【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】电光调制器
本专利技术涉及一种用于调制电磁辐射束的谐振驻波电光调制器(EOM)。
技术介绍
EOM被构造成修改例如激光束的相位或频率或偏振或振幅。它们被用于比如光通信和科学仪器的各种应用中。谐振驻波电光调制器包括壳体,所述壳体带有布置于其中的一块晶体电光材料。所述壳体形成用于调制能量(例如微波能量)的驻波的谐振腔,所述调制能量的驻波引起晶体材料的折射率的改变。微波能量通常与待调制的激光辐射相位匹配或准相位匹配。通常通过延伸至腔中的耦合元件(比如杆或销)将调制能量引入至壳体中。然而,耦合元件本身可能引起调制能量的场畸变,其可能导致调制效率的降低和/或被调制激光束轮廓的畸变和/或被调制激光束的偏转。从US5,414,552已知一种用于激光辐射束的谐振驻波电光调制器。已经发现,对于大于6GHz的微波频率,已知的电光调制器可能在驻波调制场中显现出缺陷。这可能是由于与晶体块和/或杆有关的尺寸限制而引起的。
技术实现思路
因此,本专利技术的一个目的是提供一种替代的或改进的电光调制器,所述电光调制器被特别地用于具有较高的频率的应用,比如大于6GHz的频率,特别地大于7GHz的频率。通过根据权利要求1或权利要求13的电光调制器以及根据权利要求12的生产电光调制器的方法实现所述目的。分别在从属权利要求中指出本专利技术的进一步的发展。也可以通过在下面或在装置的从属权利要求中指出的特征进一步发展所述方法,反之亦然,或者装置的特征也可以被用于进一步发展彼此。在本专利技术的一个实施例中,提供 ...
【技术保护点】
1.一种用于调制具有束路径和束轴线(A)的电磁辐射束的电光调制器,其中所述电光调制器(1)为横向型并且包括:/n调制器元件(3),所述调制器元件(3)定位于所述束路径中,/n用于接收所述调制器元件(3)的壳体(2),所述壳体(2)形成谐振腔,以及/n耦合装置(4),所述耦合装置(4)用于将调制能量输入至所述壳体(2)中,以使得在所述壳体(2)内生成谐振驻波,/n其中所述壳体(2)包括在长度(L)上大致平行于所述束轴线(A)延伸的至少一个侧壁(13,14,15,16,21,22,25,26,31,32,35,36,41,42,45,46,51,52),以及/n其中所述至少一个侧壁(13,14,15,16,21,22,25,26,31,32,35,36,41,42,45,46,51,52)包括变形部分(21b,25b,26b,31b,32b,35b,36b,41b,42b,45,46,51b,52b),以使得在所述谐振腔中所述侧壁与所述束轴线(A)之间的沿垂直于所述束轴线(A)的方向的距离(d
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171219 EP 17208663.91.一种用于调制具有束路径和束轴线(A)的电磁辐射束的电光调制器,其中所述电光调制器(1)为横向型并且包括:
调制器元件(3),所述调制器元件(3)定位于所述束路径中,
用于接收所述调制器元件(3)的壳体(2),所述壳体(2)形成谐振腔,以及
耦合装置(4),所述耦合装置(4)用于将调制能量输入至所述壳体(2)中,以使得在所述壳体(2)内生成谐振驻波,
其中所述壳体(2)包括在长度(L)上大致平行于所述束轴线(A)延伸的至少一个侧壁(13,14,15,16,21,22,25,26,31,32,35,36,41,42,45,46,51,52),以及
其中所述至少一个侧壁(13,14,15,16,21,22,25,26,31,32,35,36,41,42,45,46,51,52)包括变形部分(21b,25b,26b,31b,32b,35b,36b,41b,42b,45,46,51b,52b),以使得在所述谐振腔中所述侧壁与所述束轴线(A)之间的沿垂直于所述束轴线(A)的方向的距离(d1,d2,d3,d4,d5,c1,c2,c3,c4)在所述侧壁的长度(L)的至少一部分上变化。
2.根据权利要求1所述的电光调制器,其特征在于,所述壳体(2)包括各自在长度(L)上大致平行于所述束轴线(A)延伸的四个侧壁(13,14,15,16,21,22,25,26,31,32,35,36,41,42,45,46,51,52)以及大致垂直于所述束轴线(A)布置的前面和后面(11,12)。
3.根据权利要求1或2所述的电光调制器,其特征在于,所述壳体(2)的至少一个侧壁(21,31,41)包括至少一个变形部分(21b)和至少一个非变形部分(21a,31a,41a),其中所述变形部分(21b)距所述束轴线(A)具有第二距离(d2)并且所述非变形部分(21a,31a,41a)距所述束轴线(A)具有第一距离(d1)并且所述第二距离(d2)超过所述第一距离(d1),并且所述变形部分(21b)被构造成容置所述耦合装置(4),特别地以使得所述耦合装置(4)被远离所述束轴线(A)布置于所述未变形部分(21a,31a,41a)的延伸部之外。
4.根据权利要求1至3中的一项所述的电光调制器,其特征在于,所述至少一个侧壁(25,26,31,32,35,36,45,46,51,52)的变形部分(25b,26b,31b,32b,35b,36b,45,46,51b,52b)沿垂直于所述束轴线(A)的方向(x)局部地减小或增大所述谐振腔的尺寸。
5.根据权利要求1至4中的一项所述的电光调制器,其特征在于,所述至少一个侧壁(41,42)的变形部分(41b,42b)沿垂直于所述束轴线(A)的方向(x)局部地移位所述谐振腔。
6.根据权利要求1至5中的一项所述的电光调制器,其特征在于,所述壳体(2)的至少两个侧壁(25,26,31,32,35,36,41,42,45,46,51,52)包括变形部分(25b,26b,31b,32b,35b,36b,41b,42b,45,46,51b,52b),所述侧壁(25,26,31,32,35,36,41,42,45,46,51,52)布置于所述调制器元件(3)的相对的侧上。
7.根据权利要求1至6中的一项所述的电光调制器,其特征在于,所述至少一个侧壁(21,25,26,31,32,35,36,41,42,45,46,51,52)的所述至少一个变形部分(21b,25b,26b,31b,32b,35b,36b,41b,42b,45,46,51b,52b)被构造成影响调制能量的谐振驻波场,特别地被构造成补偿调制能量的谐振驻波场的畸变。
8.根...
【专利技术属性】
技术研发人员:E·福格特,D·佩尔托特,
申请(专利权)人:奎比格有限公司,
类型:发明
国别省市:德国;DE
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