一种光触媒陶瓷材料的生产方法技术

技术编号:10186404 阅读:148 留言:0更新日期:2014-07-04 18:02
本发明专利技术涉及一种光触媒陶瓷材料的生产方法,属于光触媒技术领域。经过坯料制粉,然后输送到高温干燥炉中进行素烧成型,高温干燥炉的温度在500度到800度,形成坯料;选用合适的色料和熔块,将其投放入球釉机进行釉料球磨,使釉料球磨的细度达到2目到5目形成釉浆,再将釉浆经过振动过筛和除铁;在坯料进入釉线后,经过喷水冷却对砖坯进行彻底的施釉,完成施釉的坯料再经过传送线进到烧成窑炉经过50到60分钟约1300℃-1350℃的高温完成产品的烧成,在釉料球磨完成后喷淋坯料之前,按照1%-4%重量比添加光触媒粉末,并用搅拌机搅拌均匀;上述光触媒粉末是4-6微米的二氧化钛粉末。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及,属于光触媒
。经过坯料制粉,然后输送到高温干燥炉中进行素烧成型,高温干燥炉的温度在500度到800度,形成坯料;选用合适的色料和熔块,将其投放入球釉机进行釉料球磨,使釉料球磨的细度达到2目到5目形成釉浆,再将釉浆经过振动过筛和除铁;在坯料进入釉线后,经过喷水冷却对砖坯进行彻底的施釉,完成施釉的坯料再经过传送线进到烧成窑炉经过50到60分钟约1300℃-1350℃的高温完成产品的烧成,在釉料球磨完成后喷淋坯料之前,按照1%-4%重量比添加光触媒粉末,并用搅拌机搅拌均匀;上述光触媒粉末是4-6微米的二氧化钛粉末。【专利说明】
本专利技术涉及,属于光触媒

