成膜装置以及成膜方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及成膜装置以及成膜方法。实施方式的成膜装置为，从移动的喷嘴向旋转的基板的表面供给处理液，在上述基板的表面上螺旋状地涂布上述处理液，通过上述基板的旋转由所涂布的上述处理液形成膜。该成膜装置具备保持上述基板的保持部、使上述保持部旋转的驱动部、向上述保持部所保持的上述基板的表面供给上述处理液的处理液供给部以及至少控制上述驱动部的控制部。而且，上述控制部使上述保持部以比涂布上述处理液时的第一转速慢的第二转速旋转，而由所涂布的上述处理液形成膜。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及。实施方式的成膜装置为，从移动的喷嘴向旋转的基板的表面供给处理液，在上述基板的表面上螺旋状地涂布上述处理液，通过上述基板的旋转由所涂布的上述处理液形成膜。该成膜装置具备保持上述基板的保持部、使上述保持部旋转的驱动部、向上述保持部所保持的上述基板的表面供给上述处理液的处理液供给部以及至少控制上述驱动部的控制部。而且，上述控制部使上述保持部以比涂布上述处理液时的第一转速慢的第二转速旋转，而由所涂布的上述处理液形成膜。【专利说明】关联文献的引用:本申请以2013年5月31日申请的在先日本专利申请2013-115277号的优先权利益为基础且要求该优先权利益，并通过引用将上述专利申请的内容全部包含于本申请。
后述的实施方式总体上涉及。
技术介绍
以往，存在如下的技术:在使喷嘴从基板的中心侧朝向外周端侧移动的同时，从该喷嘴向旋转的基板的表面供给处理液，在基板的表面上螺旋状地涂布处理液，然后，使基板以比涂布处理液时的转速快的转速旋转，而由所涂布的处理液形成膜。 如果采用这种技术，则能够实现膜厚的均匀化。 然而，在处理液的涂布结束后，当使基板以比涂布处理液时的转速快的转速旋转时，处于基板表面的处理液的一部分飞散，处理液的利用效率变差。 因此，希望开发出能够实现处理液的利用效率提高以及膜厚的均匀化的技术。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供能够实现处理液的利用效率提高以及膜厚的均匀化的。 实施方式的成膜装置为，从移动的喷嘴向旋转的基板的表面供给处理液，在上述基板的表面上螺旋状地涂布上述处理液，通过上述基板的旋转而由所涂布的上述处理液形成膜。 该成膜装置具备:保持上述基板的保持部；使上述保持部旋转的驱动部；向上述保持部所保持的上述基板的表面供给上述处理液的处理液供给部；以及至少控制上述驱动部的控制部。 而且，上述控制部使上述保持部以比涂布上述处理液时的第一转速慢的第二转速旋转，由所涂布的上述处理液形成膜。 本专利技术能够提供能够实现处理液的利用效率提高以及膜厚的均匀化的。 【专利附图】【附图说明】 图1是用于例示本实施方式的成膜装置I的模式截面图。 图2是用于例示本实施方式的成膜装置I的模式平面图。 图3是用于例示处理液110的供给和基板100的表面上的处理液110的涂布方式的模式图。 图4是用于例示比较例的膜120的形成的模式图。 图5是用于例示比较例的膜120的形成的模式图。 图6是用于例示成膜装置I的作用以及成膜方法的流程图。 【具体实施方式】 以下，参照附图来例示实施方式。另外，在各附图中，对于相同的构成要素赋予相同的符号，并适当省略详细说明。 图1是用于例示本实施方式的成膜装置I的模式截面图。 图2是用于例示本实施方式的成膜装置I的模式平面图。 此外，图2是图1的A-A线向视图。 图3是用于例示处理液110的供给和基板100的表面上的处理液110的涂布方式的模式图。 如图1和图2所示，在成膜装置I中设置有保持部2、驱动部3、罩4、处理液供给部 5、第一流动性控制部6、第二流动性控制部7以及控制部8。 保持部2用于载放基板100并且保持所载放的基板100。 保持部2设置在罩4的内部。保持部2具有载放部2a和轴部2b。 载放部2a呈圆板状,一个面成为载放基板100的载放面2aI。另外,载放部2a对载放面2al上所载放的基板100进行保持。例如，能够通过使用了未图示的真空泵等的吸附来进行基板100的保持。 轴部2b的一个端部设置在载放部2a的与载放面2al相反侧的面上。