光学玻璃及光学元件制造技术

本发明专利技术更廉价地提供一种折射率(nd)及阿贝数(νd)在所希望的范围内、同时耐失透性高的玻璃。以质量％计，本发明专利技术的光学玻璃含有1.0～30.0％的B2O3成分及10.0～60.0％的La2O3成分。该光学玻璃优选具有1.75以上的折射率(nd)，具有23以上50以下的阿贝数(νd)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学玻璃及光学元件
本专利技术涉及光学玻璃及光学元件。
技术介绍
近年来，使用光学系统的设备的数字化和高精细化急速发展，在数码相机、摄像机等摄影设备、投影机、投影电视等图像播放(投影)设备等各种光学设备的领域中，减少光学系统中使用的透镜、棱镜等光学元件的个数，使光学系统整体轻质化及小型化的要求增强。在制作光学元件的光学玻璃中，尤其是，可谋求光学系统整体的轻质化及小型化的具有1.75以上的折射率(nd)、具有23以上50以下的阿贝数(v d)的高折射率低分散玻璃的需求非常高。作为这样的高折射率低分散玻璃，已知以专利文献I~8为代表那样的玻璃组合物。[现有技术文献][专利文献][专利文献I]日本特开2006- 016293号公报 [专利文献2]日本特开2011- 144069号公报[专利文献3]日本特开2010- 083705号公报[专利文献4]日本特开2008- 001551号公报[专利文献5]日本特开2001- 348244号公报[专利文献6]日本特开2009- 173520号公报[专利文献7]日本特开2003- 267748号公报[专利文献8]日本特开2006- 240889号公报
技术实现思路
作为由光学玻璃制作光学元件的方法，例如，已知如下方法:对由光学玻璃形成的料块(gob)或玻璃块(glass block)进行磨削及研磨而得到光学元件的形状的方法；将对由光学玻璃形成的料块或玻璃块进行再加热并成型(再热加压成型)而得到的玻璃成型体进行磨削及研磨的方法；以及，用超精密加工而得到的模具将由料块或玻璃块得到的预成型体材料成型(精密模压成型)而得到光学元件的形状的方法。对于任一方法，均要求由熔融了的玻璃原料形成料块或玻璃块时，可得到稳定的玻璃。此处，当构成得到的料块或玻璃块的玻璃对失透的稳定性(耐失透性)降低，在玻璃的内部产生结晶时，已经不能得到适合作为光学兀件的玻璃。另外，为了降低光学玻璃的材料成本，希望构成光学玻璃的各成分的原料费用尽可能廉价。另外，为了降低光学玻璃的制造成本，希望原料的熔化性高，在更低温度下熔化。可是，专利文献I~8中记载的玻璃难以说充分满足上述要求。另外，尤其是对于专利文献I及2中记载的玻璃，玻璃的比重大，光学元件的质量存在较大问题。即，存在如下问题:当将这些玻璃用于照相机或投影仪等光学设备时，光学设备整体的质量容易变大。本专利技术是鉴于上述问题而完成的，其目的在于更廉价地得到折射率(nd)及阿贝数(vd)在所希望的范围内、同时耐失透性高的稳定玻璃。另外，本专利技术的目的还在于得到可有助于光学设备的轻质化的玻璃。本专利技术人等为了解决上述问题而反复进行了深入研究，结果发现，在含有B2O3成分及La2O3成分作为必需成分的玻璃中，可得到具有所希望的高折射率及高阿贝数的稳定的玻璃，同时可降低玻璃的材料成本，从而完成了本专利技术。另外，本专利技术人等还发现，通过在含有B2O3成分及La2O3成分作为必需成分的玻璃中使Y2O3成分的含量在规定的范围内，可得到具有所希望的高折射率及高阿贝数的稳定的玻璃，同时可降低玻璃的材料成本，并且玻璃的比重变小。[0021 ] 另外，本专利技术人等还发现，通过在含有B2O3成分及La2O3成分的玻璃中减少Gd2O3成分的含量，可得到具有所希望的折射率及阿贝数的稳定的玻璃，同时可降低玻璃的材料成本。另外，本专利技术人等还发现，相对于含有B2O3成分及La2O3成分、具有35以上的阿贝数的玻璃，通过降低Ta2O5成分的含量，从而具有所希望的折射率及阿贝数，同时可降低玻璃的材料成本，并且玻璃的液相温度变低。 具体而言，本专利技术提供如下方案。(I) 一种光学玻璃，以质量％计，含有1.0~30.0%的B2O3成分及10.0~60.0%的La2O3成分。(2)如(I)所述的光学玻璃，以质量％计，Ta2O5成分的含量为15.0%以下。(3)如(I)或⑵所述的光学玻璃，具有35以上的阿贝数(V d)，Ta2O5成分的含量小于15.0%。(4)如⑴~(3)中任一项所述的光学玻璃，以质量％计，Y2O3成分的含量为30.0%以下。(5)如⑴~(4)中任一项所述的光学玻璃，以质量％计，Gd2O3成分的含量为40.0%以下。(6)如⑴~(5)中任一项所述的光学玻璃，以质量％计，Gd2O3成分的含量为20.0%以下。(7)如⑴~(6)中任一项所述的光学玻璃，以质量％计，Yb2O3成分的含量为20.0%以下。(8)如⑴~(7)中任一项所述的光学玻璃,Ln2O3成分(式中，Ln为选自La、Gd、Y、Yb中的一种以上)的质量和为30.0%以上75.0%以下。