基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法技术

技术编号:10437551 阅读:148 留言:0更新日期:2014-09-17 14:00
本发明专利技术公开了一种基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法,包括以下步骤:步骤一、施工竖井,并在所述竖井下端部侧向开马头门,同时沿所述马头门开挖横通道;步骤二、在所述横通道内设置二衬结构至所述横通道的顶拱拱脚处,在所述顶拱拱脚处水平设置有二衬顶板,往所述二衬顶板与所述拱顶围合形成的拱顶腔体内回填混凝土;步骤三、根据设计要求,在所述二衬顶板上方预留上盖物业基坑的围护结构的实施条件;步骤四、完成所述横通道的其他区间施工工作。本发明专利技术可先期施工地下区间结构,而不必受预建上盖物业的工法和工期限制,且有效的加强了其抗浮能力,可在顶部小净距地下室开挖条件下构筑高断面的横通道。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一、施工竖井,并在所述竖井下端部侧向开马头门,同时沿所述马头门开挖横通道;步骤二、在所述横通道内设置二衬结构至所述横通道的顶拱拱脚处,在所述顶拱拱脚处水平设置有二衬顶板,往所述二衬顶板与所述拱顶围合形成的拱顶腔体内回填混凝土;步骤三、根据设计要求,在所述二衬顶板上方预留上盖物业基坑的围护结构的实施条件;步骤四、完成所述横通道的其他区间施工工作。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:黄爱军徐正良田海波张向霞张增峰
申请(专利权)人:上海市城市建设设计研究总院
类型:发明
国别省市:上海;31

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