另外，轴部2b的另一个端部与驱动部3连接。 驱动部3使保持部2旋转。 驱动部3设置在罩4的内部。驱动部3例如能够具备能够使转速变化的伺服马达等控制马达。 罩4被设置为至少包围保持部2的周围。 罩4抑制被涂布到基板100的表面上的处理液110向成膜装置I的外部飞散。 罩4在中央部具有设置保持部2的空间4a。在空间4a的外侧，设置有朝向罩4的底部倾斜的空间4b。空间4a以及空间4b的上方开口。另外，罩4的上面4e处于比载放部2a所载放的基板100的表面(上面)高的位置。 另外，在罩4的底部设置有排出口 4c。在排出口 4c连接有未图示的回收部。从基板100排出的处理液110经由空间4b被导向到罩4的底部，并经由排出口 4c由未图示的回收部回收。 处理液供给部5向由保持部2保持并旋转的基板100的表面供给处理液110。 在该情况下，如图3所示，在使喷嘴5a从基板100的中心侧朝向外周端侧移动的同时，从喷嘴5a向旋转的基板100的表面供给处理液110。 于是，在基板100的表面上螺旋状地涂布处理液110。 处理液供给部5具有喷嘴5a、收容部5b、供给部5c以及移动部5d。 在喷嘴5a的一端设置有吐出口 5al，在另一端设置有供给口 5a2。 收容部5b收容处理液110。 处理液110例如能够为光致抗蚀剂(photo resist)液等。 供给部5c经由喷嘴5a将收容部5b所收容的处理液110向基板100的表面供给。供给部5c例如能够具有泵、流量调节阀等。 移动部5d具有保持部5dl、轴部5d2、支持部5d3以及驱动部5d4。 保持部5dl设置在轴部5d2上，并沿着轴部5d2移动。另外，保持部5dl使吐出口5al侧朝向载放部2a地保持喷嘴5a。 轴部5d2被设置为横跨载放面2al的上方。 支持部5d3分别设置在轴部5d2的两端。支持部5d3能够设置在罩4的上面4e 坐μ~y|-~ 1.0 驱动部5d4与轴部5d2的一个端部连接。 移动部5d使保持部5dl所保持的喷嘴5a的位置变化。 例如，能够使保持部5dl为螺母，使轴部5d2为滚珠丝杠，使驱动部5d4为伺服马达等控制马达。 第一流动性控制部6进行控制，以使由所涂布的处理液110形成的膜120的处于基板100的外周端附近的区域的流动性提高。 第二流动性控制部7进行控制，以使由所涂布的处理液110形成的膜120的流动性降低。 此外，与第一流动性控制部6以及第二流动性控制部7相关的详细内容将后述。 控制部8对成膜装置I中所设置的各要素的动作进行控制。 控制部8例如进行如下的控制:基于载放部2a的基板100的保持控制；基于驱动部3的保持部2的转速控制(基板100的转速控制)；基于供给部5c的处理液110的供给控制；基于驱动部5d4的喷嘴5a的位置控制；基于供给部6c的溶剂的供给控制；基于干燥单元7a的溶剂的蒸发控制；以及基于驱动部5d4的干燥单元7a的位置控制等。 在此，对于比较例的由处理液110形成的膜120的状态进行例示。 图4和图5是用于例示比较例的膜120的状态的模式图。 在基板100的表面上形成膜120时，首先，如在图3中例示的那样，在使喷嘴5a从基板100的中心侧朝向外周端侧移动的同时，从喷嘴5a向旋转的基板100的表面供给处理液 110。 于是，在基板100的表面上螺旋状地涂布处理液110。 接下来，使基板100以比涂布处理液110时的转速快的转速旋转。 如此，基板100的表面上螺旋状地涂布的处理液110朝向基板100的外侧扩本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种成膜装置，从移动的喷嘴向旋转的基板的表面供给处理液，在上述基板的表面上螺旋状地涂布上述处理液，通过上述基板的旋转由所涂布的上述处理液形成膜，其中，具备：保持部，保持上述基板；驱动部，使上述保持部旋转；处理液供给部，向上述保持部所保持的上述基板的表面供给上述处理液；以及控制部，至少控制上述驱动部，上述控制部使上述保持部以比涂布上述处理液时的第一转速慢的第二转速旋转，而由所涂布的上述处理液形成膜。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤强，贵志寿之，
申请(专利权)人：株式会社东芝，
类型：发明
国别省市：日本;JP