用于测量光学组件的几何结构的方法和工具技术

本发明专利技术的主题是一种用于测量光学组件的几何或光学结构的方法和系统。具体地，本发明专利技术涉及一种用于测量由一个第一侧面(10)和一个第二侧面(20)所界定的组件的几何结构的方法，所述方法包括以下步骤：(S1)测量一个第一信号(MS1)，该第一信号是由至少所述第一侧面(10)对一个第一探测信号(PS1)进行的一次第一转化所产生的；(S2)测量一个第二信号(MS2)，该第二信号是由至少所述第二侧面(20)对一个第二探测信号(PS2)进行的一次第二转化所产生的；(S3)确定一次第三转换，该第三转换使得可以将与对该第一信号(MS1)的测量相关联的一个第一坐标系(R1)转换成与对该第二信号(MS2)的测量相关联的一个第二坐标系(R2)；(S10)使用该第一信号(MS1)、所述第一模拟和一个对该估计(ES1)与该第一信号(MS1)之间的差别进行量化的第一代价标准(V1)对所述第一侧面(10)进行估计；以及(S20)使用该第二信号(MS2)、所述第二模拟、所述第三转换和一个对该估计(ES2)和该第二信号(MS2)之间的差异进行量化的第二代价标准(V2)对所述第二侧面(20)进行估计。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术的主题是一种用于测量光学组件的几何或光学结构的方法和系统。具体地，本专利技术涉及一种用于测量由一个第一侧面(10)和一个第二侧面(20)所界定的组件的几何结构的方法，所述方法包括以下步骤：(S1)测量一个第一信号(MS1)，该第一信号是由至少所述第一侧面(10)对一个第一探测信号(PS1)进行的一次第一转化所产生的；(S2)测量一个第二信号(MS2)，该第二信号是由至少所述第二侧面(20)对一个第二探测信号(PS2)进行的一次第二转化所产生的；(S3)确定一次第三转换，该第三转换使得可以将与对该第一信号(MS1)的测量相关联的一个第一坐标系(R1)转换成与对该第二信号(MS2)的测量相关联的一个第二坐标系(R2)；(S10)使用该第一信号(MS1)、所述第一模拟和一个对该估计(ES1)与该第一信号(MS1)之间的差别进行量化的第一代价标准(V1)对所述第一侧面(10)进行估计；以及(S20)使用该第二信号(MS2)、所述第二模拟、所述第三转换和一个对该估计(ES2)和该第二信号(MS2)之间的差异进行量化的第二代价标准(V2)对所述第二侧面(20)进行估计。【专利说明】用于测量光学组件的几何结构的方法和工具
本专利技术的主题是一种用于测量光学组件的几何或光学结构的方法和系统。 根据本专利技术的方法使得可以用绝对的方式对光学组件的两面进行测量。绝对测量旨在指不需要该组件的任何现有知识(除其折射率之外)的测量。面的测量容易受到许多工业应用的影响。它具体在眼科领域中对于眼镜片的检查或测量是有用的；在这种情况下，复合面的制作需要同时确定几百个系数。
技术介绍
本部分旨在向读者介绍可能与本专利技术的下文所描述和/或要求保护的各个方面相关的领域的各个方面。此讨论被认为对向读者提供背景信息是有用的，以便有利于更好地理解本专利技术的各个方面。结果是，必须认识到，必须就此而论地理解这些陈述，而不是将其解读为对现有技术的阐述。 EP-A-O 644 411以 申请人:的名义描述了一种反射或透射偏折术工具。这种工具允许通过光学组件的几何结构的反射或透射进行测量。这种测量工具的原理是通过已知波前(在最简单的情况下，平面波)的辐射照亮有待测量的光学组件，以及在有待测量的光学组件上的反射或透射之后测量波前。反射或透射之后的波前测量使得可以推导出有待测量的组件的几何特性。 从而，已知确定该组件的一个面的几何形状；该组件的另一个面的几何形状被假定为对于计算是已知的。因此，需要一种使得可以确定光学组件的(以及具体地，其两个面的)各种特性的测量工具。这种工具使得具体可以通过以准确的方式确定渐进式眼镜片的两个面中的每个面的形状以及通过在不必用公式表示关于这些面之一的任何假设的情况下相对于另一个面完美地定位一个面来有效地测量渐进式眼镜片。 FR-2 813 391 Al也以 申请人:的名义描述了一种用于测量光学组件的几何结构的方法，该方法在光学组件的透射中实施一对测量。但是所重新构造的几何结构的精度不总是令人满意的，因为两次测量中的每一次结合两个横切面的影响。 同样已知的是DE 102004047531，其中，实施了两次干涉测量，一次是在反射中，另一次是在透射中，从而确定活的有机体(细胞或细胞群)的表面形貌及其折射率的内部分布。但是为了以隐含的方式获得使得可以将被反射或被透射的光波的相位变化的测量结果转换成高度图或折射率变化图的绝对结果，此文件中所描述的测量需要有机体的形貌的或其折射率分布的先验知识。 而且，在具有逐面、逐点地或在两个面中的每个面的一个点处同时运行的机械或光学探针的帮助下测量光学组件的面。但是对面的测量的持续时间是重要的，并且相对于第二面对第一面的测量进行定位仍然一直比较困难。此外，逐点测量总体上需要极度精确的装置，以用于移动(机械或光学)探针的位置，这使得其在获取和维修方面相对昂贵并且难于将其部署在工业场地上。
技术实现思路
