偏振板及其制造方法技术

本发明专利技术提供即使在高温高湿等环境下也显示优异耐久性的偏振板及其制造方法。一种偏振板，其包含偏振片和在上述偏振片的至少一个面上经由粘接剂层而层叠的保护膜，上述粘接剂层是包含阳离子聚合性化合物、第一产酸剂及第二产酸剂的粘接剂的固化物，上述第一产酸剂是固化温度不足120℃的离子性化合物，并且是构成上述离子性化合物的抗衡阴离子为下述式(1)或(2)所示的阴离子的离子性化合物，上述第二产酸剂是固化温度为120℃以上且利用活性能量射线产生酸的离子性化合物。

Polarization plate and its manufacturing method

The invention provides a polarizer with excellent durability even in high temperature and humidity environment and a manufacturing method thereof. A polarizer plate comprises a polarizer and a protective film laminated by an adhesive layer on at least one surface of the polarizer. The adhesive layer is a curing agent containing cationic polymeric compound, first acid producer and second acid producer. The first acid producer is an ionic compound curing at less than 120 C and constitutes the above ionic compound. The counteracting anions are ionic compounds of the anions shown in formula (1) or (2). The second acid-producing agent mentioned above is an ionic compound whose curing temperature is above 120 C and acid is produced by active energy rays.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】偏振板及其制造方法
本专利技术涉及在液晶显示装置等中使用的偏振板及其制造方法。
技术介绍
作为在组装光学部件等时所使用的粘接剂，已知配合有阳离子聚合性树脂、光聚合引发剂及热聚合引发剂的粘接剂(专利文献1及2)。这样的粘接剂不仅具有基于光照射的固化作用，还具有基于加热的固化作用，因此在光学部件等的组装时成为影的部分等也能够粘接，从而可以利用于例如半导体激光模块等光学材料的组装。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2013-95881号公报专利文献2：日本特开2003-96425号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题另一方面，在被广泛用于液晶显示装置等的偏振板中也使用粘接剂，通常，偏振板具有在偏振片的单面或双面经由粘接剂而层叠有保护膜的构成。近年来，偏振板被利用于各种用途、例如以智能手机或平板型终端为代表的移动设备用途等，有时被放置在例如高温或高温高湿环境下。因此，要求即使在这样的环境下也能抑制粘接剂与偏振片或保护膜的界面处的浮起或剥离等、以及不使光学特性劣化。尤其是，由于偏振板在高温环境下的强收缩应力，对于偏振板中所使用的粘接剂要求比一般的光学部件等的组装中所使用的粘接剂更高的耐久性能。因此，本专利技术的目的在于，提供即使在高温高湿等环境下也显示优异耐久性的偏振板及其制造方法。