一种改进服饰结构制造技术

技术编号:9996190 阅读:104 留言:0更新日期:2014-05-02 22:51
本实用新型专利技术涉及一种改进的服饰结构。现有的服饰结构单一,服饰上通常设置由激光打印、印制或缝制的一些平面logo,比较平凡,不易突出重点。本实用新型专利技术提供一种改进的服饰结构,其特征在于在服饰面层的上层还设有一硅胶层。所述的缓冲层形成多个对称的缓冲模块,所述缓冲模块与硅胶层之间设置空气层。所述相邻的缓冲模块之间设有间隔槽。所述的缓冲层由EVA或发泡材料制成。本实用新型专利技术在服饰面层上设置3d硅胶层,3d硅胶层可以是图案或各种logo,起到醒目的视觉效果。硅胶层的设计也提升了服装的耐磨耐滑性能,替身了服饰品质。在硅胶层内部设置缓冲层起缓冲防护作用,避免受重击或硬物碰撞后磨损或受伤。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:赵军
申请(专利权)人:杭州福星工贸有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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