曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术目的在于提供一种曝光装置，特别是提供一种ＣＴＰ装置，其即使因离散配置的一部分激光二极管的损坏等原因而发生不发光的状态，也能够继续使用该ＣＴＰ装置。在一部分通道处于不发光状态的情况下，通过如下方式形成被曝光区域：生成各通道曝光数据，以便还在设置在基准区间前后的插补区间中移动曝光头，同时使用处于发光状态的特定的通道进行曝光，上述基准区间是在正常时移动曝光头的区间，上述特定的通道是根据不发光状态的存在位置而确定的；通过移动单元在基准区间及插补区间内移动曝光头的同时，曝光控制单元根据各通道曝光数据从上述特定的通道射出曝光用光。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种离散地配置有多个激光光源的曝光装置中的曝光处理。
技术介绍
作为对印版直接形成图案的CTP (Computer To Plate:计算机直接制版)， 在曝光头(Exposure Head)(光源)中使用激光二极管(LD)的CTP装置已 被公知。作为CTP装置的曝光方式，广泛采用通过多个激光二极管同时照射 激光来进行曝光的多束(Multibeam)方式。例如， 一种螺旋(spiral)曝光方式的CTP装置已被公知(例如，参照专 利文献l)，该CTP装置具有包括在一个方向上连续设置的多个激光二极管 和使从上述多个激光二极管照射的激光成像在曝光位置的透镜的曝光头(多 通道(multichannel)光学头)，而且以旋转设有印版的滚筒(印版滚筒)的 状态使曝光头向滚筒的轴方向移动，同时从激光二极管照射激光，从而使印 版的大致整个面曝光。此外，如下一种CTP装置(例如，参照专利文献2)也被公知。即，具 有以相等间隔离散地配置有多个激光二极管的曝光头，以旋转设有印版的滚 筒(印版滚筒)的状态，使曝光头向滚筒的轴方向只移动相当于激光二极管 的间隔的距离的同时，从各激光二极管直接向印版照射激光，从而同时并列 地进行多个部分区域的曝光，最终使印版的大致整个面都曝光。专利文献1: JP特开2000-43317号公报专利文献2: JP特开2003-89180号公报在专利文献1中公开了如下的技术激光二极管分成前半部和后半部两个组，在属于前半部或后半部中的某一组的激光二极管因损坏而不发光(点 亮)的情况下，只使用属于各自的后半部或前半部的激光二极管来进行曝光， 从而，即使发生了损坏，直到更换激光二极管时为止，不需要停止装置也能 够继续进行曝光。然而，在该方式的情况下，有如下的问题在分别属于前半部和后半部的激光二极管都不亮的情况时，不能进行曝光。此外，该方式是针对于专利文献1中所公开的螺旋曝光方式的CTP装置的。对于如专利文献2中所公开的在离散地配置有多个激光二极管的CTP装置，由于曝光时各个激光二极管的移动范围被受限制，因此，例如利用前半 部的激光二极管来曝光本来应该由激光二极管曝光的区域的专利文献1中所 公开的方式不能适用。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述问题而做出，提供一种离散地配置有多个激光二极管的CTP装置，即使因几个激光二极管的损坏等而发生不发光的状态，也能够 继续使用的CTP装置。为了解决上述问题，技术方案1的专利技术提供一种曝光装置，对被曝光体 进行曝光，其特征在于，具有保持体，用于保持被曝光体；多个光源，能 够同时射出曝光用光；曝光头，在配置方向上以等间隔离散配置有上述多个 光源，上述配置方向是沿着上述被曝光体的方向；移动单元，使上述曝光头 沿着上述被曝光体移动；曝光数据输入单元，取得记录有对被曝光体的曝光 内容的全部曝光数据；各通道曝光数据生成单元，根据上述全部曝光数据， 生成各通道曝光数据，上述各通道曝光数据记录有上述多个光源各自的曝光 内容；曝光控制单元，控制上述多个光源，以使上述多个光源按照上述各通 道曝光数据的记录内容射出曝光用光；其中，在上述多个光源全部处于发光 状态的情况下，通过如下方式形成上述被曝光区域生成上述各通道曝光数 据，以便使用所有上述多个光源所射出的上述曝光用光来形成被曝光区域； 通过上述移动单元，只在距离与上述多个光源的间隔大致一致的基准区间内 移动上述曝光头，同时上述曝光控制单元根据上述各通道曝光数据，使上述 多个光源射出曝光用光，在上述多个光源的一部分处于不发光状态的情况下， 通过如下方式形成上述被曝光区域生成上述各通道曝光数据，以便以除了 上述基准区间内以外，还在插补区间内移动曝光头，同时使用从上述多个单 元中确定的处于发光状态的特定光源所射出的上述曝光用光的方式形成上述 被曝光区域，其中，上述插补区间位于上述基准区间前后侧中的至少一侧， 并与上述基准区间连续设置，且具有上述基准区间的自然数倍数的距离，上述特定光源是根据处于上述不发光状态的光源的存在位置来确定的；通过上 述移动单元，在上述基准区间及上述插补区间内移动上述曝光头，同时上述 曝光控制单元根据上述各通道曝光数据，使上述特定光源射出曝光用光。