技术介绍
光触媒是一种纳米级的金属氧化物材料(二氧化钛比较常用),它涂布于基材表面,在光线的作用下,产生强烈催化降解功能:能有效地降解空气中有毒有害气体;能有效杀灭多种细菌,并能将细菌或真菌释放出的毒素分解及无害化处理;同时还具备除臭、抗污等功能。光触媒在光的照射下,会产生类似光合作用的光催化反应,产生出氧化能力极强的自由氢氧基和活性氧,具有很强的光氧化还原功能,可氧化分解各种有机化合物和部分无机物,能破坏细菌的细胞膜和固化病毒的蛋白质,可杀灭细菌和分解有机污染物,把有机污染物分解成无污染的水(H20)、二氧化碳(CO2)和其它无害物质,因而具有极强的杀菌、除臭、防霉、防污自洁、净化空气功能。陶瓷是常用的建筑材料,常见的有陶瓷墙地砖、陶瓷卫生洁具等,其生产方法一般是经过坯料制粉,压机成型输出,然后输送到高温干燥进行素烧成型,形成坯料。选用适合坯料热膨胀系数及窑炉烧成曲线的色料和熔块,将每种色料投放入球釉机进行釉料球磨,当釉料球磨的细度符合生产要求后,放出釉浆,经过振动过筛和除铁,在坯料进入釉线后,经过喷水冷却然后,利用淋釉器或喷釉器将釉浆喷淋到坯料上,对坯料进行彻底的施釉,完成施釉的坯料经过传送线进到烧成窑炉经过高温完成产品的烧成。如何使光触媒与陶瓷结合是一个亟待解决邪恶问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供。本专利技术采用如下的方法生产光触媒陶瓷材料: 本专利技术采用的技术方案: 经过坯料制粉,然后输送到高温干燥炉中进行素烧成型,高温干燥炉的温度在500度到800度,形成坯料;选用合适的色料和熔块,将其投放入球釉机进行釉料球磨,使釉料球磨的细度达到2目到5目形成釉浆,再将釉浆经过振动过筛和除铁;在坯料进入釉线后,经过喷水冷却然后利用淋釉器或喷釉器将釉浆喷淋到砖坯上,对砖坯进行彻底的施釉,完成施釉的坯料再经过传送线进到烧成窑炉经过50到60分钟约1300°C _1350°C的高温完成产品的烧成,在釉料球磨完成后喷淋坯料之前,按照1%_4%重量比添加光触媒粉末,并用搅拌机搅拌均匀;上述光触媒粉末是4-6微米的二氧化钛粉末。喷水冷却温度在I度到5度。采用上述方法生产的光触媒釉面砖,内含光触媒,又由于光触媒分布在釉面层中,直接与建筑物周围空气接触,因此这种釉面砖具有如下优点: 1、杀菌功能,由于其强大的氧化作用,故能高效快速彻底杀灭各种细菌、病毒。2、除臭动能,对各种臭味物质有强力氧化消除作用,从而迅速消除异味,再由于杀灭了致腐微生物。 3、亲水防污功能。由于光触媒涂层的高亲水性,可形成防雾涂层,同时由于其强大的氧化作用,可氧化掉其表的油污,故可喷涂于物体表面形成自洁涂层,使被涂物保持清新状态。5、防紫外线功能,由于二氧化钛光触媒的紫外线吸收特性,使涂面免遭紫外线的老化作用,大大延长被涂面的使用寿命。【具体实施方式】实施例1: 本专利技术采用的技术方案: 经过坯料制粉,然后输送到高温干燥炉中进行素烧成型,高温干燥炉的温度在500度到800度,形成坯料;选用合适的色料和熔块,将其投放入球釉机进行釉料球磨,使釉料球磨的细度达到2目到5目形成釉浆,再将釉浆经过振动过筛和除铁;在坯料进入釉线后,经过喷水冷却然后利用淋釉器或喷釉器将釉浆喷淋到砖坯上,对砖坯进行彻底的施釉,完成施釉的坯料再经过传送线进到烧成窑炉经过50到60分钟约1300°C _1350°C的高温完成产品的烧成,在釉料球磨完成后喷淋坯料之前,按照1%_4%重量比添加光触媒粉末,并用搅拌机搅拌均匀;上述光触媒粉末是4-6微米的二氧化钛粉末。 喷水冷却温度在I度到5度。采用上述方法生产的光触媒釉面砖,内含光触媒,又由于光触媒分布在釉面层中,直接与建筑物周围空气接触,因此这种釉面砖具有如下优点: 1、杀菌功能,由于其强大的氧化作用,故能高效快速彻底杀灭各种细菌、病毒。2、除臭动能,对各种臭味物质有强力氧化消除作用,从而迅速消除异味,再由于杀灭了致腐微生物。3、亲水防污功能。由于光触媒涂层的高亲水性,可形成防雾涂层,同时由于其强大的氧化作用,可氧化掉其表的油污,故可喷涂于物体表面形成自洁涂层,使被涂物保持清新状态。5、防紫外线功能,由于二氧化钛光触媒的紫外线吸收特性,使涂面免遭紫外线的老化作用,大大延长被涂 面的使用寿命。【权利要求】1.,其特征在于:经过坯料制粉,然后输送到高温干燥炉中进行素烧成型,高温干燥炉的温度在500度到800度,形成坯料;选用合适的色料和熔块,将其投放入球釉机进行釉料球磨,使釉料球磨的细度达到2目到5目形成釉浆,再将釉浆经过振动过筛和除铁;在坯料进入釉线后,经过喷水冷却然后利用淋釉器或喷釉器将釉浆喷淋到砖坯上,对砖坯进行彻底的施釉,完成施釉的坯料再经过传送线进到烧成窑炉经过50到60分钟约1300°C _1350°C的高温完成产品的烧成,在釉料球磨完成后喷淋坯料之前,按照1%_4%重量比添加光触媒粉 末,并用搅拌机搅拌均匀;上述光触媒粉末是4-6微米的二氧化钛粉末。2.根据权利要求1所述的,其特征在于:喷水冷却温度在I度到5度。【文档编号】C04B41/86GK103896630SQ201210573878【公开日】2014年7月2日 申请日期:2012年12月26日 优先权日:2012年12月26日 【专利技术者】盖丽 申请人:大连林桥科技有限公司本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种光触媒陶瓷材料的生产方法,其特征在于:经过坯料制粉,然后输送到高温干燥炉中进行素烧成型,高温干燥炉的温度在500度到800度,形成坯料;选用合适的色料和熔块,将其投放入球釉机进行釉料球磨,使釉料球磨的细度达到2目到5目形成釉浆,再将釉浆经过振动过筛和除铁;在坯料进入釉线后,经过喷水冷却然后利用淋釉器或喷釉器将釉浆喷淋到砖坯上,对砖坯进行彻底的施釉,完成施釉的坯料再经过传送线进到烧成窑炉经过50到60分钟约1300℃‑1350℃的高温完成产品的烧成,在釉料球磨完成后喷淋坯料之前,按照1%‑4%重量比添加光触媒粉末,并用搅拌机搅拌均匀;上述光触媒粉末是4‑6微米的二氧化钛粉末。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:盖丽
申请(专利权)人:大连林桥科技有限公司
类型:发明
国别省市:辽宁;21

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