干法刻蚀机台及干法刻蚀方法技术

本发明专利技术提供了一种干法刻蚀机台及干法刻蚀方法，所述干法刻蚀机台包括用于对基板进行刻蚀的制程腔，所述制程腔包括底板、升降部件、转动部件和承载部件，所述承载部件上设置有基板固定装置，进行干法刻蚀时，调整升降部件和转动部件，使基板的刻蚀面朝下，刻蚀用等离子体从底板上的气孔中释放并向上扩散至刻蚀面，该干法刻蚀机台可防止刻蚀过程中制程腔顶部和侧壁的杂质掉落至刻蚀面而影响刻蚀质量；本发明专利技术还提供了一种干法刻蚀方法，包括使用上述干法刻蚀机台对基板进行干法刻蚀的步骤，该方法可避免刻蚀过程中制程腔顶部和侧壁的杂质掉落至刻蚀面而影响刻蚀质量。

Dry etching machine and dry etching method

【技术实现步骤摘要】
干法刻蚀机台及干法刻蚀方法
本专利技术涉及显示面板制程领域，尤其涉及一种干法刻蚀机台及干法刻蚀方法。
技术介绍
在显示面板制造领域，需要使用干法刻蚀工艺去除基板表面材料，结合涂胶形状，刻蚀出具有特定图案的膜层，即实现膜层图案化。干法刻蚀的基本原理是利用辉光放电方式，产生包含离子、电子等带电粒子以及具有高度化学活性的中性原子、分子及自由基的电浆，与未被涂胶层覆盖的膜层反应。干法刻蚀工艺需要使用干法刻蚀机台来完成，干法刻蚀机台包括制程腔(PC,ProcessChamber)，制程腔内设置有下极板和上天板。进行干法刻蚀时，反应气体从上天板的气孔通入制程腔，并辉光放电产生等离子体，等离子体向下扩散，与置于下极板上的基板反应，从而对基板进行刻蚀。但现有的干法刻蚀工艺存在一定的不足，主要表现在，随着制程腔使用时间的延长，上天板表面和制程腔侧壁会出现起皮现象，另外一些来不及排除制程腔的生成物也会附着在上天板和制程腔侧壁上，这些起皮和生成物在刻蚀制程中掉落至基板表面，造成刻蚀图案异常，严重影响产品质量。
技术实现思路
为了解决上述干法刻蚀过程中的问题，本专利技术提供了一种干法刻蚀机台及干法刻蚀方法，可有效解决上述现有技术中的不足，提高产品质量。本专利技术提供了一种干法刻蚀机台，包括用于对基板进行干法刻蚀的制程腔，所述制程腔包括：底板，固定于所述制程腔的底部，所述底板上包括可供反应气体通入所述制程腔内部的气孔；升降部件，固定于所述制程腔内部侧壁，用于沿竖直方向升降基板；转动部件，位于所述制程腔内部，与所述升降部件连接，用于在竖直面内旋转基板；所述转动部件与所述升降部件组合使用，以实现将基板在所述制程腔内升降和/或旋转的操作；承载部件，位于所述制程腔内部，与所述转动部件连接，用于承载基板；其中，所述承载部件包括固定装置，所述固定装置用于将基板固定在所述承载部件上，以保证基板与所述承载部件之间在升降和/或旋转过程中无相对移动。根据本专利技术一实施例，所述底板上间隔设置有多个支撑柱，用于支撑所述转动部件。根据本专利技术一实施例，所述升降部件包括沿所述制程腔侧壁固定的第一竖直杆和可沿所述第一竖直杆升降的升降架。根据本专利技术一实施例，所述转动部件包括与所述升降部件固定连接的第一水平杆和可绕所述第一水平杆在竖直面旋转的转动轮，所述承载部件与所述转动轮固定连接，并可随所述转动轮在竖直面旋转。根据本专利技术一实施例，所述承载部件包括载物台，所述载物台承载基板的一面设置有可升降的顶针，所述顶针可伸出或缩入所述所述载物台。根据本专利技术一实施例，所述固定装置为沿所述承载部件相对两边设置的固定夹，所述固定夹包括第二水平杆、第二竖直杆、第三竖直杆和头部，所述第二水平杆与所述承载部件固定连接，所述第二竖直杆可沿所述第二水平杆水平移动，所述第三竖直杆可沿所述第二竖直杆竖直移动，所述头部固定在所述第三竖直杆上。本专利技术还提供了一种干法刻蚀方法，包括以下步骤：提供一干法刻蚀机台，包括用于对基板进行干法刻蚀的制程腔，所述制程腔包括设有气孔的底板、升降部件、与所述升降部件相连的转动部件、与所述转动部件相连的承载部件以及连接于所述承载部件上的固定装置；将基板通过固定装置固定于所述承载部件上；通过升降部件抬升所述基板至一定高度，使所述基板旋转时与所述底板和制程腔顶部无接触；通过转动部件转动所述基板，使所述基板的刻蚀面朝下；对所述制程腔进行抽真空处理；通过所述气孔向所述制程腔内释放等离子体，对所述基板进行刻蚀。根据本专利技术一实施例，所述承载部件上包括可伸出或缩入所述承载部件承载面的顶针，固定所述基板方法包括：首先将所述基板放置在伸出所述承载面的顶针上；然后将所述顶针回缩至所述承载面以下，从而使所述基板放置在所述承载面上；最后通过所述固定装置将所述基板固定在所述承载部件上。根据本专利技术一实施例，所述等离子体为氧等离子体。根据本专利技术一实施例，所述步骤还包括：完成刻蚀后，通过所述转动部件和所述升降部件将所述基板恢复至初始位置，并取出所述基板。本专利技术的有益效果为：通过在制程腔内设置升降部件和转动部件，使基板的刻蚀面朝向底板方向，并在底板上设置供反应气体通入的气孔，使等离子体由下向上扩散至基板，进行刻蚀，可防止刻蚀过程中制程腔顶部和侧壁的杂质掉落至基板刻蚀面，影响刻蚀质量。附图说明为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术实施例提供的干法刻蚀机台制程腔的结构示意图；图2是本专利技术实施例提供的紧固装置与载物台的连接结构示意图；图3是本专利技术实施例提供的紧固装置将基板固定在载物台上的结构示意图；图4是本专利技术实施例提供的干法刻蚀方法流程图；图5是本专利技术实施例提供的基板放置到载物台之前顶针的位置示意图；图6是本专利技术实施例提供的基板放置到载物台上的示意图；图7是本专利技术实施例提供的升降部件将基板抬升后的示意图；图8是本专利技术实施例提供的转动部件将基板旋转后的示意图。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。如图1所示，本专利技术实施例提供了一种干法刻蚀机台，所述干法刻蚀机台包括用于对基板进行干法刻蚀的制程腔100，所述制程腔100包括底板101、升降部件102、转动部件103和承载部件104。所述底板101固定于所述制程腔100的底部，并且所述底板101上包含可供反应气体通入所述制程腔100的气孔(图中未示出)，即本实施例提供的干法刻蚀机台的反应气体(电离后生成的等离子体)是从制程腔100的底部释放，并向上扩散。所述升降部件102固定于所述制程腔100的内部侧壁，优选地，所述升降部件102固定于所述制程腔100的开口对立面，所述升降部件102可沿竖直方向抬升/降落基板10。所述转动部件103位于所述制程腔100的内部，并与所述升降部件102连接，所述转动部件103可在竖直面内旋转所述基板10。所述转动部件103与所述升降部件102组合使用，可完成基板10在所述制程腔100内升降和/或旋转的操作，即通过所述升降部件102将基板10抬升，然后通过所述转动部件103将基板10旋转。本实施例提供的干法刻蚀机台可将待刻蚀的基板抬升至制程腔上部，并使待刻蚀基板的刻蚀面朝下，从而防止刻蚀过程中制程腔顶部和侧壁的杂质掉落到刻蚀面上，影响刻蚀质量。所述承载部件104位于所述制程腔100的内部，并与所述转动部件103连接，用以承载基板10；另外，所述承载部件104还包括用于固定基板10的固定装置1042，所述固定装置1042可保证基板10与所述承载部件104之间在升降和/或旋转的过程中无相对移动。具体地，本专利技术实施例提供的干法刻蚀机台中，所述底板101上间隔设置有多个支撑柱105，当所述转动部件103位于最低位置时，所述支撑柱105可支撑所述转动部件1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种干法刻蚀机台，其特征在于，包括用于对基板进行干法刻蚀的制程腔，所述制程腔包括：底板，固定于所述制程腔的底部，所述底板上包括可供反应气体通入所述制程腔内部的气孔；升降部件，固定于所述制程腔内部侧壁，用于沿竖直方向升降基板；转动部件，位于所述制程腔内部，与所述升降部件连接，用于在竖直面内旋转基板；所述转动部件与所述升降部件组合使用，以实现将基板在所述制程腔内升降和/或旋转的操作；承载部件，位于所述制程腔内部，与所述转动部件连接，用于承载基板；其中，所述承载部件包括固定装置，所述固定装置用于将基板固定在所述承载部件上，以保证基板与所述承载部件之间在升降和/或旋转过程中无相对移动。

