光照射装置和光照射方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了光照射装置和光照射方法。所述光照射装置包括：光源，其允许光照射具有记录层和位于该记录层上层侧的覆盖层的全息记录介质，在所述记录层和通过信号光和参考光的干涉带记录信息；空间光调制器，其对来自所述光源的光执行空间光调制，以生成所述信号光和／或参考光；以及光照射单元，其允许受到所述空间光调制器的空间光调制的光作为记录／再现光通过物镜照射所述全息记录介质，其中，所述记录／再现光的聚焦位置被设置为使得从所述全息记录介质的表面到所述记录／再现光的聚焦位置的距离小于从所述表面到所述记录层的下层侧表面的距离。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在全息记录介质上执行光照射的。
技术介绍
日本未审查专利申请公开No. 2007-79438公开了 一种通过形成全息图(hologram)来执行数据记录的全息记录和再现方案。在该全息记录和再现方案中，在记录时，生成信号光和参考光，信号光受到根据所记录的数据的空间光强度调制(强度调制)，参考光具有预先定义的预定光强度图样，并且，信号光和参考光被允许对全息记录介质进行照射，从而通过在记录介质上形成全息图来执行数据记录。 另外，在再现时，允许参考光对记录介质照射。以这种方式，允许与记录时相同的参考光(具有与记录时相同的强度图样)对在记录时响应于信号光和参考光的照射而形成的全息图进行照射，从而可以获得根据所记录的信号光组分的衍射光。换言之，可以获得根据所记录的数据的再现图像(再现光)。所获得的再现光例如通过诸如CCD(电荷耦合器件)传感器或CMOS(互补金属氧化物半导体)之类的图像传感器被检测，从而可以执行所记录的数据的再现。 另外，作为一种公知的全息记录和再现方案，存在所谓的同轴型，其中参考光和信号光被布置在相同的光轴上，以便通过公共的物镜对全息记录介质照射。 图32、33A和33B是示出同轴型全息记录和再现方案的图。图32图示出记录方法，而图33A和33B图示出再现方法。 另外，在图32、33A和33B中，具有反射层的反射型全息记录介质100被示出。 首先，如图32、33A和33B所示，在全息记录和再现系统中，SLM(空间光调制器)101被提供，以便在记录时生成信号光和参考光并在再现时生成参考光。SLM 101被配置为包括一强度调制器，该强度调制器以像素为单位对入射光执行光强度调制。该强度调制器可以利用例如液晶等来构造。 如图32所示，在记录时，通过SLM 101的强度调制生成信号光和参考光，信号光被分配以根据所记录的数据的强度图样，参考光被分配以预先定义的预定强度图样。在同轴型中，如图所示，信号光和参考光被布置在同一光轴上，并且对入射光执行空间光调制。在此情况下，如图所示，一般而言，信号光被布置在内侧，参考光被布置在外侧。 由SLM 101生成的信号光和参考光被允许通过物镜102照射全息记录介质100。结果，通过信号光和参考光的干涉带(interference fringe)在全息记录介质100上形成代表所记录的数据的全息图。换言之，由于形成全息图，数据被记录。 另一方面，在再现时，如图33A所示，在SLM 101中生成参考光(此时，参考光的强度图样与记录时相同)。然后，允许参考光通过物镜102照射全息记录介质100。 以这种方式，如图33B所示，响应于参考光对全息记录介质100的照射，获得根据在全息记录介质100上形成的全息图的衍射光，从而可以获得对应于所记录的数据的再现图像。在此情况下，作为来自全息记录介质100的反射光的再现图像被通过物镜102引导至图像传感器103中，如图所示。 图像传感器103以像素为单位接收被引导的再现图像，以获得与每个像素接收的光量相对应的电信号，从而获得与再现图像相对应的检测图像。由图像传感器103检测到的图像信号成为与所记录的数据相对应的读取信号。 另外，根据图32、33A和33B的描述可以理解，在该全息记录和再现方案中，所记录在数据是以信号光为单位来记录和再现的。换言之，在该全息记录和再现方案中，通过信号光和参考光的一次干涉所形成的一张全息图(称之为全息页)是记录和再现的最小单位。 这里，考虑以全息页为单位在全息记录介质100上顺序记录数据的技术。 在诸如CD(压縮盘)或DVD(数字多功能盘)之类现有技术的光盘系统中，记录介质被配置为具有盘形，并且数据的记录是通过在盘上以旋转方式形成标记(mark)来执行的。