本专利技术的目的是解决上述缺陷，并且其提出了基于两次非破坏性测量来确定光学组件的几何结构。这些测量中的至少一次测量(与上文所介绍的“逐点”模式相反)以分区模式或多点模式运行，并且由这些面中的单个面对探测信号所进行转换所产生的一个MSl信号实施这些测量中的至少一次测量，并且其中，这些面中的每个面是先验未知的。此确定进而基于在所述测量的基础上对该组件的这些面中的每个面的数值重现。 本专利技术根据一个第一方面借助于权利要求1的特性并根据一个第二方面借助于权利要求14的特性实现了这个目的。 从属权利要求介绍了本专利技术的有利概念和增强。 根据该第一方面，本专利技术涉及一种用于测量由一个第一面10和一个第二面20所界定的组件的几何结构的方法，所述方法包括以下步骤: SI对由所述第一面10对一个第一探测信号PSl进行的一次第一转换所产生的一个第一信号MSl进行测量，对所述第一转换的一次第一模拟使得可以获得至少一个第一虚拟面11对该第一探测信号PSl进行的所述第一转换所产生的该信号的一个第一估计ES1，该第一虚拟面是已知的并且以一种与在该第一信号MSl的测量过程中的所述第一面10完全相同的方式定位在一个第一测量参考坐标系Rl中； S2对由至少所述第二面20对一个第二探测信号PS2进行的一次第二转换所产生的一个第二信号MS2进行测量，对所述第二转换的一次第二模拟使得可以获得由至少一个虚拟面21对该第二探测信号PS2进行的所述第二转换所产生的该信号的一个第二估计ES2，该第二虚拟面是已知的并且以一种与在该第二信号MS2的测量过程中的所述第二面20完全相同的方式定位于一个第二测量参考坐标系R2中； 其中，来自对该第一信号MSl的测量和对该第二信号MS2的测量中间的这些测量中的至少一次测量是一次分区测量； S3定一次第三转换，该转换使得可以从该第一参考坐标系Rl转到该第二参考坐标系R2 ； SlO基于该第一信号MS1、所述第一模拟和对该估计ESl与该第一信号MSl之间的差异进行量化的一个第一代价函数Vl对所述第一面10进行估计； S20基于该第二信号MS2、所述第二模拟和对该估计ES2与该第二信号MS2之间的差异进行量化的一个第二代价函数V2对所述第二面20进行估计。 根据该第二方面，本专利技术涉及一种用于测量由一个第一面10和一个第二面20所界定的组件的几何结构的系统；所述系统包括: -一个第一测量装置丽I,用于由至少所述第一面10对一个第一探测信号PSl进行的一次第一转换所产生的一个第一信号MSl进行测量，对所述第一转换的一次第一模拟使得可以获得由至少一个第一虚拟面11对该第一探测信号PSl进行的所述第一转换所产生的该信号的一个第一估计ES1，该至少一个第一虚拟面是已知的并且以与在该第一信号MSl的测量过程中的所述第一面10完全相同的方式定位于一个第一测量参考坐标系Rl中； -一个第二测量装置丽2，用于由至少所述第二面20对一个第二探测信号PS2进行的一次第二转换所产生的一个第二信号MS2进行测量，对所述第二转换的一次第二模拟使得可以获得由至少一个第二虚拟面21对该第二探测信号PS2进行的所述第二转换所产生的该信号的一个第二估计ES2，该至少一个第二虚拟面本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于测量由一个第一面(10)和一个第二面(20)所界定的光学组件的几何结构的方法；所述方法包括以下步骤：‑(S1)对由所述第一面(10)对一个第一探测信号(PS1)进行的一次第一转换所产生的一个第一信号(MS1)进行测量，对所述第一转换的一次第一模拟使得可以获得一个第一虚拟面(11)对该第一探测信号(PS1)进行的所述第一转换所产生的该信号的一个第一绝对估计(ES1)，该第一虚拟面是已知的并且以一种与在该第一信号(MS1)的测量过程中的所述第一面(10)完全相同的方式定位于一个第一测量参考坐标系(R1)中；‑(S2)对由至少所述第二面(20)对一个第二探测信号(PS2)进行的一次第二转换所产生的一个第二信号(MS2)进行测量，对所述第二转换的一次第二模拟使得可以获得由至少一个第二虚拟面(21)对该第二探测信号(PS2)进行的所述第二转换所产生的该信号的一个第二绝对估计(ES2)，该至少一个第二虚拟面是已知的并且以一种与在该第二信号(MS2)的测量过程中的所述第二面(20)完全相同的方式定位于一个第二测量参考坐标系(R2)中；其中，来自对该第一信号(MS1)的测量和对该第二信号(MS2)的测量中间的这些测量中的至少一次测量是一次分区测量；‑(S3)确定一次第三转换，该第三转换使得可以从该第一参考坐标系(R1)转到该第二参考坐标系(R2)；‑(S10)基于该第一信号(MS1)、所述第一模拟和对该第一估计(ES1)与该第一信号(MS1)之间的差异进行量化的一个第一代价函数(V1)对所述第一面(10)进行估计；‑(S20)基于该第二信号(MS2)、所述第二模拟和对该第二估计(ES2)与该第二信号(MS2)之间的差异进行量化的一个第二代价函数(V2)对所述第二面(20)进行估计。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：斯泰凡·古厄，尼库拉斯·拉维隆尼厄，法比恩·穆拉多雷，阿斯马·拉克豪埃，
申请(专利权)人：依视路国际集团光学总公司，
类型：发明
国别省市：法国;FR