一种放射性气溶胶滤膜标准源的滴注方法技术

技术编号:19567324 阅读:69 留言:0更新日期:2018-11-25 02:41
本发明专利技术属于放射性物质检测技术领域,涉及一种放射性气溶胶滤膜标准源的滴注方法。该方法包括:采用自动加样装置在滤膜上滴注放射性溶液;滴注液滴分布为液滴之间均为正三角形分布;结合滴注液滴体积、滴注液滴间距、滴注高度、滴注速度的配合,最终提供一种能够提高放射性气溶胶滤膜标准源均匀性、降低成品测量偏差的放射性气溶胶滤膜标准源滴注方法。

【技术实现步骤摘要】
一种放射性气溶胶滤膜标准源的滴注方法
本专利技术属于放射性物质检测
,涉及一种放射性气溶胶滤膜标准源的滴注方法。
技术介绍
随着放射性监测技术的发展,国家的核环境监测机构,根据监测对象和目的,研制了不同类型的放射性气溶胶监测仪,供现场使用。其中放射性气溶胶自动监测仪应用于核设施及放射性物质作业场所的气体放射性污染就地实时监测,也适用于放射性气溶胶变化规律的研究。但是对放射性气溶胶浓度的监测通常是通过标准源的传递进行相对测量得到的,即用一已知强度的标准源得出仪表效率,在相同条件下,对样品进行测量,对测得计数进行效率修正,再计算出样品的放射性浓度和含量。目前大部分实验室对这类的气溶胶监测仪校准通常使用电镀源(简称固体源),而该固体源不代表沉积在采样滤膜上的气溶胶(因为放射性气溶胶的监测方法虽然各式各样,但是,他们收集气溶胶样品的方法大多数是采用“过滤法”,这样气溶胶粒子会渗透到滤纸内部,从滤纸深处发射的α粒子,存在自吸收作用),这样仪表对标准源和样品的测量效率就显然不一样,所以对样品的测量结果,除了做仪表效率的修正外,还要做α射线的自吸收修正,因此采用电镀源进行仪器的探测效率刻度,存在较大偏差,缺乏真正合适的标准滤膜源,不能令人满意的将气溶胶的测量结果与标准源联系起来。因此研究气溶胶滤膜标准源可以为全国实验室的测量数据提供量值溯源依据,完善环境放射性监测溯源体系。这要求制备的气溶胶滤膜标准源与气溶胶滤膜样品在材质、形状、大小、有效活度面积等各方面尽量一致,因此制备气溶胶滤膜源通常是将放射性溶液均匀的滴注在与气溶胶滤膜样品一致的滤膜上制备的。但是制备气溶胶滤膜源通常采用的是传统的点阵式滴注模式(通常用于对矩形滤膜进行点样)对圆形滤膜(部分放射性气溶胶监测仪所使用的采样滤膜规格为圆形)进行点阵式点样,即是首先将滤膜划分成等间距的方格,将已知比活度的放射性溶液依次滴注在已在滤膜上画好的方格的四角端点处(图2),该点阵式的滴注模式存在一定的不足:对于圆形滤膜来讲,采用上述方法制备的滤膜标准源其整体均匀性较差(解释:当点样间距一定时,滤膜源面积越小,点样需要的点数就越小,这样滤膜上放射性分布就会偏离圆形,而接近菱形,对于圆形滤膜通常采用准直法测量其均匀性),其次,采用传统点正方形阵列滴注模式对圆形滤膜点样,导致放射性核素在滤膜上有效活度面积与待测样品的有效活度面积存在较大差异(解释:通常为保证对样品测量的准确性,尽可能的制备与待测样品核素、材质、形状、大小、厚度等一致的标准品,以对测量仪器及装置的效率刻度),这样势必会导致对样品测量偏差较大。
技术实现思路
(一)专利技术目的为克服现有技术的不足,本专利技术提供了一种能够提高放射性气溶胶滤膜标准源均匀性、降低成品测量偏差的放射性气溶胶滤膜标准源滴注方法。(二)技术方案一种放射性气溶胶滤膜标准源的滴注方法,该方法包括:采用自动加样装置在滤膜上滴注放射性溶液;其特在在于,所述滴注液滴分布为液滴之间均为正三角形分布。所述自动加样装置滴注时滴注液滴体积为12~25μl。所述自动加样装置滴注时滴注液滴间距为6~7mm。所述自动加样装置滴注时滴注高度为自动样机滴注针尖距离滤膜表面高度大于零且小于等于滴注液滴直径。自动加样装置滴注时滴注速度设置自动加样装置的转速为30~190r/min。所述自动加样装置为加样机器人。(三)有益效果本专利技术的所提供的气溶胶滤膜标准源的滴注方法,采用的滴注液滴分布为液滴之间均为正三角形分布。现在通用的标准源均为圆形,而采用正三角形分布,能以标准源圆心为起点向外辐射,均匀分布;在标准源直径小于70mm的情况下,尤其是在小直径的标准源时采用传统的正方形阵列,当整个标准源的面积不足以放入整个正方形阵列时,就会出现以标准源上出现不均匀的滴注点空隙,使得标准源放射性核素分布不均匀;例如当标准源的面积不足以放入一个最小的正方形阵列(即只有四个滴注点)时,就只能选取三个滴注点,此时滴注点分布就不均匀,从而造成标准源放射性核素分布不均匀。