴式 介质阻挡放电装置在气体处理中已经获得应用。在实用中有这样的问题，为了获得较高的 气体处理流量，必须加大电极间距。特别对于同轴式的放电器，需要加大外电极的外径，由 于外电极曲率变大及电极间距增大，使得击穿电压增大，即使将双介质改为单介质，也可能 使得放电处于不稳定状态。如何使得处理流量加大，击穿电压保持在较低的范围内，并使放 电处于稳定状态，是一个必须解决的问题。
技术实现思路
有鉴于现有技术的上述缺陷，本技术提供一种齿板均流式冷等离子体尾气处 理装置，能够使气流均匀进入反应器内，在提高气体处理流量的同时维持高密度大面积的 等离子体，以提高处理效率，降低能耗。 为实现上述目的，本技术提供了一种齿板均流式冷等离子体尾气处理装置， 包括外壳、进出口变径、高频高压电源、涂覆介质层、电极、检修口；双齿板电极分布于两侧， 中间为带介质层的板式电极，等离子体产生于窗体间隙，污染气体经过等离子体区域后 与等离子体发生作用，达到降解污染气体的目的。 所述的尾气处理装置包括壳体，壳体有进出口变径。 所述的尾气处理装置包括壳体，壳体上有电源柜、进出检修口、等离子体产生区。 所述等离子体发生器包括介质层、气流均布式齿电极、板电极、绝缘外框板。 所述气流均布式齿电极为不锈钢材料，其特征为起到气流均布和电极的双重作 用，使气体均匀进入等离子体发生器。 所述介质层为特殊绝缘材料，通过特殊工艺浸渍处理后，电极外表相当于敷上了 一层绝缘层。 齿板式电极开口可以根据需要做大小调整，以形成大面积的等离子体发生器；若 处理高浓度的污染气体时，等离子体发生器可以分层放置。 本技术的有益效果：在高压电源的激励下介质层间空隙产生富含高能电子、 离子、中性粒子或活性粒子团的等离子体，当气体污染物经过等离子体区时，与污染气体发 生激发、离解、电离等一系列反应，从而达到降解污染气体的目的。 以下将结合附图对本技术的构思、具体结构及产生的技术效果作进一步说 明，以充分地了解本技术的目的、特征和效果。 【附图说明】 图1为本技术的结构示意图； 图2为本技术的等离子体处理装置主视图； 图3是等离子体处理装置剖视图。 【具体实施方式】 参照图1-3,本【具体实施方式】采用以下技术方案：齿板均流式冷等离子体尾气处 理装置，包括进口法兰1、进口变径2、外壳体3、等离子发生区4、检修口 5、出口变径6、出口 法兰7、电源柜8,外壳体3两侧分别设置有进口变径2和出口变径6,进口变径2连接有进 口法兰1，出口变径6顶部设置有出口法兰7,外壳体3中部设置有等离子发生区4,等离子 发生区4顶部设置有检修口 5,外壳体3前侧设置有电源柜8 ;所述的等离子发生区4内设 置有等离子体发生器。 所述等离子体发生器包括板电极101、电极引出固定块102、绝缘外框上下板103、 电极固定块104、绝缘外框左右板105、齿板电极106、第一内六角螺钉107、第一齿板电极引 出线108、板电极插槽109、第二齿板电极引出线110、模块固定耳111、第二内六角螺钉112， 板电极101两侧设置有齿板电极106,板电极101 -端与板电极插槽109插接，板电极101另 一端穿过绝缘外框上下板103与电极引出固定块102固定，电极引出固定块102通过第二 内六角螺钉112与板电极101固定，齿板电极106两端与电极固定块104固定，第一齿板电 极引出线108和第二齿板电极引出线110通过第一内六角螺钉107固定在电极固定块104 上，第一齿板电极引出线108和第二齿板电极引出线110与高压电源相连，齿板电极106外 侧设置有绝缘外框左右板105,绝缘外框左右板105两侧连接有绝缘外框上下板103,电极 引出固定块102两侧对称设置有模块固定耳111，模块固定耳111固定在绝缘外框上下板 103外侧。 所述等离子体产生区4由等离子体发生器放电产生，等离子体发生器外形为长方 形，约为27 X 34cm。所述齿板电极106的厚度0· 5-lmm，齿间距为6mm，齿板电极106外层绝 缘复合涂层厚度约80 μ m。所述板电极101厚度为1. 5mm，所述齿板电极106和板电极101 装配后，相互平行并保持间距在4mm。 实施例1 :采用本专利技术图1所示装置，出口处设置引风机，在引风机的作用下，甲硫 醇（CH4S)进入面放电等离子体异味处理装置。经过处理的气体经过出风口排出。在引风 机出口风管1. 5m左右采样分析，为保证采样分析的准确性，每次采样位置固定且在反应装 置运行30min后开始采样。 等离子体异味处理装置：采用内置处理模块，可根据处理风量及浓度大小任意组 合。测试用设备采取4X4组合模式单层放置，即设备内共有16个处理模块，单个处理模块 尺寸为27cmX34cm。等离子体发生器窗口尺寸20mmX210mmX8个，双面等离子发生区。处 理风量5000m3/h，处理风速约2. 3m/s。 甲硫醇（CH4S)的采样测定方法按照国标GB/T14678-1993气相色谱法； 二硫化碳（CS2)的采样测定方法按照国标GB/T14680-93二乙胺分光光度法； 检测结果（按恶臭污染物排放标准GB14554-93)。 实施效果如下表所示： 本文档来自技高网...

