【技术实现步骤摘要】
本技术涉及超薄纳米晶带材，具体为一种可使超薄纳米晶带材均匀受热的热处理装置
技术介绍
1、超薄纳米晶材料是一种新型材料，具有独特的物理、化学和机械性能。其厚度一般在1-100纳米范围内，晶粒尺寸也在纳米级别，因此具有极高的表面积和界面活性，而由于在制备的过程中存在晶粒长大和氧化等问题，其性能往往无法得到充分的发挥，因此需要一种可使超薄纳米晶带材均匀受热的热处理装置。
2、现检索到申请号为：cn201920362088.x一种超薄纳米晶带材热处理装置，通过换热器将燃烧室中排放的废热进行回收，并回流至预热室对带材进行预热，可以较少加热室所需的燃气量从而节约能源。
3、但现有的热处理装置在实际使用时还存在一定缺陷:在对带材进行热处理的过程中，由于带材在出现温差过大的情况时，会出现带材断裂或者是质量不合格等情况发生，而同时带材在进行热处理的过程中，由于带材在出现附着杂质进行热处理时，会导致杂质融化与带材之间相互附着，而造成带材出现损伤，为此，我们提出一种可使超薄纳米晶带材均匀受热的热处理装置。
技术实现思路
1、为了弥补以上的不足，本技术提供了一种可使超薄纳米晶带材均匀受热的热处理装置，旨在改善在对带材进行热处理的过程中，由于带材在出现温差过大的情况时，会出现带材断裂或者是质量不合格等情况发生，而同时带材在进行热处理的过程中，由于带材在出现附着杂质进行热处理时，会导致杂质融化与带材之间相互附着，而造成带材出现损伤的问题。
2、本技术通过以下技术方案予以实
3、进一步的，所述保护壳内部放置有步进电机，且所述步进电机通过履带与放卷支架相互连接。
4、进一步的，所述加热箱位于放卷支架的一侧设置有闭合门，且所述闭合门远离放卷支架的一侧设置有第一放置室，所述第一放置室远离闭合门的一侧设置有隔热垫块，且所述隔热垫块远离放置室的一侧设置有预热室，所述预热室的下方设置有加热室，且所述加热室远离隔热垫块的一侧设置有冷却室，所述冷却室远离加热室的一侧设置有第二放置室，且所述第二放置室的上方设置有第二抽风机。
5、进一步的，所述放卷支架内部中心处安装有连接辊，且所述放卷支架位于保护壳的一侧设置有固定盘，所述固定盘的外表面安装有闭合板。
6、进一步的，所述加热箱位于保护壳的一侧设置有换热器，且所述换热器和所述加热箱中心处安装有隔热板，且所述隔热板的下方设置有加热器，所述加热器的外表面设置有隔热外罩。
7、进一步的，所述冷却室位于换热器的一侧设置有驱动电机，且所述驱动电机的输出端设置有齿轮，且所述齿轮远离驱动电机的一侧设置有冷却辊。
8、进一步的，所述预热室内壁安装有加热管，且所述加热管的中心处设置有第一支撑辊，所述加热室内壁安装有加热板，且所述加热室内部的中心处安装有第二支撑辊。
9、本技术提供了一种可使超薄纳米晶带材均匀受热的热处理装置，具备以下有益效果：
10、该一种可使超薄纳米晶带材均匀受热的热处理装置，采用加热箱，可以对输送的带材进行热处理，从而有效的避免了，带材在进行热处理的过程之中带材表面无法全部受到热处理而出现的带材损坏，且配合着预热箱、加热箱和冷却箱，可以使带材在进行加热时，可以提前控制带材本身进行加热，从而避免带材直接进行热处理而出现的热处理不及时，同时通过加热箱内部的上下加热板，对带材进行上下方位的加热，以避免出现带材的部分缺少热处理的时间，以便更好的满足实际使用需求，其具体内容如下：
11、该一种可使超薄纳米晶带材均匀受热的热处理装置，采用第一放置室，可以对带材进行密封，从而有效的避免在进行输送的过程中，有杂质附着在带材表面上跟随进行热处理，而配合第一抽风机和第二抽风机，可以对第一放置室内部的放卷支架内部的灰尘进行抽取，而第二抽风机可以对第二放置室内部的热量进行吸附，从而维持带材在进行热处理时，防止带材受到杂质和温度等情况的影响。
