【技术实现步骤摘要】
： 本专利技术涉及一种平台，尤其涉及一种串联式超高加速度超精密定位二维平台。
技术介绍
随着超精密加工，微电子制造等精密工程的快速发展，大行程超精密定位作为定位关键设备的重要性已日益凸显，特别是在光刻，键合等微电子领域中，设备需要做高速状态下进行的平台精确定位运动。目前，定位平台高速运动已经发展到极限，这制约了定位平台生产效率的提高。在满足预定精度的条件下，提高平台速度和加速度，缩短机械加工时间，有效的提高生产效率是定位平台发展的方向。 目前国内的高速精密的定位主要是直线电机与压电驱动器等来完成,这些定位虽然对于速度有了一定的提高，但是加速度会受到限制；通过串联式将两个音圈电机与定位平台连接起来，突破速度的限制，实现超高加速度，这对于现代化的微电子制造领域的应用具有一定的应用意义。
技术实现思路
针对上述缺陷或不足，本专利技术提供了一种串联式超高加速度超精密定位二维平台，该精密定位二维平台解决了现有技术无法突破更高加速的精密定位问题。 为达到以上目的，本专利技术的技术方案为： 包括底座，底座上安装有能够沿X轴方向与Y轴方向运动的宏微XY定位平台，宏微XY定位平台的四边上通过连接架安装有结构相同的X轴第一电机、X轴第二电机、Y轴第一电机，以及Y轴第二电机；其中，X轴第一电机与X轴第二电机同轴设...
【技术保护点】
一种串联式超高加速度超精密定位二维平台，其特征在于，包括底座(12)，底座(12)上安装有能够沿X轴方向与Y轴方向运动的宏微XY定位平台(11)，宏微XY定位平台(11)的四边上通过连接架安装有结构相同的X轴第一电机(1)、X轴第二电机(2)、Y轴第一电机(3)，以及Y轴第二电机(4)；其中，X轴第一电机(1)与X轴第二电机(2)同轴设置，进行X轴方向加速定位运动，Y轴第一电机(3)与Y轴第二电机(4)同轴设置，进行Y轴方向加速定位运动；X轴第一电机(1)、X轴第二电机(2)、Y轴第一电机(3)，以及Y轴第二电机(4)的底端均与底座(12)固定连接。
【技术特征摘要】
1.一种串联式超高加速度超精密定位二维平台，其特征在于，包括底座
(12)，底座(12)上安装有能够沿X轴方向与Y轴方向运动的宏微XY定
位平台(11)，宏微XY定位平台(11)的四边上通过连接架安装有结构相同
的X轴第一电机(1)、X轴第二电机(2)、Y轴第一电机(3)，以及Y轴第
二电机(4)；其中，X轴第一电机(1)与X轴第二电机(2)同轴设置，进
行X轴方向加速定位运动，Y轴第一电机(3)与Y轴第二电机(4)同轴设
置，进行Y轴方向加速定位运动；X轴第一电机(1)、X轴第二电机(2)、
Y轴第一电机(3)，以及Y轴第二电机(4)的底端均与底座(12)固定连
接。
2.根据权利要求1所述的串联式超高加速度超精密定位二维平台，其特
征在于，所述宏微XY定位平台(11)包括：宏动X平台(14)以及宏动Y
平台(15)，其中，宏动X平台(14)的两边安装有X轴第一交叉导轨(30-1)
和X轴第三交叉导轨(30-2)，宏动Y平台(15)的两边安装有X轴第二交
叉导轨(33-1)和X轴第四交叉导轨(33-2)，X轴第一交叉导轨(30-1)与
X轴第二交叉导轨(33-1)相配合，X轴第三交叉导轨(30-2)与X轴第四
交叉导轨(33-2)相配合。
3.根据权利要求2所述的串联式超高加速度超精密定位二维平台，其特
征在于，所述宏动X平台(14)的两边安装有Y轴第一滑块导轨(27)和Y
轴第二滑块导轨(31)，Y轴第一滑块导轨(27)上安装有Y轴第一滑块(28)，
Y轴第二滑块导轨(31)上安装有Y轴第二滑块(32)，Y轴第一滑块导轨
(27)和Y轴第二滑块导轨(31)与X轴第一交叉导轨(30-1)平行设置；
X平台(14)的两边还设置有X轴第一光栅尺(29)和X轴第二光栅尺(34)；
\t宏动X平台(14)的下表面两边设置有Y轴第一光栅尺(26)和Y轴第二
光栅尺(35)，且Y轴第一光栅尺(26)和Y轴第二光栅尺(35)与X轴第
一交叉导轨(30-1)垂直设置。
4.根据权利要求2所述的串联式超高加速度超精密定位二维平台，其特
征在于，所述宏动X平台(14)的底部设置有与底座(12)固定的宏微XY
平台底座(13)，宏微XY平台底座(13)上安装有与Y轴第一光栅尺(26)
相配合的Y轴第一光栅尺读数头(37)，以及与Y轴第二光栅尺(35)相配
合的Y轴第二光栅尺读数头(38)。
5.根据权利要求4所述的串联式超高加速度超精密定位二维平台，其特
征在于，所述宏微XY平台底座(...
【专利技术属性】
技术研发人员：张璐凡，张进华，方记文，吕杭原，念龙生，王勉，
申请(专利权)人：西安交通大学，
类型：发明
国别省市：陕西;61
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