一种振动抛光机及抛光系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种振动抛光机及抛光系统，所述振动抛光机包括：外壳、与所述外壳连接的若干个弹簧、连接在所述弹簧上端的垫板、与所述垫板连接的电机以及与所述垫板上表面接触的抛光罐，所述电机的转轴从所述垫板下方穿过所述垫板并与所述抛光罐连接，所述抛光罐可相对于所述垫板运动。所述抛光罐底端与所述垫板的上表面接触，所述抛光罐可相对于所述垫板运动，在抛光过程中，以减小所述抛光罐的振动幅度，拓宽所述抛光罐的振动频率，降低了磨块的磨损速度，使产品抛光的均匀性得到改善，并提高了各产品的一致性。

A Vibration Polishing Machine and Polishing System

The utility model discloses a vibration polishing machine and a polishing system. The vibration polishing machine comprises a shell, several springs connected with the shell, a pad plate connected to the upper end of the spring, a motor connected with the pad plate and a polishing tank contacted with the surface of the pad plate. The rotating shaft of the motor passes through the pad plate from below the pad plate and is connected with the polishing tank. The polishing pot can move relative to the cushion plate. The bottom end of the polishing tank contacts the upper surface of the pad plate. The polishing tank can move relative to the pad plate. In the polishing process, the vibration amplitude of the polishing tank can be reduced, the vibration frequency of the polishing tank can be broadened, the wear speed of the abrasive block can be reduced, the uniformity of polishing products can be improved, and the consistency of the products can be improved.

