一种化学尾气吸收仪制造技术

技术编号:10079390 阅读:201 留言:0更新日期:2014-05-25 00:02
本实用新型专利技术公开一种化学尾气吸收仪,吸收仪包括一壳体,壳体上部一侧开有进气口,进气口下部设置有喷淋室,尾气由进气口经过喷淋室后通过喷淋室下端流向第一吸收室,与第一吸收室相串联的设置有第二吸收室和第三吸收室,尾气由第一吸收室经第二吸收室最终流向第三吸收室后由排气口排出,排气口设置在所述壳体底部一侧。本实用新型专利技术的化学尾气吸收仪,设置有喷淋室,将尾气温度降到室温,首先净化掉与水发生反应或者可以被水吸收的尾气,完成初步净化;接着设置吸收室,在吸收室内设置氧化剂或者卤素作为吸收剂吸收掉剩余的尾气,设置多个吸收室,多重净化,操作简单,净化程度高,满足现代社会高效、绿色、环保的主题要求。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开一种化学尾气吸收仪,吸收仪包括一壳体,壳体上部一侧开有进气口,进气口下部设置有喷淋室,尾气由进气口经过喷淋室后通过喷淋室下端流向第一吸收室,与第一吸收室相串联的设置有第二吸收室和第三吸收室,尾气由第一吸收室经第二吸收室最终流向第三吸收室后由排气口排出,排气口设置在所述壳体底部一侧。本技术的化学尾气吸收仪,设置有喷淋室,将尾气温度降到室温,首先净化掉与水发生反应或者可以被水吸收的尾气,完成初步净化;接着设置吸收室,在吸收室内设置氧化剂或者卤素作为吸收剂吸收掉剩余的尾气,设置多个吸收室,多重净化,操作简单,净化程度高,满足现代社会高效、绿色、环保的主题要求。【专利说明】一种化学尾气吸收仪
本技术涉及一种气相沉积法吸收尾气装置。
技术介绍
化学气相沉积(Chemicalvapordeposition,简称CVD)是反应物质在气态条件下发生化学反应,生成固态物质沉积在加热的固态基体表面,进而制得固体材料的工艺技术。它本质上属于原子范畴的气态传质过程。与之相对的是物理气相沉积(PVD)。化学气相沉积是一种制备材料的气相生长方法,它是把一种或几种含有构成薄膜元素的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种化学尾气吸收仪,其特征在于:所述吸收仪包括有一壳体,所述壳体顶部一侧设置有进气口、并在底部另一侧设置有排气口,所述壳体内设置有从右至左依次相连的喷淋室、第一吸收室、第二吸收室和第三吸收室,所述喷淋室与所述进气口相连,所述排气口与所述第三吸收室相连。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张祖鹰
申请(专利权)人:南京化工职业技术学院
类型:实用新型
国别省市:

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