【技术保护点】
齿板均流式冷等离子体尾气处理装置，其特征在于，包括进口法兰(1)、进口变径(2)、外壳体(3)、等离子发生区(4)、检修口(5)、出口变径(6)、出口法兰(7)、电源柜(8)，外壳体(3)两侧分别设置有进口变径(2)和出口变径(6)，进口变径(2)连接有进口法兰(1)，出口变径(6)顶部设置有出口法兰(7)，外壳体(3)中部设置有等离子发生区(4)，等离子发生区(4)顶部设置有检修口(5)，外壳体(3)前侧设置有电源柜(8)；所述的等离子发生区(4)内设置有等离子体发生器。

【技术特征摘要】
1. 齿板均流式冷等离子体尾气处理装置，其特征在于，包括进口法兰（1)、进口变径 (2)、外壳体（3)、等离子发生区（4)、检修口（5)、出口变径（6)、出口法兰（7)、电源柜（8)， 外壳体（3)两侧分别设置有进口变径（2)和出口变径￠)，进口变径（2)连接有进口法兰 (1)，出口变径（6)顶部设置有出口法兰（7)，外壳体（3)中部设置有等离子发生区（4)，等 离子发生区（4)顶部设置有检修口（5)，外壳体（3)前侧设置有电源柜（8);所述的等离子 发生区（4)内设置有等离子体发生器。2. 根据权利要求2所述的齿板均流式冷等离子体尾气处理装置，其特征在于，所述等 离子体发生器包括板电极（101)、电极引出固定块（102)、绝缘外框上下板（103)、电极固定 块（104)、绝缘外框左右板（105)、齿板电极（106)、第一内六角螺钉（107)、第一齿板电极 引出线（108)、板电极插槽（109)、第二齿板电极引出线（110)、模块固定耳（111)、第二内 六角螺钉（112)，板电极（101)两侧设置有齿板电极（106)，板电极（101) -端与板电极插 槽（109)插接，板电极（101)另一端穿过绝缘外框上下板（103)与电极引出固定块（102) 固定，电极引出固...

【专利技术属性】
技术研发人员：钱黎明，
申请(专利权)人：钱黎明，
类型：新型
国别省市：安徽;34