【技术特征摘要】
1.一种干法刻蚀机台，其特征在于，包括用于对基板进行干法刻蚀的制程腔，所述制程腔包括：底板，固定于所述制程腔的底部，所述底板上包括可供反应气体通入所述制程腔内部的气孔；升降部件，固定于所述制程腔内部侧壁，用于沿竖直方向升降基板；转动部件，位于所述制程腔内部，与所述升降部件连接，用于在竖直面内旋转基板；所述转动部件与所述升降部件组合使用，以实现将基板在所述制程腔内升降和/或旋转的操作；承载部件，位于所述制程腔内部，与所述转动部件连接，用于承载基板；其中，所述承载部件包括固定装置，所述固定装置用于将基板固定在所述承载部件上，以保证基板与所述承载部件之间在升降和/或旋转过程中无相对移动。2.根据权利要求1所述的干法刻蚀机台，其特征在于，所述底板上间隔设置有多个支撑柱，用于支撑所述转动部件。3.根据权利要求1所述的干法刻蚀机台，其特征在于，所述升降部件包括沿所述制程腔侧壁固定的第一竖直杆和可沿所述第一竖直杆升降的升降架。4.根据权利要求1所述的干法刻蚀机台，其特征在于，所述转动部件包括与所述升降部件固定连接的第一水平杆和可绕所述第一水平杆在竖直面旋转的转动轮，所述承载部件与所述转动轮固定连接，并可随所述转动轮在竖直面旋转。5.根据权利要求1所述的干法刻蚀机台，其特征在于，所述承载部件包括载物台，所述载物台承载基板的一面设置有可升降的顶针，所述顶针可伸出或缩入所述所述载物台。6.根据权利要求1所述的干法刻蚀机台，其特征在于，所述固定装置为沿所述承...

【专利技术属性】
技术研发人员：高鹏飞，丁玎，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42