在此情况下，在记录介质上以螺旋形状或同心形状形成引导沟槽(轨道)，并且形成标记以控制光斑的位置来跟踪轨道，从而数据被记录在记录介质上的预定位置。 在该全息记录和再现系统中，还考虑采用如下技术在盘形的全息记录介质100上以螺旋形状或同心形状形成轨道，并且通过在全息记录介质100上顺序形成全息图来在轨道上形成全息页，所述全息图响应于信号光和参考光的照射被驱动旋转。 以这种方式，在采用在轨道上的多个位置上形成全息页的方法的情况下，有必要执行记录和再现位置的控制，例如用于跟踪轨道中的光斑的跟踪伺服控制或对预定地址的访问控制。 在当前状态下，为了执行记录和再现位置的控制，考虑专用激光的分开照射。换言之，考虑如下方法允许用于记录和再现全息图的激光(用于信号光和参考光的照射的激光，例如记录/再现激光)和用于控制全息图记录和再现位置的激光(位置控制激光)分开照射。 以这种方式，与允许位置控制激光分开照射的方法相对应的全息记录介质100实际上被配置为具有图34所示的结构。 如图34所示，在全息记录介质100中，记录层106和位置控制信息记录层被分开形成，其中在记录层106上记录全息图，并且在位置控制信息记录层上记录通过基底110的凹凸截面结构所进行的位置控制的地址信息等。 更具体而言，在全息记录介质100中按从上到下的顺序依次形成覆盖层105、记录层106、反射层107、中间层108、反射层109和基底110。形成在记录层106的下层的反射层107是这样布置的在再现时，允许作为记录/再现激光的参考光照射反射层107，并且当要根据记录在记录层106上的全息图获得再现图像时，允许作为反射光的再现图像返回到装置一侧。 另外，在基底110上以螺旋形状或同心形状形成用于引导记录层106中的全息图记录和再现位置的轨道。例如，轨道是通过坑列(pit column)形成的，以便记录诸如地址信息之类的信息。 形成在基底110的上层的反射层109被布置，以便获得针对记录在基底110上的信息的反射光。另外，中间层108是利用例如诸如树脂之类的粘性材料构造的。 这里，在具有前述截面结构的全息记录介质100中，为了适当地基于位置控制激光的反射光来执行位置控制，位置控制激光必须到达反射层109，该反射层109上形成有凹凸截面形状。换言之，为此，位置控制激光必须透过形成在反射层109上层的反射层107。 另一方面，反射层107必须反射记录/再现激光，以允许根据记录在记录层106上的全息图的再现图像作为反射光返回到装置一侧。 考虑到这一点，作为位置控制激光，要使用具有与全息图记录/再现激光不同的波长的激光。例如，使用波长A约为405nm的蓝紫色激光作为全息图记录/再现激光，并且例如使用波长A约为650nm的红色激光作为位置控制激光。 另外，具有波长选择性的反射层被用作形成在记录层106和记录了位置控制信息的反射层109之间的反射层107，其中具有波长选择性的反射层107反射用于记录和再现的蓝紫色激光并透射用于位置控制的红色激光。 根据该配置，在记录或再现时，位置控制激光到达反射层109，从而使得用于位置控制的反射光信息能够在装置一侧被适当地检测，并且使得记录在记录层106上的全息图的再现图像能够在装置一侧被适当地检测。 图35示出一种现有技术情况下的记录和再现装置的示意性配置(主要仅针对光学系统)，在该现有技术情况下，记录和再现是与具有前述结构的全息记录介质100相对应地执行的。 首本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光照射装置，包括：光源，其允许光照射具有记录层和位于该记录层上层侧的覆盖层的全息记录介质，在所述记录层中通过信号光和参考光的干涉带而记录了信息；空间光调制器，其对来自所述光源的光执行空间光调制，以生成所述信号光和／或参考光；以及光照射单元，其允许经所述空间光调制器空间光调制的光作为记录／再现光通过物镜照射所述全息记录介质，其中，所述记录／再现光的聚焦位置被设置为使得从所述全息记录介质的表面到所述记录／再现光的聚焦位置的距离小于从所述表面到所述记录层的下层侧表面的距离。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：山川明朗，田中健二，伊藤辉将，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]