由常规非可裂化的直接法残留物合成有机基卤代硅烷单体制造技术

本申请公开了用于由四有机基二卤代二硅烷和在直接法残留物的常规氢氯化反应期间不裂化的其它化合物合成有机基卤代硅烷单体的催化方法。该方法的特征在于使用了如下催化剂：所述催化剂含有(1)一种或多种杂环胺和/或一种或多种杂环卤化铵，和(2)一种或多种15族的季鎓化合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】由常规非可裂化的直接法残留物合成有机基卤代硅烷单体
本专利技术涉及采用由烷基卤代硅烷和芳基卤代硅烷的直接合成形成的高沸点副产物进行的有机基卤代硅烷单体的合成。具体地，本专利技术公开了由Cl(CH3)2SiSi(CH3)2Cl和在直接法残留物的常规氢氯化期间不裂化(cleaved)的其它化合物进行的(CH3)2SiHCl、CH3SiHCl2和(CH3)2SiCl2的合成。专利技术背景烷基卤代硅烷和芳基卤代硅烷是广泛用于工业的有机硅和有机基官能硅烷的有价值的前体。甲基氯硅烷和苯基氯硅烷是尤其有价值的，且它们是这些种类中最普遍生产的产品。制备烷基卤代硅烷和芳基卤代硅烷的主要商业方法是通过Rochow-Müller直接法(也称为直接合成和直接反应)，其中使铜活化的硅与相应的有机基卤化物在气-固或淤浆相反应器中反应。从反应器中连续地除去气体产物和未反应的有机基卤化物以及细颗粒。从反应器中出来的热的流出物包括铜、金属卤化物、硅、硅化物、碳、气体有机基卤化物、有机基卤化硅烷、有机基卤化二硅烷、碳硅烷和烃的混合物。通常，首先使该混合物在旋风器和过滤器中经受气-固分离。然后在沉降器或含尘液储罐中使本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于由高沸点残留物制备有机基卤代硅烷单体组合物的催化方法，所述方法包括：(A)在大气压力或超大气压力于约75℃至约300℃的温度，在催化剂的存在下，任选地在有机基卤化物和/或卤化氢和/或惰性气体的存在下，加热所述高沸点残留物，所述催化剂包括(1)一种或多种杂环胺和/或一种或多种杂环卤化铵，和(2)一种或多种15族的季鎓化合物，从而将所述高沸点残留物转化成含有至少一种有机基卤代硅烷单体的有机基卤代硅烷单体组合物，所述有机基卤代硅烷单体具有选自R1SiHX2、R12SiHX、R12SiX2和R13SiX的通式，R1为芳族，脂族，烷芳基或脂环族单价烃基，X为选自氟、氯、溴、和碘的卤素原子，和(B)任...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.12.30 US 13/340,8821.用于由高沸点残留物制备有机基卤代硅烷单体组合物的催化方法，所述方法包括：(A)在大气压力或超大气压力于75℃至300℃的温度，在催化剂的存在下，任选地在有机基卤化物和/或卤化氢和/或惰性气体的存在下，加热所述高沸点残留物，所述催化剂包括(1)一种或多种杂环胺和/或一种或多种杂环卤化铵，其中所述杂环胺为选自如下的具有1至3个氮原子的五元杂环胺：1-甲基咪唑、2-甲基咪唑、2-乙基咪唑、2-异丙基咪唑、4-甲基咪唑、2,4-二甲基咪唑、2-(咪唑-2-基)咪唑、2-苯基咪唑、咪唑啉、四氢咪唑、1,2,3-三唑和1,2,4-三唑，和所述杂环卤化铵源自具有1至3个氮原子的五元杂环胺，卤素为氟、氯、溴或碘；和(2)一种或多种15族季鎓化合物，从而将所述高沸点残留物转化成含有至少一种有机基卤代硅烷单体的有机基卤代硅烷单体组合物，所述有机基卤代硅烷单体具有选自R1SiHX2、R12SiHX、R12SiX2和R13SiX的通式，其中R1为芳族，脂族，烷芳基或脂环族单价烃基，以及X为选自氟、氯、溴、和碘的卤素原子，和(B)任选地回收所述催化剂，其中所述高沸点残留物包含(1)含有至少一种四有机基二卤代二硅烷和任选的一种或多种选自碳硅烷、有机基卤代聚硅烷、六有机基二硅烷、和五有机基卤代二硅烷的化合物的非可裂化组分；和(2)任选的包含二有机基四卤代二硅烷和三有机基三卤代二硅烷中的至少一种的可裂化组分，条件是如果存在所述可裂化组分的话，所述可裂化组分的浓度低于所述非可裂化组分的浓度；和其中所述15族季鎓化合物具有通式R4Q+X-，其中R各自独立地为具有1至30个碳原子的以下基团：烷基、环烷基、芳基或烷芳基，Q为磷，X为选自F、Cl、Br或I的卤素。2.权利要求1的方法，其中所述杂环胺的pKa为6.9至7.9。3.权利要求1的方法，其中所述杂环卤化铵为1,2-二甲基-3-(正丙基)-咪唑鎓氯化物，1-乙基-3-甲基咪唑鎓溴化物，1,2-二甲基-3-(正丁基)咪唑鎓氯化物，1-丁基-3-甲基-咪唑鎓氯化物，1-(3-氰基丙基)-3-甲基咪唑鎓氯化物，或1-甲基咪唑鎓氯化物。4.权利要求1的方法，其中所述杂环卤化铵是选自以下的离子液体：1-甲基咪唑鎓氯化物，1-丁基-3-甲基-咪唑鎓氯化物，和1-(3-氰基丙基)-3-甲基咪唑鎓氯化物。5.权利要求1的方法，其中所述15族季鎓化合物R4Q+X-含有具有通式R3QHX和HX的化合物，其中R为具有1至30个碳原子的以下基团：烷基、环烷基、芳基或烷芳基，Q是磷，且X为F、Cl、Br或I。6.权利要求1的方法，其中所述15族季鎓化合物R4Q+X-为氯化四(正丁基)鏻、溴化四(正丁基)鏻、溴化三己基(十四烷基)鏻、溴化甲基三(异丁基)鏻...

【专利技术属性】
技术研发人员：KM刘易斯，JD尼里，
申请(专利权)人：莫门蒂夫性能材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US