用于解决课题的手段本专利技术人为了解决上述课题而进行了深入研究，结果完成了本专利技术。即，本专利技术包含以下技术方案。[1]一种偏振板，其包含偏振片和在上述偏振片的至少一个面上经由粘接剂层而层叠的保护膜，上述粘接剂层是包含阳离子聚合性化合物、第一产酸剂及第二产酸剂的粘接剂的固化物，上述第一产酸剂是固化温度不足120℃的离子性化合物，并且是构成上述离子性化合物的抗衡阴离子为下述式(1)所示的阴离子或下述式(2)所示的阴离子的离子性化合物，[化1][式中，R1为任选具有取代基的C6-14芳基或任选具有取代基的C3-14芳香族杂环基，R2～R4相互独立地为C1-18烷基、任选具有取代基的C6-14芳基或任选具有取代基的C3-14芳香族杂环基，上述取代基为C1-18烷基、卤代C1-8烷基、C2-18烯基、C2-18炔基、C6-14芳基、C3-14芳香族杂环基、硝基、羟基、氰基、-OR5所示的烷氧基或芳氧基、R6CO-所示的酰基、R7COO-所示的酰氧基、-SR8所示的烷硫基或芳硫基、-NR9R10所示的氨基、或者卤素原子，上述R5～R8为C1-8烷基、C6-14芳基或C3-14芳香族杂环基，上述R9及R10为氢原子、C1-8烷基、C6-14芳基或C3-14芳香族杂环基。][化2][(Rf)aPF6-a]-(2)[式中，Rf表示氢的80％以上被氟原子取代后的、相同或不同的烷基，a为1～5的整数。]上述第二产酸剂是固化温度为120℃以上且利用活性能量射线产生酸的离子性化合物。[2]根据[1]所述的偏振板，其中，上述粘接剂层是通过对上述粘接剂照射活性能量射线后进行加热而固化的粘接剂层。[3]根据[1]或[2]所述的偏振板，其中，第一产酸剂为下述式(3)所示的离子性化合物。[化3][式中，R11及R12相互独立地表示烷基、芳烷基、芳基或芳香族杂环基，R13表示任选具有取代基的苯基，X-为[1]所述的式(1)或式(2)所示的阴离子。][4]根据[1]～[3]中任一项所述的偏振板，其中，第二产酸剂的抗衡阴离子为上述式(1)或上述式(2)所示的阴离子、或者PF6-。[5]根据[1]～[4]中任一项所述的偏振板，其中，第二产酸剂的抗衡阳离子为锍系阳离子。[6]根据[1]～[5]中任一项所述的偏振板，其中，阳离子聚合性化合物包含选自环氧化合物、氧杂环丁烷化合物及乙烯基化合物中的至少1种化合物。[7]根据[1]～[6]中任一项所述的偏振板，其中，保护膜包含选自纤维素系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、聚烯烃系树脂、聚酯系树脂及聚碳酸酯系树脂中的至少1种树脂。[8]一种方法，其是[1]～[7]中任一项所述的偏振板的制造方法，其包括：(a)在偏振片和/或保护膜上涂布粘接剂的工序；(b)将偏振片与保护膜进行层叠的工序；(c)对工序(b)中所得的层叠体照射活性能量射线的工序；以及(d)接下来加热层叠体的工序。专利技术的效果根据本专利技术，可以提供即使在高温高湿等环境下也具有优异耐久性的偏振板。附图说明图1为表示本专利技术的偏振板的层结构的一例的概略剖视图。具体实施方式<偏振板>本专利技术的偏振板包含偏振片和在上述偏振片的至少一个面上经由粘接剂层而层叠的保护膜。图1为表示本专利技术的偏振板的层结构的一例的概略剖视图。图1所示的偏振板依次包含第一保护膜10、第一粘接剂层15、偏振片30、第二粘接剂层25及第二保护膜20而构成。即，第一保护膜10经由第一粘接剂层15而层叠在偏振片30的一个面上，第二保护膜20经由第二粘接剂层25而层叠在偏振片30的另一个面上。不限于图1的例子，本专利技术的偏振板可以包含除了上述以外的其他层。如果列举其他层的具体例，例如为：层叠于第一保护膜10和/或第二保护膜20的外表面的粘合剂层；层叠于该粘合剂层的外表面的隔离膜(也称为“剥离膜”)；层叠于第一保护膜10和/或第二保护膜20的外表面的保护膜(也称作“表面保护膜”)；在第一保护膜10和/或第二保护膜20的外表面经由粘接剂层或粘合剂层而层叠的光学功能性膜等。