线圈式纵向磁场触头组件及真空灭弧室制造技术

本发明专利技术涉及线圈式纵向磁场触头组件及真空灭弧室，该线圈式纵向磁场触头组件包括导电杆和触头片，导电杆与触头片之间固定连接有触头基座和续流触头盘，所述触头基座上设有至少两个过流臂，续流触头盘上设有与过流臂对应电连接的至少两个续流臂，所述触头基座与续流触头盘之间设有与所述过流臂对应的至少两个支撑座，所述支撑座与所述续流臂的过流方向相同以使续流臂与支撑座形成并联结构。本发明专利技术的线圈式触头组件在触头基座与续流触头盘之间设置支撑座，提高了触头组件的机械强度，大大降低了触头基座与续流触头盘在多次合闸冲击压力作用下发生变形的可能性，提高了触头基座与续流臂之间的间隙磁场，提高了本发明专利技术的触头组件开断大电流的能力。

Coil-type Longitudinal Magnetic Field Contact Component and Vacuum Arc Extinguishing Chamber

The invention relates to a coil type longitudinal magnetic field contact assembly and a vacuum arc extinguishing chamber. The coil type longitudinal magnetic field contact assembly comprises a conductive rod and a contact sheet. A contact base and a continuous current contact disc are fixedly connected between the conductive rod and the contact sheet. The contact base is provided with at least two overcurrent arms, and the continuous current contact disc is provided with at least two continuous current arms electrically connected with the overcurrent arm. There are at least two supports corresponding to the over-flow arm between the head base and the continuous-flow contact disc. The support base and the continuous-flow arm have the same direction of over-flow to form a parallel structure between the continuous-flow arm and the support base. The coil type contact assembly of the present invention is provided with a support between the contact base and the continuous flow contact disc, which improves the mechanical strength of the contact assembly, greatly reduces the possibility of deformation of the contact base and the continuous flow contact disc under multiple closing impact pressure, improves the gap magnetic field between the contact base and the continuous flow arm, and improves the energy of the contact assembly of the present invention to break large current. Power.

【技术实现步骤摘要】
线圈式纵向磁场触头组件及真空灭弧室
本专利技术涉及真空断路器
，具体涉及一种线圈式纵向磁场触头组件及真空灭弧室。
技术介绍
目前，高压和超高压断路器中六氟化硫断路器占主要地位，六氟化硫气体具有良好的绝缘性能和优异的灭弧性能，其耐压强度为同一压力下氮气的2.5倍。但是六氟化硫气体是一种温室气体，其单分子的温室效应是二氧化碳的2.2万倍。因此，真空断路器以其环境污染小、维护工作量小、性能稳定性高的优点，逐渐成为断路器未来的发展方向。目前的真空灭弧室主要用于中压等级，为扩大真空断路器应用范围，使其可以应用于高压领域，必须进行高压真空灭弧室的研究开发，特别是真空灭弧室中作为核心部件的触头结构，更是研发工作中的重中之重。真空灭弧室中设有相对布置的动、静触头组件，两触头组件的结构通常相同，均分别包括导电杆和与导电杆导电固连的触头。真空灭弧室的触头经历了圆柱形触头、横向磁场的引入及纵向磁场的引入三个发展时期。由于纵向磁场可使电弧均匀分布在触头表面，维持低的电弧电压，并使真空灭弧室具有较高的弧后介质强度恢复速度，从而提高了真空断路器开断短路电流的能力；因此目前中、高压领域主要采用线圈式纵向磁场触头组件。但是，由于现有技术中的线圈式纵向磁场触头组件大多仅设置一层线圈，触头组件的整体磁场偏弱，在开断50KA以上短路故障电流时，电弧很难维持扩散态，导致熄弧困难。为此，现有技术中出现了双线圈触头组件，如授权公告号为CN206116279U的技术专利公开的一种纵向磁场触头结构，包括静触头片和动触头片，静触头片和静导电杆固定连接，静触头片与动触头片存在间隙，静触头片与静导电杆之间设有纵向磁场线圈，纵向磁场线圈为由第一线圈(相当于触头基座)和第二线圈(相当于续流触头盘)组成的双线圈结构。双线圈结构增强了纵向磁场强度，有利于真空电弧进入扩散态，提高了该真空灭弧室开断大电流能力；但是该双线圈触头组件的两个线圈均采用铜质材料，机械强度不高，两个线圈在多次合闸冲击压力作用下很有可能发生变形，使得动、静触头无法使用，减短了真空灭弧室使用寿命。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种线圈式纵向磁场触头组件，旨在解决现有技术中的线圈式纵向磁场触头组件因机械强度低而导致易变形损坏的问题；本专利技术的目的还在于提供一种具有上述线圈式纵向磁场触头组件的真空灭弧室，旨在解决现有技术中的真空灭弧室耐用性差的问题。为实现上述目的，本专利技术线圈式纵向磁场触头组件的技术方案是：线圈式纵向磁场触头组件包括导电杆和触头片，所述导电杆与触头片之间固定连接有触头基座和续流触头盘，所述触头基座上设有至少两个过流臂，所述续流触头盘上设有与过流臂一一对应电连接的续流臂，所述触头基座与续流触头盘之间设有与所述过流臂一一对应的支撑座，所述支撑座与相应续流臂的过流方向相同以使续流臂与支撑座形成并联结构。其有益效果在于：本专利技术的线圈式触头组件在触头基座与续流触头盘之间设置支撑座，提高了触头组件的机械强度，大大降低了触头基座与续流触头盘在多次合闸冲击压力作用下发生变形的可能性；支撑座上的过流方向与续流臂的过流方向相同而使支撑座与续流臂形成并联结构，流经支撑座的电流产生的磁场方向与流经续流臂的电流产生的磁场方向相同，提高了触头基座与续流臂之间的间隙磁场，提高了本专利技术的触头组件开断大电流的能力。进一步的，所述续流触头盘包括中心环，所述续流臂间隔均布在中心环的外壁面上，支撑座为圆弧形，圆弧形支撑座沿中心环布置。支撑环为圆弧形，且沿中心环布置有助于电连接。进一步的，所述支撑座具有与过流臂、中心环垂直的连接部。有助于降低接触电阻。进一步的，所述中心环和支撑座上相应设有用于定位配合的定位斜面。增强了中心环与支撑座的固定强度。进一步的，所述过流臂为弯曲过流臂，所述弯曲过流臂包括一内一外设置且延伸方向相反的内过流臂与外过流臂，所述内过流臂与外过流臂首尾相接，内过流臂与外过流臂的过流方向相反，所述支撑座与内过流臂电连接，所述续流臂与外过流臂电连接。有助于降低中心磁场强度。本专利技术的真空灭弧室的技术方案是：真空灭弧室包括相对布置的两个触头组件，至少一个触头组件为线圈式纵向磁场触头组件，所述线圈式纵向磁场线圈组件包括导电杆和触头片，所述导电杆与触头片之间固定连接有触头基座和续流触头盘，所述触头基座上设有至少两个过流臂，所述续流触头盘上设有与过流臂一一对应电连接的续流臂，所述触头基座与续流触头盘之间设有与所述过流臂一一对应的支撑座，所述支撑座与相应续流臂的过流方向相同以使续流臂与支撑座形成并联结构。其有益效果在于：本专利技术的真空灭弧室中的线圈式触头组件在触头基座与续流触头盘之间设置支撑座，提高了触头组件的机械强度，大大降低了触头基座与续流触头盘在多次合闸冲击压力作用下发生变形的可能性；支撑座上的过流方向与续流臂的过流方向相同而使支撑座与续流臂形成并联结构，流经支撑座的电流产生的磁场方向与流经续流臂的电流产生的磁场方向相同，提高了触头基座与续流臂之间的间隙磁场，提高了本专利技术的真空灭弧室开断大电流的能力。进一步的，所述续流触头盘包括中心环，所述续流臂间隔均布在中心环的外壁面上，支撑座为圆弧形，圆弧形支撑座沿中心环布置。支撑环为圆弧形，且沿中心环布置有助于电连接。进一步的，所述支撑座具有与过流臂、中心环垂直的连接部。有助于降低接触电阻。进一步的，所述中心环和支撑座上相应设有用于定位配合的定位斜面。增强了中心环与支撑座的固定强度。进一步的，所述过流臂为弯曲过流臂，所述弯曲过流臂包括一内一外设置且延伸方向相反的内过流臂与外过流臂，所述内过流臂与外过流臂首尾相接，内过流臂与外过流臂的过流方向相反，所述支撑座与内过流臂电连接，所述续流臂与外过流臂电连接。有助于降低中心磁场强度。附图说明图1为两个相对设置的本专利技术的线圈式纵向磁场触头组件的爆炸视图；图2为本专利技术的线圈式纵向磁场触头组件的结构示意图；图3为本专利技术的线圈式纵向磁场触头组件的电流路径示意图；图4为触头基座的电流路径示意图；图5为续流触头盘的电流路径示意图；图6为支撑件的电流路径示意图；图7为50KA电流作用下，市场主流线圈式纵向磁场触头组件与本专利技术的线圈式纵向磁场触头组件磁场分布情况对比图；图8为80KA电流作用下，本专利技术的线圈式纵向磁场触头组件产生的中心磁场分布三维图；附图中：1、导电杆；2、触头基座；2-1、外过流臂；2-2、内过流臂；3、支撑座；3-1、上导电面；3-2、下导电面；3-3、定位斜面；4、续流触头盘；4-1、电流入口凸台；4-2、续流臂；4-3、中心环；4-4、定位斜面；5、触头垫板；6、铜铬触头。具体实施方式下面结合附图对本专利技术的实施方式作进一步说明。本专利技术的线圈式纵向磁场触头组件的具体实施例一，如图1至图8所示，包括导电杆1、触头基座2、支撑座3、续流触头盘4、触头垫板5和铜铬触头6。参照图4，触头基座2包括位于中心与导电杆1固定连接的中心孔，中心孔的外壁面上均匀间隔设置有三个弯曲过流臂，其他实施例中，中心孔外壁面也可设置两个间隔的弯曲过流臂，过流臂为弯曲状是为了形成两个过流方向相反的部分，两个相反的部分产生的磁场方向相反，并且靠内的部分产生的磁场小于靠外的部分产生的磁场，从而降低了触头组件中心区域磁场强度。弯曲过流臂包括沿中心孔向外本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.线圈式纵向磁场触头组件，包括导电杆和触头片，所述导电杆与触头片之间固定连接有触头基座和续流触头盘，所述触头基座上设有至少两个过流臂，所述续流触头盘上设有与过流臂一一对应电连接的续流臂，其特征在于：所述触头基座与续流触头盘之间设有与所述过流臂一一对应的支撑座，所述支撑座与相应续流臂的过流方向相同以使续流臂与支撑座形成并联结构。

