显示面板的制备方法、显示面板及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例公开了一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置，其中，本发明专利技术实施例中该显示面板的制备方法包括：提供第一基板；在第一基板上涂覆黑色矩阵薄膜，并图案化黑色矩阵薄膜，在第一基板上形成黑色矩阵；与第一基板相对设置形成有遮光层图案的第二基板；在第一基板和第二基板之间提供液晶层。本发明专利技术实施例中采用黑色矩阵制作遮光层图案遮挡像素内漏光，可避免金属遮光层遮挡时反射和消偏的弊端，在成本和能耗不上升的同时，有效提升显示面板的对比度。

【技术实现步骤摘要】
显示面板的制备方法、显示面板及显示装置
本专利技术涉及半导体
，具体涉及一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置。
技术介绍
随着科技的发展和社会的进步，人们对于信息交流和传递等方面的依赖程度日益增加。而显示器件作为信息交换和传递的主要载体和物质基础，现已成为众多从事信息光电研究科学家争相抢占的热点和高地。对于现实画面的品质要求在逐步的提升中，其中对高对比度的需求成为一个重要的趋势。对比度定义为白态与黑态的比值。所以对于对比度的提升，关键点有两个，一个是白态的亮度，一个是黑态的亮度。白态的亮度是可以通过简单的方法提升，比如提高背光的亮度，这样却会提高能耗，工作温度上升，增加散热的问题，成本也随之上升，由此可见，这种方法存在许多弊端；而另一方面，通过降低黑态亮度达到高对比度的目的，降低黑态的亮度，但目前没有有效的实施方案。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置，在成本和能耗不上升的同时，有效提升显示面板的对比度。为解决上述问题，第一方面，本申请提供一种显示面板的制备方法，所述方法包括：提供第一基板；在所述第一基板上涂覆黑色矩阵薄膜，并图案化所述黑色矩阵薄膜，在所述第一基板上形成黑色矩阵遮光层图案；与所述第一基板相对设置第二基板；在所述第一基板和所述第二基板之间提供液晶层。进一步的，所述图案化所述黑色矩阵薄膜，在所述第一基板上形成黑色矩阵遮光层图案的步骤包括：利用预设模拟光强光罩，图案化所述黑色矩阵薄膜，在所述第一基板上形成黑色矩阵遮光层图案。进一步的，所述预设模拟光强光罩的线宽在1～4μm。进一步的，所述预设模拟光强光罩为1～3个光罩形成的组合型光罩。进一步的，所述模拟光强光罩包括从左到右依次设置的第一光罩、第二光罩和第三光罩，所述第一光罩和所述第二光罩之间设置第一间距，所述第二光罩和所述第三光罩之间设置第二间距。进一步的，所述第三光罩为矩形，或者所述第三光罩右侧为锯齿状，左侧为直线型。进一步的，所述第一光罩左侧为锯齿状，右侧为直线型，或者所述第一光罩为矩形。进一步的，所述第一间距和所述第二间距距离相等。进一步的，所述预设模拟光强光罩为一个独立光罩，所述预设模拟光强光罩两侧均为锯齿状。进一步的，所述预设模拟光强光罩两侧对称。进一步的，所述黑色矩阵遮光层图案的线宽为3μm。第二方面，本申请提供一种显示面板，所述显示面板采用如第一方面中任一项所述的显示面板的制备方法制备而成。第三方面，本申请提供一种显示装置，其特征在于，包括第二方面所述的显示面板。本专利技术实施例方法通过提供第一基板；在第一基板上涂覆黑色矩阵薄膜，并图案化黑色矩阵薄膜，在第一基板上形成黑色矩阵；与第一基板相对设置形成有遮光层图案的第二基板；在第一基板和第二基板之间提供液晶层。本专利技术实施例中采用黑色矩阵制作遮光层图案遮挡像素内漏光，可避免金属遮光层遮挡时反射和消偏的弊端，在成本和能耗不上升的同时，有效提升显示面板的对比度。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是现有技术中利用金属遮光层遮挡像素内漏光的结构示意图；图2是本专利技术实施例提供一种显示面板的制备方法的一个实施例流程示意图；图3是本专利技术实施例提供显示面板的制备方法中模拟光强光罩的一个实施例结构示意图；图4是本专利技术实施例提供一种显示面板的制备方法模拟光强光罩的另一个实施例结构示意图图5是本专利技术实施例提供一种显示面板制备方法模拟光强光罩的另一个实施例结构示意图；图6是本专利技术实施例中图3所示光罩对应的光强分布图；图7是本专利技术实施例中图4所示光罩对应的光强分布图；图8为本专利技术实施例中显示面板的一个实施例结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。