本专利技术的偏振板可以为具有上述层构成的偏振板的长条物或其卷绕卷筒、从该长条物及卷绕卷筒切割的偏振板单片体或者将该偏振板单片体切割成更小尺寸后的单片体。予以说明，在本说明书中，耐久性是指：在例如高温环境下、高温高湿环境下、反复高温和低温的环境下等，能够抑制粘接剂层和与其邻接的偏振片或保护膜的界面处的浮起或剥离的特性(有时称作耐剥离性)、能够抑制光学特性劣化的特性(有时称作耐劣化性)、以及能够抑制偏振板翘曲(或卷曲)的特性(有时称作耐卷曲性)等。[1]粘接剂层构成本专利技术的偏振板的粘接剂层是包含以下记载的规定的阳离子聚合性化合物、第一产酸剂及第二产酸剂的粘接剂的固化物，优选由照射活性能量射线后进行加热而固化的固化物构成。(1)阳离子聚合性化合物阳离子聚合性化合物优选为通过活性能量射线(例如紫外线、可见光、电子射线、X射线等)的照射及加热而进行阳离子聚合反应并固化的化合物或低聚物。作为阳离子聚合性化合物，可列举例如在分子内具有1个以上环氧基的环氧化合物、在分子内具有1个以上氧杂环丁环的氧杂环丁烷化合物、乙烯基化合物等。这些阳离子聚合性化合物可以单独使用或组合使用2种以上。其中，优选选自环氧化合物、氧杂环丁烷化合物及乙烯基化合物中的至少1种化合物，特别优选环氧化合物及氧杂环丁烷化合物。作为环氧化合物，可列举例如脂环式环氧化合物、脂肪族环氧化合物、芳香族环氧化合物、氢化环氧化合物等，从粘接性及固化速度的观点出发，优选脂环式环氧化合物、脂肪族环氧化合物等。另外，环氧化合物的分子内存在的环氧基的数量可以为例如1个、优选2个以上、特别是2个。若使用二官能(环氧基的数量为2个)的环氧化合物，则即使对于偏振片的收缩应力而言密合性也高，因此，对于形成耐剥离性等优异的偏振板而言是有利的。脂环式环氧化合物可以为在分子内具有1个以上的键合于脂环式环的环氧基的化合物。“键合于脂环式环的环氧基”是指本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种偏振板，其包含偏振片和在所述偏振片的至少一个面上经由粘接剂层而层叠的保护膜，所述粘接剂层是包含阳离子聚合性化合物、第一产酸剂及第二产酸剂的粘接剂的固化物，所述第一产酸剂是固化温度不足120℃的离子性化合物，并且是构成所述离子性化合物的抗衡阴离子为下述式(1)所示的阴离子或下述式(2)所示的阴离子的离子性化合物，

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.09.06 JP 2016-1740451.一种偏振板，其包含偏振片和在所述偏振片的至少一个面上经由粘接剂层而层叠的保护膜，所述粘接剂层是包含阳离子聚合性化合物、第一产酸剂及第二产酸剂的粘接剂的固化物，所述第一产酸剂是固化温度不足120℃的离子性化合物，并且是构成所述离子性化合物的抗衡阴离子为下述式(1)所示的阴离子或下述式(2)所示的阴离子的离子性化合物，式(1)中，R1为任选具有取代基的C6-14芳基或任选具有取代基的C3-14芳香族杂环基，R2～R4相互独立地为C1-18烷基、任选具有取代基的C6-14芳基或任选具有取代基的C3-14芳香族杂环基，所述取代基为C1-18烷基、卤代C1-8烷基、C2-18烯基、C2-18炔基、C6-14芳基、C3-14芳香族杂环基、硝基、羟基、氰基、-OR5所示的烷氧基或芳氧基、R6CO-所示的酰基、R7COO-所示的酰氧基、-SR8所示的烷硫基或芳硫基、-NR9R10所示的氨基、或者卤素原子，所述R5～R8为C1-8烷基、C6-14芳基或C3-14芳香族杂环基，所述R9及R10为氢原子、C1-8烷基、C6-14芳基或C3-14芳香族杂环基，[(Rf)aPF6-a]-(2)式(2)中，Rf表示氢的80％以上被氟原子取代后的、相同或不同的烷基，a为1～5的整数，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：阪上智惠，古川达也，中川弘也，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP