一种碲化镉薄膜电池表面清洗预处理工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种碲化镉薄膜电池表面清洗预处理工艺，其包括以下步骤：使用含氧化剂的第一清洗液清洗薄膜基板；使用纯水清洗薄膜基板；干燥薄膜基板以除去薄膜基板表面的液体；在薄膜基板表面添加氯化镉水溶液。第一清洗液具有一定的氧化作用，使得碲化镉层表面更亲水，同时也可起到清洁碲化镉层表面的作用，通过此方法清洗过的膜面，表面添加的氯化镉水溶液分布得更均匀，氯化镉的结晶聚合更细，高温处理后外观上不会留下暗斑，由此可改善碲化镉薄膜电池膜面外观以及提升电池转换效率。

A Pretreatment Process for Cadmium Telluride Thin Film Battery Surface Cleaning

【技术实现步骤摘要】
一种碲化镉薄膜电池表面清洗预处理工艺
本专利技术涉及碲化镉薄膜电池生产
，特别是碲化镉薄膜电池表面清洗预处理工艺。
技术介绍
现有的工艺流程，要获得更高效的碲化镉薄膜太阳能电池，需要对薄膜基板使用氯化镉溶液处理后高温活化，而在用氯化镉溶液处理时，薄膜表面的氯化镉重结晶较为严重，高温活化后，有结晶的区域会在膜面留下暗斑，氯化镉溶液在膜面分布不均匀的地方会留下水纹印记。高温活化后这些印记很难清洗掉，这样对产品的外观有影响，同时氯化镉在表面分布的均匀性也会影响电池转换效率。为改善产品外观，提高电池转换效率，有必要改进碲化镉膜面清洗预处理技术，用以改善膜面外观及提升电池转换效率。
技术实现思路
本专利技术提供一种碲化镉薄膜电池表面清洗预处理工艺，用以改善碲化镉薄膜电池膜面外观以及提升电池转换效率。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种碲化镉薄膜电池表面清洗预处理工艺，用于处理薄膜基板，所述薄膜基板的表面具有碲化镉膜层，所述清洗预处理工艺包括以下步骤：步骤1，使用含氧化剂的第一清洗液清洗薄膜基板；步骤2，使用纯水清洗薄膜基板；步骤3，干燥薄膜基板以除去薄膜基板表面的液体；步骤4，在薄膜基板表面添加氯化镉水溶液。优选的，所述氧化剂为H2O2或者O3。优选的，所述第一清洗液中，H2O2的质量浓度为0.25％～10％，余量为水。优选的，步骤1中，通过冲洗法清洗薄膜基板,冲洗时间为5～60S,第一清洗液的温度为20～45℃。优选的，步骤2中，通过冲洗法清洗薄膜基板。优选的，步骤3中，通过烘干法或热风吹干法干燥薄膜基板。优选的，步骤4中，通过喷涂法或者辊涂法或者浸泡法在薄膜基板表面添加氯化镉水溶液。优选的，步骤4中，氯化镉水溶液中，氯化镉的质量浓度为13％～20％。本专利技术的有益效果是：本专利技术中，使用含氧化剂的第一清洗液清洗薄膜基板，第一清洗液具有一定的氧化作用，使得碲化镉层表面更亲水，同时也可起到清洁碲化镉层表面的作用，通过此方法清洗过的膜面，表面添加的氯化镉水溶液分布得更均匀，氯化镉的结晶聚合更细，高温处理后外观上不会留下暗斑，由此可改善碲化镉薄膜电池膜面外观以及提升电池转换效率。附图说明下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明：图1是本专利技术的工艺流程图。具体实施方式参照图1，一种碲化镉薄膜电池表面清洗预处理工艺，用于处理薄膜基板，该薄膜基板的表面具有碲化镉膜层，该清洗预处理工艺包括以下步骤：步骤1，使用含氧化剂的第一清洗液清洗薄膜基板；步骤2，使用纯水清洗薄膜基板；步骤3，干燥薄膜基板以除去薄膜基板表面的液体；步骤4，在薄膜基板表面添加氯化镉水溶液。经过上述步骤，即可完成碲化镉薄膜电池表面清洗预处理，以便进行下一步的高温活化。本专利技术中，氧化剂为H2O2，且H2O2的质量浓度为0.25％～10％，第一清洗液的余量为水。