(9)如⑴~⑶中任一项所述的光学玻璃,Ln2O3成分(式中，Ln为选自La、Gd、Y、Yb中的一种以上)的质量和为35.0%以上75.0%以下。(10)如⑴~(9)中任一项所述的光学玻璃，Ln2O3成分(式中，Ln为选自La、Gd、Y、Yb中的一种以上)的质量和为30.0 %以上70.0 %以下。(11)如⑴~(10)中任一项所述的光学玻璃，质量比(Gd203+Yb203)/(La203+Y203)为0.50以下。(12)如⑴~(11)中任一项所述的光学玻璃，Gd2O3成分、Yb2O3成分及Ta2O5成分的含量的和为30.0 %以下。(13)如⑴~(12)中任一项所述的光学玻璃，Gd2O3成分、Yb2O3成分及Ta2O5成分的含量的和为20.0 %以下。(14)如⑴~(13)中任一项所述的光学玻璃，以质量％计，TiO2 成分为 O ~30.0 %，Nb2O5 成分为 O ~20.0 %，WO3 成分为 O ~25.0 %。(15)如⑴~(14)中任一项所述的光学玻璃，以质量％计，WO3 成分为 O ~25.0 %，Nb2O5 成分为 O ~20.0 %，TiO2 成分为 O ~30.0 %。(16)如⑴~(15)中任一项所述的光学玻璃，以质量％计，TiO2成分的含量为20.0%以下。(17)如⑴~(16)中任一项所述的光学玻璃，以质量％计，TiO2 成分为 O ~15.0%，Nb2O5 成分为 O ~20.0 %，WO3 成分为 O ~20.0 %。(18)如(I)~(17)中任一项所述的光学玻璃，Nb2O5成分及WO3成分的含量的和为1.0%以上30.0%以下。(19)如⑴~(18)中任一项所述的光学玻璃，TiO2成分、Nb2O5成分及WO3成分的含量的和为30.0%以下。(20)如⑴~(19)中任一项所述的光学玻璃，以质量％计，SiO2成分的含量为30.0%以下。(21)如⑴~(20)中任一项所述的光学玻璃，以质量％计，SiO2成分的含量为20.0%以下。(22)如(I)~(21)中任一项所述的光学玻璃，B2O3成分及SiO2成分的含量的和为1.0%以上30.0%以下。 (23)如⑴~(22)中任一项所述的光学玻璃，质量比(Nb205+W03)/(B203+Si02)为0.15以上2.00以下。(24)如⑴~(23)中任一项所述的光学玻璃，以质量％计，MgO 成分为 O ~20.0 %，CaO 成分为 O ~20.0 %，SrO 成分为 O ~20.0 %，BaO 成分为 O ~25.0 %。(25)如⑴~(24)中任一项所述的光学玻璃，以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学玻璃，以质量％计，含有1.0～30.0％的B2O3成分及10.0～60.0％的La2O3成分。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.12.20 JP 2011-278868;2011.12.28 JP 2011-289951.一种光学玻璃，以质量％计，含有1.0~30.0%的B2O3成分及10.0~60.0%的La2O3成分。2.如权利要求1所述的光学玻璃，以质量％计，Ta2O5成分的含量为15.0%以下。3.如权利要求1或2所述的光学玻璃，具有35以上的阿贝数(vd),Ta2O5成分的含量小于15.0%o4.如权利要求1~3中任一项所述的光学玻璃，以质量％计，Y2O3成分的含量为30.0%以下。5.如权利要求1~4中任一项所述的光学玻璃，以质量％计，Gd2O3成分的含量为40.0%以下。6.如权利要求1~5中任一项所述的光学玻璃，以质量％计，Gd2O3成分的含量为20.0%以下。7.如权利要求1~6中任一项所述的光学玻璃，以质量％计，Yb2O3成分的含量为20.0%以下。8.如权利要求1~7中任一项所述的光学玻璃，Ln2O3成分的质量和为30.0%以上75.0 %以下，Ln2O3式中，Ln为选自La、Gd、Y、Yb中的一种以上。9.如权利要求1~8中 任一项所述的光学玻璃，质量比(Gd203+Yb203)/(La203+Y203)为0.50以下。10.如权利要求1~9中任一项所述的光学玻璃,Gd2O3成分、Yb2O3成分及Ta2O5成分的含量的和为30.0%以下。11.如权利要求1~10中任一项所述的光学玻璃，以质量％计， TiO2成分为O~30.0%， Nb2O5成分为O~20.0%, WO3成分为O~25.0%。12.如权利要求1~11中任一项所述的光学玻璃，Nb2O5成分及WO3成分的含量的和为1.0%以上30.0%以下。13.如权利要求1~12中任一项所述的光学玻璃，TiO2成分、Nb2O5成分及WO3成分的含量的和为30.0%以下。14.如权利要求1~13中任一项所述的光学玻璃，以质量％计，SiO2成分的含量为30.0%以下。15.如权利要求1~14中任一项...

【专利技术属性】
技术研发人员：桃野净行，
申请(专利权)人：株式会社小原，
类型：发明
国别省市：日本;JP