【技术实现步骤摘要】
浅景深效果图像的成像控制方法和装置及成像设备
本申请涉及图像采集
,特别是涉及一种浅景深效果图像的成像控制方法和装置及成像设备。
技术介绍
景深(DepthofField,简称DoF)通常是指摄像镜头对待摄场景能够清晰成像的物距范围,所述物距范围内的区域称为焦内,所述物距范围外的区域称为焦外,焦内成清晰像,焦外根据景深(或景深的深浅)可成清晰像或模糊像,如:对于深景深,焦内焦外都可成清晰像,要获取深景深图像对摄像镜头的要求很高;对于浅景深,焦内可成清晰像、焦外成模糊像。获取浅景深效果图像的方法通常有两种。一种是通过调节摄像镜头的光圈大小、物理焦距长短、镜头与待摄对象的对焦距离远近等参数,使拍摄的图像局部清晰局部模糊,如前景清晰背景模糊等。另一种是采用图像处理软件通过一定的模糊算法对已拍摄的图片进行处理,使得处理后的图像局部模糊以实现类似镜头虚化的模糊效果。
技术实现思路
在下文中给出了关于本申请的简要概述,以便提供关于本申请的某些方面的基本理解。应当理解,这个概述并不是关于本申请的穷举性概述。它并不是意图确定本申请的关键或重要部分,也不是意图限定本申请的范围。其目的仅仅是以简化的形式给出某些概念,以此作为稍后论述的更详细描述的前序。本申请实施例提供一种浅景深效果图像的成像控制方法和装置及成像设备。一方面,本申请实施例提供了一种浅景深效果图像的成像控制方法,包括:确定待摄场景的目标景深信息;根据所述目标景深信息确定图像目标像素密度分布信息;根据所述图像目标像素密度分布信息调整图像传感器的像素密度分布;经调整后的所述图像传感器拍摄所述待摄场景的图像。另一方面 ...
【技术保护点】
一种浅景深效果图像的成像控制方法,其特征在于,包括:确定待摄场景的目标景深信息;根据所述目标景深信息确定图像目标像素密度分布信息;根据所述图像目标像素密度分布信息调整图像传感器的像素密度分布;经调整后的所述图像传感器拍摄所述待摄场景的图像。
【技术特征摘要】
1.一种浅景深效果图像的成像控制方法,其特征在于,包括:确定待摄场景的目标景深信息;根据所述目标景深信息确定图像目标像素密度分布信息;根据所述图像目标像素密度分布信息调整图像传感器的像素密度分布;经调整后的所述图像传感器拍摄所述待摄场景的图像。2.根据权利要求1所述的成像控制方法,其特征在于,确定所述待摄场景的所述目标景深信息,包括:获取景深确定信息;根据所述景深确定信息确定所述待摄场景的所述目标景深信息。3.根据权利要求1所述的成像控制方法,其特征在于,确定所述待摄场景的所述目标景深信息,包括:获取所述待摄场景的物点深度信息;根据所述物点深度信息确定所述待摄场景的所述目标景深信息。4.根据权利要求1-3任一所述的成像控制方法,其特征在于,所述目标景深信息包括:所述待摄场景相对焦平面的目标景深;确定所述图像目标像素密度分布信息,包括:根据所述目标景深确定所述图像目标像素密度分布信息。5.根据权利要求1-3任一所述的成像控制方法,其特征在于,所述目标景深信息包括:所述待摄场景的至少部分焦外物点到焦平面的距离信息;确定所述图像目标像素密度分布信息,包括:根据所述距离信息确定所述图像目标像素密度分布信息。6.根据权利要求4所述的成像控制方法,其特征在于,还包括:确定所述待摄场景的所述焦平面。7.根据权利要求5所述的成像控制方法,其特征在于,还包括:确定所述待摄场景的所述焦平面。8.根据权利要求6所述的成像控制方法,其特征在于,确定所述待摄场景的所述焦平面,包括:获取感兴趣区确定信息;根据所述感兴趣区确定信息确定所述焦平面。9.根据权利要求7所述的成像控制方法,其特征在于,确定所述待摄场景的所述焦平面,包括:获取感兴趣区确定信息;根据所述感兴趣区确定信息确定所述焦平面。10.根据权利要求6所述的成像控制方法,其特征在于,确定所述待摄场景的所述焦平面,包括:分析对所述待摄场景在所述图像传感器上的预览图像;根据图像分析结果确定所述焦平面。11.根据权利要求7所述的成像控制方法,其特征在于,确定所述待摄场景的所述焦平面,包括:分析对所述待摄场景在所述图像传感器上的预览图像;根据图像分析结果确定所述焦平面。12.根据权利要求1-3任一所述的成像控制方法,其特征在于,所述目标景深信息包括:目标焦外模糊程度信息;确定所述图像目标像素密度分布信息,包括:根据所述目标焦外模糊程度信息确定所述图像目标像素密度分布信息。13.根据权利要求12所述的成像控制方法,其特征在于,所述目标焦外模糊程度信息包括:所述待摄场景的至少部分焦外物点在所述图像传感器的至少部分成像点的弥散圆分布信息;确定所述图像目标像素密度分布信息,包括:根据至少部分所述成像点的弥散圆分布信息确定所述图像目标像素密度分布信息。14.根据权利要求13所述的成像控制方法,其特征在于,确定所述弥散圆分布信息,包括:确定所述待摄场景的至少一焦外物点在所述图像传感器的至少一成像点的弥散圆信息;根据所述待摄场景的至少部分其他焦外物点与焦平面的距离以及确定的至少一所述成像点的弥散圆信息,确定至少部分其他成像点的弥散圆信息;根据确定的各所述弥散圆信息确定至少部分所述成像点的弥散圆分布信息。15.根据权利要求1-3任一所述的成像控制方法,其特征在于,根据所述图像目标像素密度分布信息调整图像传感器的像素密度分布,包括:根据所述图像目标像素密度分布信息确定可控变形材料部的形变控制信息;根据所述形变控制信息控制所述可控变形材料部发生形变,以通过所述可控变形材料部的形变相应调整所述图像传感器的像素密度分布。16.根据权利要求15所述的成像控制方法,其特征在于,所述可控变形材料部至少由以下一种或多种可控变形材料制备而成:压电材料、电活性聚合物、光致形变材料、磁致伸缩材料。17.根据权利要求1-3任一所述的成像控制方法,其特征在于,还包括:获取所述图像传感器的像素索引信息;根据所述像素索引信息扫描输出获取的所述图像。18.根据权利要求1-3任一所述的成像控制方法,其特征在于,还包括:根据调整后所述图像传感器的像素位置信息扫描输出获取的所述图像。19.一种成像控制装置,其特征在于,包括:一目标景深信息确定模块,用于确定待摄场景的目标景深信息;一目标像素密度分布信息确定模块,用于根据所述目标景深信息确定图像目标像素密度分布信息;一像素密度调整模块,用于根据所述图像目标像素密度分布信息调整图像传感器的像素密度分布;一图像获取模块,用于经调整后的所述图像传感器拍摄所述待摄场景的图像。20.根据权利要求19所述的成像控制装置,其特征在于,所述目标景深信息确定模块,包括:一景深确定信息获取子模块,用于获取景深确定信息;一第一目标景深信息确定子模块,用于根据所述景深确定信息确定所述待摄场景的所述目标景深信息。21.根据权利要求19所述的成像控制装置,其特征在于,所述目标景深信...
【专利技术属性】
技术研发人员:杜琳,
申请(专利权)人:北京智谷技术服务有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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