【技术特征摘要】
1.线圈式纵向磁场触头组件，包括导电杆和触头片，所述导电杆与触头片之间固定连接有触头基座和续流触头盘，所述触头基座上设有至少两个过流臂，所述续流触头盘上设有与过流臂一一对应电连接的续流臂，其特征在于：所述触头基座与续流触头盘之间设有与所述过流臂一一对应的支撑座，所述支撑座与相应续流臂的过流方向相同以使续流臂与支撑座形成并联结构。2.根据权利要求1所述的线圈式纵向磁场触头组件，其特征在于：所述续流触头盘包括中心环，所述续流臂间隔均布在中心环的外壁面上，支撑座为圆弧形，圆弧形支撑座沿中心环布置。3.根据权利要求2所述的线圈式纵向磁场触头组件，其特征在于：所述支撑座具有与过流臂、中心环垂直的连接部。4.根据权利要求2所述的线圈式纵向磁场触头组件，其特征在于：所述中心环和支撑座上相应设有用于定位配合的定位斜面。5.根据权利要求1或2或3或4所述的线圈式纵向磁场触头组件，其特征在于：所述过流臂为弯曲过流臂，所述弯曲过流臂包括一内一外设置且延伸方向相反的内过流臂与外过流臂，所述内过流臂与外过流臂首尾相接，内过流臂与外过流臂的过流方向相反，所述支撑座与内过流臂电连接，所述续流臂与外过流臂电连接。6.真空灭弧室，包...

【专利技术属性】
技术研发人员：费翔，朱志豪，袁端磊，王海燕，张洪铁，耿晓璐，
申请(专利权)人：平高集团有限公司，国家电网有限公司，国网山东省电力公司检修公司，
类型：发明
国别省市：河南,41