优选的，H2O2的质量浓度为0.9％～1.5％。含H2O2的第一清洗液可对碲化镉层具有一定的氧化性，使得碲化镉层表面更亲水，同时也可起到清洁碲化镉层表面的作用。H2O2的分解残留物为水，不会导致薄膜基板受到污染。此外，氧化剂亦可采用O3，其中，O3的含量为2～20mg/L。具体的，步骤1中，通过浸泡法或冲洗法清洗薄膜基板。浸泡法即将薄膜基板放入盛放有第一清洗液的第一容器中进行一段时间的浸泡，冲洗法则是通过喷头等装置将第一清洗液喷洒在薄膜基板上。当通过冲洗法清洗薄膜基板，冲洗时间为5～60S，第一清洗液的温度为20～45℃，当水温较高时，可相应缩短冲洗时间。例如，可选择第一清洗液的温度为35～40℃，冲洗时间为25～60S。通过浸泡法清洗薄膜基板时，浸泡时间为5～60S，第一清洗液的温度为20～45℃。为优化清洗效果，可将薄膜基板多次提出液面，亦可驱动薄膜基板在第一清洗液内移动或转动。在完成薄膜基板的清洗后，使用检测装置检测第一容器内的液体中所含氧化剂的浓度，当低于预设值时将添加更高浓度的第一清洗液。在步骤2中，亦可通过冲洗法或超声波清洗法清洗薄膜基板。冲洗时间为10～60S，依据水量的大小来调整时间，水量较大时可冲洗较短的时间，反之冲洗较长的时间。超声波清洗法即将薄膜基板置于盛放有纯水的第二容器，通过设置超声波装置来对薄膜基板进行震荡清洗。在完成薄膜基板的清洗后，使用检测装置检测第二容器内的液体中所含氧化剂的浓度，当超出预设值时将纯水更换。在步骤3中，可通过烘干法或热风吹干法干燥薄膜基板。优选采用热风吹干法，可提高薄膜基板的干燥效率，同时避免薄膜基板上产生水纹。在步骤4中，可通过喷涂法或者辊涂法或者浸泡法在薄膜基板表面添加氯化镉水溶液。氯化镉水溶液中，氯化镉的质量浓度为13％～20％，以15％～18％为佳。喷涂法即通过喷头等装置将氯化镉水溶液喷涂于薄膜基板的表面；辊涂法即将粘附有氯化镉水溶液的涂辊沿着薄膜基板滚压，以将氯化镉水溶液覆盖于薄膜基板的表面；浸泡法即将薄膜基板置入盛放有氯化镉水溶液的第三容器，然后将薄膜基板提出液面。上述实施例只是本专利技术的优选方案，本专利技术还可有其他实施方案。本领域的技术人员在不违背本专利技术精神的前提下还可作出等同变形或替换，这些等同的变型或替换均包含在本申请权利要求所设定的范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种碲化镉薄膜电池表面清洗预处理工艺，用于处理薄膜基板，所述薄膜基板的表面具有碲化镉膜层，其特征在于，所述清洗预处理工艺包括以下步骤：步骤1，使用含氧化剂的第一清洗液清洗薄膜基板；步骤2，使用纯水清洗薄膜基板；步骤3，干燥薄膜基板以除去薄膜基板表面的液体；步骤4，在薄膜基板表面添加氯化镉水溶液。

【技术特征摘要】
1.一种碲化镉薄膜电池表面清洗预处理工艺，用于处理薄膜基板，所述薄膜基板的表面具有碲化镉膜层，其特征在于，所述清洗预处理工艺包括以下步骤：步骤1，使用含氧化剂的第一清洗液清洗薄膜基板；步骤2，使用纯水清洗薄膜基板；步骤3，干燥薄膜基板以除去薄膜基板表面的液体；步骤4，在薄膜基板表面添加氯化镉水溶液。2.根据权利要求1所述的一种碲化镉薄膜电池表面清洗预处理工艺，其特征在于：所述氧化剂为H2O2或者O3。3.根据权利要求2所述的一种碲化镉薄膜电池表面清洗预处理工艺，其特征在于：所述第一清洗液中，H2O2的质量浓度为0.25％～10％，余量为水。4.根据权利要求1或2所述的一种碲化镉薄膜电池表面清洗预处理工艺，...

【专利技术属性】
技术研发人员：陶奎任，王大鹏，梅芳，牛改宇，高贵明，胡志刚，
申请(专利权)人：中山瑞科新能源有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44