如图1所示，为现有技术中利用金属遮光层遮挡像素内漏光的结构示意图，现有技术中，通常会使用金属图形如图1所示金属遮光层10，在液晶(LiquidCrystal，LC)混乱漏光区20进行遮挡，但金属遮光层带来的弊端有金属反光，使液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)反光变严重，降低LCD的画面品质；其次，金属遮光层边缘有消偏作用，使其边缘发生漏光，造成黑态漏光，反而降低对比度。基于此，本专利技术实施例中提供一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置，其中，该显示面板的制备方法可以包括：提供第一基板；在所述第一基板上涂覆黑色矩阵薄膜，并图案化所述黑色矩阵薄膜，在所述第一基板上形成黑色矩阵遮光层图案；与所述第一基板相对设置第二基板；在所述第一基板和所述第二基板之间提供液晶层。如图2所示，为本专利技术实施例中显示面板的制备方法的一个实施例示意图，S201、提供第一基板。一般情况下，显示面板通常包括阵列基板、滤色器基板以及在阵列基板和滤色器基板之间的液晶材料。显示面板的显示区域包括呈阵列分布的像素单元，每个像素单元包括多个子像素单元，每个子像素单元可用于显示不同的颜色。例如，当一个像素单元包括三个子像素单元时，三个子像素单元可分别用来显示红、绿和蓝三种颜色。本专利技术实施例不对同一像素单元的子像素单元数量做特殊限定，例如，其可以是三个、四个或更多。本专利技术实施例中，第一基板的材质可以是玻璃基板、石英基板、塑料基板或其他适合材料的基板。例如，在本实施例中，第一基板可以是滤色器基板，其上可以形成有呈阵列分布的RGB滤色器，每个滤色器与子像素单元一一对应设置。S202、在第一基板上涂覆黑色矩阵薄膜，并图案化黑色矩阵薄膜，在所述第一基板上形成黑色矩阵遮光层图案。本专利技术实施例中，所述图案化所述黑色矩阵薄膜，在所述第一基板上形成黑色矩阵遮光层图案的步骤可以进一步包括：利用预设模拟光强光罩，图案化所述黑色矩阵薄膜，在所述第一基板上形成黑色矩阵遮光层图案。本专利技术实施例中，模拟光强光罩是通过模拟光强设置的光罩结构，具体参照下面详细结构描述。本专利技术实施例中遮蔽漏光遮光层结构使用对光吸收很好的黑色矩阵(BlackMatrix，BM)材料，与金属材料相比，无本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：提供第一基板；在所述第一基板上涂覆黑色矩阵薄膜，并图案化所述黑色矩阵薄膜，在所述第一基板上形成黑色矩阵遮光层图案；与所述第一基板相对设置第二基板；在所述第一基板和所述第二基板之间提供液晶层。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：提供第一基板；在所述第一基板上涂覆黑色矩阵薄膜，并图案化所述黑色矩阵薄膜，在所述第一基板上形成黑色矩阵遮光层图案；与所述第一基板相对设置第二基板；在所述第一基板和所述第二基板之间提供液晶层。2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述图案化所述黑色矩阵薄膜，在所述第一基板上形成黑色矩阵遮光层图案的步骤包括：利用预设模拟光强光罩，图案化所述黑色矩阵薄膜，在所述第一基板上形成黑色矩阵遮光层图案。3.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述预设模拟光强光罩的线宽在1～4μm。4.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述预设模拟光强光罩为1～3个光罩形成的组合型光罩。5.根据权利要求4所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述模拟光强光罩包括从左到右依次设置的第一光罩、第二光罩和第三光罩，所述第一光罩和所述第二光罩之间设置第一间距，所述第二光罩...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈珍霞，陈黎暄，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44