【技术实现步骤摘要】
一种振动抛光机及抛光系统
本技术涉及振动抛光
，尤其涉及的是一种振动抛光机及抛光系统。
技术介绍
振动抛光机能够通过高频率的振动使产品与磨块均匀混合，呈螺旋涡流状滚动，以抛光产品的表面。现有技术中，片式元件生产过程中对芯片元件抛光，其抛光均匀性要求较高，同批量芯片元件数量多，需要的设备多，存在磨块磨损快，产品一致性差的问题。而且现有操作生产技术中，对上述生产过程是采用人工操作，由于单人所看机台数量有限，计时器的准确性差，遇到异常不能及时停机，容易导致产品批量报废。因此，现有技术还有待于改进和发展。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题在于，针对现有技术的上述缺陷，提供一种振动抛光机及抛光系统，旨在解决现有技术中振动抛光机的磨块磨损快，产品一致性差的问题。本技术解决技术问题所采用的技术方案如下：一种振动抛光机，其中，包括：外壳、与所述外壳连接的若干个弹簧、连接在所述弹簧上端的垫板、与所述垫板连接的电机以及与所述垫板上表面接触的抛光罐，所述电机的转轴从所述垫板下方穿过所述垫板并与所述抛光罐连接，所述抛光罐可相对于所述垫板运动。所述的振动抛光机，其中，所述抛光罐包括环形凹槽状的底板、围绕所述底板内缘向上设置的内周壁以及围绕所述底板外缘向上设置的外周壁。所述的振动抛光机，其中，所述内周壁从下至上向所述底板的中心轴线方向倾斜形成空心圆台状，所述外周壁从下至上向远离所述底板的中心轴线方向倾斜。所述的振动抛光机，其中，所述内周壁的顶部设置有封闭板，所述电机的转轴与所述封闭板连接。所述的振动抛光机，其中，所述封闭板的上表面与所述外周壁的顶端平齐。所述的振动抛光机，其中，所述底板的纵截面为圆弧，所述圆弧的圆心角的范围为90°～180°。所述的振动抛光机，其中，所述底板向下凹陷，所述弹簧与所述底板的最低点相对。所述的振动抛光机，其中，所述外壳包括外壳本体和水平设置在所述外壳本体内的支撑板，所述支撑板呈圆环状并与所述弹簧的下端连接。所述的振动抛光机，其中，所述垫板与所述外壳本体顶端的距离为50～150mm。一种抛光系统，其中，其包括如上述任一项所述的振动抛光机。有益效果：所述抛光罐可相对于所述垫板运动，在抛光过程中，弹簧拉伸和压缩的幅度过大时，所述抛光罐底端与所述垫板发生分离，以减小所述抛光罐的振动幅度，在所述抛光罐底端与所述垫板发生分离后再次接触时，会发生轻度碰撞，所述抛光罐会再次发生小幅度振动，从而拓宽了所述抛光罐的振动频率，降低了磨块的磨损速度，使产品抛光的均匀性得到改善，并提高了各产品的一致性。附图说明图1是本技术所述振动抛光机的剖视图。图2是本技术所述振动抛光机的结构示意图。图3是本技术所述抛光系统的结构示意图。具体实施方式为使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚、明确，以下参照附图并举实施例对本技术进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。请同时参阅图1-图3，本技术提供了一种振动抛光机，包括外壳10、与所述外壳10连接的若干个弹簧20、连接在所述弹簧20上端的垫板30、与所述垫板30连接的电机40以及与所述垫板30上表面接触的抛光罐50，所述电机40的转轴42从所述垫板30下方穿过所述垫板30并与所述抛光罐50连接，所述抛光罐50可相对于所述垫板30运动。值得说明的是，现有技术中的振动抛光机的抛光罐50通常是与弹簧20固定连接（或与垫板30固定连接）进行上下振动抛光，在抛光过程中弹簧20拉伸和压缩的幅度过小时，则抛光速度慢，甚至达不到抛光效果；而幅度过大时，容易出现磨块磨损快，抛光均匀性低，各产品一致性差的问题，本技术中所述抛光罐50底端与所述垫板30的上表面接触，所述抛光罐50可相对于所述垫板30运动，在抛光过程中，弹簧20拉伸和压缩的幅度过大时，所述抛光罐50底端与所述垫板30发生分离，以减小所述抛光罐50的上下方向振动的幅度，在所述抛光罐50底端与所述垫板30发生分离后再次接触时，会发生轻度碰撞，所述抛光罐50会再次发生小幅度振动，从而拓宽了所述抛光罐50的振动频率，降低了磨块的磨损速度，使产品抛光的均匀性得到改善，并提高了各产品的一致性。当然所述电机40为偏心电机，所述垫板30设置为平板，平板并不会阻挡所述抛光罐50水平方向的运动，使磨块与产品能够快速的翻转而使两者均匀，进一步提高抛光的均匀性。本技术提供的振动抛光机，由于所述抛光罐50底端与所述垫板30的上表面接触，可减小所述抛光罐50的振动幅度，拓宽了所述抛光罐50的振动频率，可利于均匀抛光。进一步地，由于所述振动抛光机的抛光效果得到改善，抛光均匀性较高，且磨块的磨损较慢，可以通过并联多个所述振动抛光机，实现大批量生产，不会出现因抛光机不同而导致的各产品一致性差的问题。在本技术的一个较佳实施例中，如图1-图2所示，所述抛光罐50包括环形凹槽状的底板51、围绕所述底板51内缘向上设置的内周壁52以及围绕所述底板51外缘向上设置的外周壁53。所述底板51呈环形凹槽状，相当于横向截去救生圈的一半所剩的形状，所述底板51内缘设置有所述内周壁52，所述底板51外缘设置有所述外周壁53，磨块和产品被限制在所述内周壁52和所述外周壁53之间，防止在振动抛光过程中磨块和产品从所述抛光罐50中甩出。在本技术的一个具体实施例中，如图1所示，所述内周壁52从下至上向所述底板51的中心轴线方向倾斜形成空心圆台状，所述外周壁53从下至上向远离所述底板51的中心轴线方向倾斜。所述内周壁52向所述底板51的中心倾斜，所述外周壁53远离所述底板51的中心倾斜，这样，可以形成一个较大的容量的抛光罐50，便于取放产品，且其重量向远离中心的方向分散，有利于改善所述抛光罐50旋转时的稳定性，使所述抛光罐50不过于偏心，避免磨块和产品在水平面上大幅度晃动，而造成的抛光不均匀。在本技术的一个具体实施例中，如图1-图2所示，所述内周壁52的顶部设置有封闭板，所述电机40的转轴42与所述封闭板连接。具体地，所述内周壁52呈空心圆台状，所述内周壁52的扇形侧边的下端与所述底板51的内缘连接，其扇形侧边的上端与所述封闭板连接，所述转轴42连接在所述封闭板的中心。所述转轴42依次贯穿所述封闭板、所述垫板30和所述电机本体41，所述转轴42的下端连接有偏心块60。所述转轴42在所述电机本体41的工作时转动，由于所述偏心块60的作用，所述转轴42并不是绕所述转轴42的轴心线转动的，所述抛光罐50也不是绕所述抛光罐50的轴心线转动的，而是发生了偏移，在所述抛光罐50偏移过程中会对所述垫板30产生力的作用，进而使所述弹簧20压缩或拉伸。在本技术的一个具体实施例中，如图1-图2所示，所述封闭板的上表面与所述外周壁53的顶端平齐。所述封闭板的上表面与所述外周壁53的顶端平齐，方便在所述抛光罐50上设置盖，既防止在振动抛光过程中磨块和产品从所述抛光罐50中甩出，又避免杂物掉入所述抛光罐50中影响抛光质量。在本技术的一个具体实施例中，如图1所示，所述底板51的纵截面为圆弧，所述圆弧的圆心角的范围为90°～180°。为了便于磨块和产品在抛光过程中进行螺旋涡流状滚动，将所述底板51的横本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种振动抛光机，其特征在于，包括：外壳、与所述外壳连接的若干个弹簧、连接在所述弹簧上端的垫板、与所述垫板连接的电机以及与所述垫板上表面接触的抛光罐，所述电机的转轴从所述垫板下方穿过所述垫板并与所述抛光罐连接，所述抛光罐可相对于所述垫板运动。

【技术特征摘要】
1.一种振动抛光机，其特征在于，包括：外壳、与所述外壳连接的若干个弹簧、连接在所述弹簧上端的垫板、与所述垫板连接的电机以及与所述垫板上表面接触的抛光罐，所述电机的转轴从所述垫板下方穿过所述垫板并与所述抛光罐连接，所述抛光罐可相对于所述垫板运动。2.根据权利要求1所述的振动抛光机，其特征在于，所述抛光罐包括环形凹槽状的底板、围绕所述底板内缘向上设置的内周壁以及围绕所述底板外缘向上设置的外周壁。3.根据权利要求2所述的振动抛光机，其特征在于，所述内周壁从下至上向所述底板的中心轴线方向倾斜形成空心圆台状，所述外周壁从下至上向远离所述底板的中心轴线方向倾斜。4.根据权利要求2所述的振动抛光机，其特征在于，所述内周壁的顶部设置有封闭板，所述电机的转...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁景亮，吴炜坚，向勇，单志强，龚书林，黄桂才，
申请(专利权)人：深圳市宇阳科技发展有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44