技术方案2的专利技术如技术方案1所述的曝光装置，其特征在于，还具有 不发光检测单元，该不发光检测单元用于检测上述多个光源处于不发光状态 根据上述不发光检测单元的检测内容，确定上述曝光头的移动范围和使用于 曝光的上述特定光源。技术方案3的专利技术如技术方案1或技术方案2中所述的曝光装置，其特 征在于，在上述基准区间的前后侧设定有上述插补区间，在上述多个光源中， 处于不发光状态的光源均都是在上述配置方向上的配置顺序为奇数或偶数的 光源的情况下，以只使用配置顺序的奇偶与上述处于不发光状态的光源相反 的光源来进行曝光的方式，生成上述各通道曝光数据。技术方案4的专利技术如技术方案1 技术方案3中任一项所述的曝光装置，其特征在于，在上述基准区间的前后侧设定有上述插补区间，在处于不发光 状态的光源中同时存在上述配置顺序为奇数的光源和偶数的光源且任何光源 都不相邻的情况下，生成上述各通道曝光数据，以便在上述插补区间内移动 上述曝光头的期间内，通过与上述处于不发光状态的光源相邻的任一光源， 对本应该由上述处于不发光状态的光源来进行曝光的区域进行曝光。技术方案5的专利技术如技术方案1 技术方案3中任一项所述的曝光装置， 其特征在于，在上述基准区间的前后侧设定有上述插补区间，在处于不发光 状态的光源中同时存在配置顺序为奇数的光源和偶数的光源且任一两个光源 相邻的情况下，生成上述各通道曝光数据，以便在上述插补区间内移动上述 曝光头的期间内，通过与各自的上述处于不发光状态的光源相邻的处于发光 状态的光源，对本应该由与处于上述不发光状态的相邻的光源来进行曝光的 区域进行曝光。技术方案6的专利技术如技术方案1 技术方案3中任一项所述的曝光装置， 其特征在于，上述基准区间的后侧的上述插补区间的距离比上述基准区间的 距离长。技术方案7的专利技术如技术方案1或技术方案2中所述的曝光装置，其特 征在于，在上述基准区间的后侧设定有上述插补区间，在存在处于不发光状态的光源的情况下，生成上述各通道曝光数据，以便在上述插补区间内移动 上述曝光头的期间内，通过与上述处于不发光状态的光源距离最近的处于发 光状态的光源，对本应该由处于不发光状态的光源来进行曝光的区域进行曝 光。根据技术方案1至技术方案7的专利技术，即使多个光源中的一部分因损坏等而变为不发光状态，也能够继续进行 图像记录处理而不用停止装置，直到更换时为止。附图说明图1是表示第一实施方式的CTP装置100的主要动作部分的立体图。图2是示意地表示CTP装置100的动作控制的要素的框图。图3是说明CTP装置IOO在图像记录时的基本的动作的图。图4是说明CTP装置100在图像记录时的基本的动作的图。图5是表示曝光头5的位置与因曝光而被记录的小图像之间的关系的图。图6是表示在正常状态中，曝光头移动区间、各通道的激光二极管31的发光/不发光状态以及各通道的图像记录内容之间的关系的图。图7A、图7B和图7C是例示在存在不发光状态的通道的第一状态中，各通道的发光状态和各通道的图像记录内容本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光装置，用于对被曝光体进行曝光，其特征在于，具有：保持体，用于保持被曝光体；多个光源，能够同时射出曝光用光；曝光头，在配置方向上以等间隔离散配置有上述多个光源，上述配置方向是沿着上述被曝光体的方向；移动单元，使上述曝光头沿着上述被曝光体移动；曝光数据输入单元，取得记录有对被曝光体的曝光内容的全部曝光数据；各通道曝光数据生成单元，根据上述全部曝光数据，生成各通道曝光数据，上述各通道曝光数据记录有上述多个光源各自的曝光内容；曝光控制单元，控制上述多个光源，以使上述多个光源按照上述各通道曝光数据的记录内容射出曝光用光；其中，在上述多个光源全部处于发光状态的情况下，通过如下方式形成上述被曝光区域：生成上述各通道曝光数据，以便使用所有上述多个光源所射出的上述曝光用光来形成被曝光区域；通过上述移动单元，只在距离与上述多个光源的间隔大致一致的基准区间内移动上述曝光头，同时上述曝光控制单元根据上述各通道曝光数据，使上述多个光源射出曝光用光，在上述多个光源的一部分处于不发光状态的情况下，通过如下方式形成上述被曝光区域：生成上述各通道曝光数据，以便以除了上述基准区间内以外，还在插补区间内移动曝光头，同时使用从上述多个单元中确定的处于发光状态的特定光源所射出的上述曝光用光的方式形成上述被曝光区域，其中，上述插补区间位于上述基准区间前后侧中的至少一侧，并与上述基准区间连续设置，且具有上述基准区间的自然数倍数的距离，上述特定光源是根据处于上述不发光状态的光源的存在位置来确定的；通过上述移动单元，在上述基准区间及上述插补区间内移动上述曝光头，同时上述曝光控制单元根据上述各通道曝光数据，使上述特定光源射出曝光用光。...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：安田悟，藤本守，岩佐博司，
申请(专利权)人：大日本网目版制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]