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1.一种可使超薄纳米晶带材均匀受热的热处理装置，包括底座(1)和加热箱(5)，其特征在于：所述底座(1)的上方设置有放卷支架(2)，且所述加热箱(5)设置于放卷支架(2)的输送端的一侧，所述加热箱(5)远离放卷支架(2)的一侧设置有收卷支架(8)，且所述加热箱(5)的上方设置有第一抽风机(6)，且所述底座(1)的左侧设置有保护壳(3)，所述放卷支架(2)远离加热箱(5)的一侧设置有阻隔板(4)，所述加热箱(5)位于放卷支架(2)的一侧设置有闭合门(701)，且所述闭合门(701)远离放卷支架(2)的一侧设置有第一放置室(7)，所述第一放置室(7)远离闭合门(701)的一侧设置有隔热垫块(702)，且所述隔热垫块(702)远离放置室的一侧设置有预热室(13)，所述预热室(13)的下方设置有加热室(16)，且所述加热室(16)远离隔热垫块(702)的一侧设置有冷却室(19)，所述冷却室(19)远离加热室(16)的一侧设置有第二放置室(25)，且所述第二放置室(25)的上方设置有第二抽风机(26)。
2.根据权利要求1所述的一种可使超薄纳米晶带材均匀受热的热处理装置，其特征
3.根据权利要求2所述的一种可使超薄纳米晶带材均匀受热的热处理装置，其特征在于：所述放卷支架(2)内部中心处安装有连接辊(9)，且所述放卷支架(2)位于保护壳(3)的一侧设置有固定盘(10)，所述固定盘(10)的外表面安装有闭合板(11)。
4.根据权利要求3所述的一种可使超薄纳米晶带材均匀受热的热处理装置，其特征在于：所述加热箱(5)位于保护壳(3)的一侧设置有换热器(21)，且所述换热器(21)和所述加热箱(5)中心处安装有隔热板(2101)，且所述隔热板(2101)的下方设置有加热器(22)，所述加热器(22)的外表面设置有隔热外罩(2201)。
5.根据权利要求4所述的一种可使超薄纳米晶带材均匀受热的热处理装置，其特征在于：所述冷却室(19)位于换热器(21)的一侧设置有驱动电机(23)，且所述驱动电机(23)的输出端设置有齿轮(24)，且所述齿轮(24)远离驱动电机(23)的一侧设置有冷却辊(20)。
6.根据权利要求5所述的一种可使超薄纳米晶带材均匀受热的热处理装置，其特征在于：所述预热室(13)内壁安装有加热管(14)，且所述加热管(14)的中心处设置有第一支撑辊(15)，所述加热室(16)内壁安装有加热板(18)，且所述加热室(16)内部的中心处安装有第二支撑辊(17)。
...【技术特征摘要】
1.一种可使超薄纳米晶带材均匀受热的热处理装置，包括底座(1)和加热箱(5)，其特征在于：所述底座(1)的上方设置有放卷支架(2)，且所述加热箱(5)设置于放卷支架(2)的输送端的一侧，所述加热箱(5)远离放卷支架(2)的一侧设置有收卷支架(8)，且所述加热箱(5)的上方设置有第一抽风机(6)，且所述底座(1)的左侧设置有保护壳(3)，所述放卷支架(2)远离加热箱(5)的一侧设置有阻隔板(4)，所述加热箱(5)位于放卷支架(2)的一侧设置有闭合门(701)，且所述闭合门(701)远离放卷支架(2)的一侧设置有第一放置室(7)，所述第一放置室(7)远离闭合门(701)的一侧设置有隔热垫块(702)，且所述隔热垫块(702)远离放置室的一侧设置有预热室(13)，所述预热室(13)的下方设置有加热室(16)，且所述加热室(16)远离隔热垫块(702)的一侧设置有冷却室(19)，所述冷却室(19)远离加热室(16)的一侧设置有第二放置室(25)，且所述第二放置室(25)的上方设置有第二抽风机(26)。
2.根据权利要求1所述的一种可使超薄纳米晶带材均匀受热的热处理装置，其特征在于：所述保护壳(3)内部放置有步进电机(12)，且所述步进电机(12)通过履带与放卷支架(2)相互连接。
3.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员：江沐风，王倩雯，韩璧娈，江向荣，
申请(专利权)人：上海天新纳米技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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