本专利技术打破传统的横平竖直滴注的方式,采用正三角形分布,大大的改善了气溶胶滤膜标准源放射性核素分布均匀性,改善程度能够达到90%以上,同时引起的测量偏差也能大大的改善,达到70%以上。本专利技术在确定滴注液滴分布的基础上,严格控制滴注液滴体积、滴注液滴间距、滴注高度、滴注速度在内的参数,使得气溶胶滤膜标准源的放射性核素分布更加均匀。附图说明图1是本专利技术提供的一种实施例中所述的滴注液滴分布方式示意图。图2是传统点阵式滴注液滴分布方式示意图。具体实施方式以下通过举例对本专利技术的具体实施方式作出进一步的说明。本专利技术的目的是提供一种放射性气溶胶滤膜标准源的滴注方法,为实现此目的,在基础的实施方案中,本专利技术提供一种放射性气溶胶滤膜标准源的滴注方法,所述的滴注方法是将已知放射性活度的放射性溶液滴加在滤膜上进行过滤,通过优化滴注过程中包括放射性溶液组成、滴注液滴体积、滴注液滴间距、滴注液滴分布、滴注高度、滴注速度在内的参数,使放射性核素在滤膜上得到更加均匀的分布。放射性气溶胶滤膜标准源的放射性活度定值方法包括如下步骤:(1)滴注:将已知放射性活度的放射性溶液滴加在滤膜上进行过滤;(2)定值:首先利用HPGeγ谱仪测量所用放射溶液的比活度,并通过不确定度评价;然后利用电子天平分别称量滴源前后所用放射性溶液质量及滴源后放射性溶液质量,利用差重法计算得到制备滤膜源所用放射性溶液的质量,再根据公式{活度=比活度(单位质量活度)×质量},计算得到制备滤膜源所用放射性溶液的活度。其中在步骤(1)的滴注过程中,影响放射性核素在滤膜上分布均匀性的滴注参数主要包括放射性溶液组成、滴注液滴体积、滴注液滴间距、滴注液滴分布、滴注高度、滴注速度。A)放射性溶液组成一般常用的滤膜材质为玻璃纤维或聚丙烯纤维,为了使放射性溶液样品在滤膜上均匀分布,理想状态下要使放射性溶液液滴在滤膜上完全浸润。滴注用放射性溶液为含0.12-0.17mol/L盐酸基质的溶液。由于滤膜表面为憎水性,放射性溶液与滤膜表面存在一定的表面张力,含盐酸基质放射性溶液在滤膜表面形成小液珠,不能够在滤膜上浸润。为减小放射性溶液与滤膜表面之间的张力,使放射性溶液样品能够在滤膜表面浸润,应向放射性溶液中添加乙醇后进行滴注,乙醇在放射性溶液中的体积比浓度应达到50-80%。B)滴注液滴体积及滴注液滴间距不同体积的放射性溶液滴在滤膜上会产生不同大小的浸润的斑点,为了使放射性溶液在滤膜全范围内均匀分布,且浸润的斑点之间要保证既不会相互重叠也不能留太大间隙,因此经研究优化确定:每个滴注点的滴注液滴体积应为15~45μl,滴注点间的滴注液滴间距应为6~9mm。C)滴注液滴分布对于不同要求放射性活性区域的圆形滤膜,可首先确定圆形滤膜中心位置,以此中心位置画一正六边形,然后围绕着中心六边形的每条边再画六个正六边形,以此类推,然后围绕着这6个正六边形的裸着的两条边长再画12个正六边形,以此类推,最终根据圆形滤膜要求的有效放射性区域直径及点样间距确定正六边形的边长。然后利用自动加样装置将放射性溶液滴注在圆盘中央的正六边形中心(1个点)及围绕圆盘中心的排布外层的6个正六边形和次外层的12个正六边形中心上,以此类推,形成后续所需直径的气溶胶本文档来自技高网
...

【技术保护点】
1.一种放射性气溶胶滤膜标准源的滴注方法,该方法包括:采用自动加样装置在滤膜上滴注放射性溶液;其特在在于,所述滴注液滴分布为液滴之间均为正三角形分布。

【技术特征摘要】
1.一种放射性气溶胶滤膜标准源的滴注方法,该方法包括:采用自动加样装置在滤膜上滴注放射性溶液;其特在在于,所述滴注液滴分布为液滴之间均为正三角形分布。2.根据权利要求1所述一种放射性气溶胶滤膜标准源的滴注方法,其特征在于,所述自动加样装置滴注时滴注液滴体积为12~25μl。3.根据权利要求1所述一种放射性气溶胶滤膜标准源的滴注方法,其特征在于,所述自动加样装置滴注时滴注液滴间距为6~7mm。4.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:李明徐利军宋鑫鹏罗瑞夏文张卫东肖振红陈义珍陈克胜
申请(专利权)人:中国原子能科学研究院
类型:发明
国别省市:北京,11

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1