The utility model relates to the technical field of precision cleaning equipment for semiconductor industry or optical precision parts, and discloses a spray-type high-frequency ultrasonic cleaning device, including a front case, in which a nozzle inner cone hole is constructed, an outer convex cone table is constructed at the back end, a shoulder is constructed at the front end of the back tube, and an outer expansion cone inclined plane is constructed at the lower end of the shoulder, and a front case is constructed. The back end is inserted into the front end of the back barrel to construct an annular receptacle. A liquid inlet port is constructed on the front shell. The outer inclined plane of the outer convex cone platform and the extended cone inclined plane of the shoulder are jointly constructed to form the first channel, which is connected with the annular receptacle. The piezoelectric oscillator is located on the upper end surface of the shoulder and is constructed between the lower surface of the piezoelectric oscillator and the back end surface of the front shell. The second channel is connected with the first channel and the conical hole in the nozzle respectively. The cleaning device has the advantages of high cleaning efficiency, high cleaning precision, small cavitation effect and no dead angle.
【技术实现步骤摘要】
一种喷淋式高频超声波清洗装置
本技术涉及半导体行业或光学精密件的精密清洗设备
,特别是涉及一种喷淋式高频超声波清洗装置。
技术介绍
超声波清洗技术是最为常用的工业清洗技术之一,传统的超声波清洗技术是通过20kHz-100kHz(千赫兹)的超声波在液体中产生的空化作用,对物体表面的污渍进行去除,从而达到清洗的目的。但超声波空化作用过强会对物体表面造成一定损伤,如在半导体器件、光学精密件等精密元器件的清洗中,由于器件表面有微结构,传统高频超声波清洗会对其表面造成损坏。另外,超声频率越高,清洗的杂质颗粒粒的直径就越小,最高频率为100kHz的传统超声波清洗液很难清洗1微米以下的杂质颗粒。频率高于400kHz的超声波在液体中传播时,能使被清洗部件的表面附近形成速度梯度很大且极薄的声学边界层,其杂质粒子受到液体兆赫频的震荡作用后会从器件的表面脱落,能够清洗掉元器件表面的微米以及亚微米级的杂质颗粒,实现超精密清洗。此外,高频超声波清洗过程由于极低的空化效应,对被清洗部件的表面不会产生损伤,能够有效地解决精密元器件清洗后造成的腐蚀或损伤破坏等现象。频率为900kHz-1000kHz的水槽式的超声波清洗是目前应用较普遍的高频超声波清洗装置。然而,当半导体晶圆或其它器件被清洗后的杂质颗粒不能及时地被排出槽外,就很有可能会造成杂质颗粒的二次附着,这就需要耗费大量的清洗液来完成器件的清洗。并且,高频超声波清洗水槽能够清洗的器件结构及部位受槽体尺寸以及高频超声波振源位置的限制,经常会存在清洗死角。另外,为了进一步提高清洗精度、清洗更小的杂质颗粒,该方式的高频超声波清洗装置很 ...
【技术保护点】
1.一种喷淋式高频超声波清洗装置,其特征在于,包括:前壳体,在所述前壳体的内部构造有供清洗液喷出的喷嘴内锥孔,在所述前壳体的后端构造有朝外侧凸出的外凸式锥台;后筒体,在所述后筒体内部的前端构造有朝所述后筒体的中心轴线方向凸出的台肩,其中,所述台肩的下端面构造成外扩式锥斜面,所述前壳体的后端插入到所述后筒体的前端的内部,从而构造出环形容纳腔,在所述前壳体对应所述环形容纳腔的部位构造有进液端口,所述外凸式锥台的外侧斜面与所述台肩的外扩式锥斜面共同构造成供清洗液流出的第一流道,所述第一流道与所述环形容纳腔连通;以及压电振子,所述压电振子设置在所述台肩的上端面,其中,所述压电振子的下表面与所述前壳体的后端的侧端面之间构造有供清洗液流出的第二流道,所述第二流道分别与所述第一流道以及所述喷嘴内锥孔连通。
【技术特征摘要】
1.一种喷淋式高频超声波清洗装置,其特征在于,包括:前壳体,在所述前壳体的内部构造有供清洗液喷出的喷嘴内锥孔,在所述前壳体的后端构造有朝外侧凸出的外凸式锥台;后筒体,在所述后筒体内部的前端构造有朝所述后筒体的中心轴线方向凸出的台肩,其中,所述台肩的下端面构造成外扩式锥斜面,所述前壳体的后端插入到所述后筒体的前端的内部,从而构造出环形容纳腔,在所述前壳体对应所述环形容纳腔的部位构造有进液端口,所述外凸式锥台的外侧斜面与所述台肩的外扩式锥斜面共同构造成供清洗液流出的第一流道,所述第一流道与所述环形容纳腔连通;以及压电振子,所述压电振子设置在所述台肩的上端面,其中,所述压电振子的下表面与所述前壳体的后端的侧端面之间构造有供清洗液流出的第二流道,所述第二流道分别与所述第一流道以及所述喷嘴内锥孔连通。2.根据权利要求1所述的喷淋式高频超声波清洗装置,其特征在于,所述进液端口的孔径大于所述第一流道的内孔径。3.根据权利要求1所述的喷淋式高频超声波清洗装置,其特征在于,所述压电振子的外径大于所述台肩的内孔径,并且,所述台肩的内孔径大于所述喷嘴内锥孔的进液端的内孔径。4.根据权利要求1所述的喷淋式高频超声波清洗装置,其特征在于,所述喷淋式高频超声波清洗装置还包括线路转接板,所述线路转接板沿所述后筒体的轴向设置在所述后筒体的内部...
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