一种接近传感器的校准方法及装置制造方法及图纸

技术编号:19316548 阅读:36 留言:0更新日期:2018-11-03 09:12
本发明专利技术公开了一种接近传感器校准方法,包括:采集接近传感器的静态数据;计算静态数据的平均值,获得接近传感器的平均静态数据;将平均静态数据与预设范围作比较;如果平均静态数据超出预设范围,改变到达接近传感器的光束的数量,以触发接近传感器因感应光束的数量而形成的静态数据发生改变。本发明专利技术还公开了一种接近传感器校准装置。

Calibration method and device for proximity sensor

The present invention discloses a calibration method for proximity sensor, which includes: acquiring static data of proximity sensor; calculating the average value of static data to obtain the average static data of proximity sensor; comparing the average static data with the preset range; changing the arrival of proximity sensor if the average static data exceeds the preset range. The number of beams in the device triggers a change in the static data generated by the proximity sensor due to the number of induced beams. The invention also discloses a proximity sensor calibration device.

【技术实现步骤摘要】
一种接近传感器的校准方法及装置
本专利技术涉及传感器调整技术,尤其是一种接近传感器的校准方法及装置。
技术介绍
现有技术中,对终端使用的接近传感器的校准主要是通过软件实现,其主要过程是:获取接近传感器的当前静态检测数据,对获取的静态数据分段分组设置接近和远离判断门限,如果静态数据偏大就减小静态数据值,反之,如果偏小,就增大静态数据值,使得调整后的静态数据值符合门限范围的要求;在实际使用中,经过调整后的静态数据由于偏大经常出现底部噪声饱和,也会由于偏小而经常出现“黑头发零距离”问题。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术实施例期望提供一种接近传感器的校准方法及装置,能够实现实时监控接近传感器的静态数据,并通过调整接近传感器的硬件设备,解决平均静态数据的偏差,使得接近传感器处于最佳状态。为达到上述目的,本专利技术实施例的技术方案是这样实现的:本专利技术实施例提供了一种接近传感器校准方法,包括:采集接近传感器的静态数据;计算所述静态数据的平均值,获得所述接近传感器的平均静态数据;将所述平均静态数据与预设范围作比较;如果所述平均静态数据超出所述预设范围,改变到达所述接近传感器的光束的数量,以触发所述接近传感器因感应所述光束的数量而形成的静态数据发生改变。上述方案中,所述改变到达所述接近传感器的光束的数量,触发所述接近传感器因感应所述光束的数量而形成的静态数据发生改变包括:通过调整所述接近传感器的透镜位置而改变所述接近传感器的透镜的有效工作距离,触发通过所述透镜到达所述传感器的光束数量跟随所述有效工作距离而改变,使得所述接近传感器因感应所述光束的数量而形成的静态数据发生改变。上述方案中,所述调整所述接近传感器的透镜位置改变所述接近传感器的透镜的有效工作距离包括:通过缩小所述透镜的有效工作距离,触发所述透镜至所述传感器的光源的距离同步缩小,并触发通过所述透镜到达所述传感器的光束数量同步增多,使得所述接近传感器因感应到所述光束的数量的增多而形成同步增大的静态数据;或者,通过增大所述透镜的有效工作距离,触发所述透镜至所述传感器的光源的距离同步增大,并触发通过所述透镜到达所述传感器的光束数量同步减少,使得所述接近传感器因感应到所述光束的数量的减少而形成同步减小的静态数据。上述方案中,所述调整所述接近传感器的透镜位置改变所述接近传感器的透镜的有效工作距离,包括:向线圈马达发出产生正向电流的正向指令,触发所述线圈马达形成与所述接近传感器的透镜中的磁性部件相互相吸的磁性作用力,使得所述透镜因所述磁性作用力向远离所述传感器的光源的方向运动,以增大所述接近传感器的透镜的有效工作距离;或者,向线圈马达发出产生反向电流的反向指令,触发所述线圈马达形成与所述接近传感器的透镜中的磁性部件相互排斥的磁性作用力,使得所述透镜因所述磁性作用力向接近所述传感器的光源的方向运动,以缩小所述接近传感器的透镜的有效工作距离。上述方案中,所述调整所述接近传感器的透镜位置改变所述接近传感器的透镜的有效工作距离包括:向线圈马达发出正向运转的正向指令,通过所述线圈马达带动与所述接近传感器的透镜相连接的曲轴正向运转,使得所述透镜向远离所述传感器的光源的方向运动,以增大所述接近传感器的透镜的有效工作距离;或者,向线圈马达发出反向运转的反向指令,通过线圈马达带动与所述接近传感器的透镜相连接的曲轴反向运转,使得所述透镜向接近所述传感器的光源的方向运动,以缩小所述接近传感器的透镜的有效工作距离。本专利技术实施例还提供了一种接近传感器校准装置,包括:数值采集器,用于采集接近传感器的静态数据;数值计算器,用于计算所述静态数据的平均值,获得所述接近传感器的平均静态数据;数值比较器,用于将所述平均静态数据与预设范围作比较;驱动器,用于改变到达所述接近传感器的光束的数量,以触发所述接近传感器因感应所述光束的数量而形成的静态数据发生改变。上述方案中,所述驱动器,还用于通过调整所述接近传感器的透镜位置而改变所述接近传感器的透镜的有效工作距离,触发通过所述透镜到达所述传感器的光束数量跟随所述有效工作距离而改变,使得所述接近传感器因感应所述光束的数量而形成的静态数据发生改变。上述方案中,所述驱动器,具体用于:通过缩小所述透镜的有效工作距离,触发所述透镜至所述传感器的光源的距离同步缩小,并触发通过所述透镜到达所述传感器的光束数量同步增多,使得所述接近传感器因感应到所述光束的数量的增多而形成同步增大的静态数据;或者,通过增大所述透镜的有效工作距离,触发所述透镜至所述传感器的光源的距离同步增大,并触发通过所述透镜到达所述传感器的光束数量同步减少,使得所述接近传感器因感应到所述光束的数量的减少而形成同步减小的静态数据。上述方案中,所述透镜安装有磁性部件,所述驱动器包括:控制器,用于向信号接口发出产生正向电流的正向指令;所述信号接口,用于将来自所述控制器的正向指令传输至线圈马达;所述线圈马达,用于接收来自所述信号接口的正向指令,产生正向电流,形成与所述透镜中的磁性部件相互相吸的磁性作用力,使得所述透镜因所述磁性作用力向远离所述传感器的光源的方向运动,以增大所述接近传感器的透镜的有效工作距离;所述控制器还用于:向所述信号接口发出产生反向电流的反向指令;所述信号接口还用于:将来自所述控制器的反向指令传输至所述线圈马达;所述线圈马达还用于:接收来自所述信号接口的反向指令,产生反向电流,形成与所述透镜中的磁性部件相互排斥的磁性作用力,使得所述透镜因所述磁性作用力向接近所述传感器的光源的方向运动,以缩小所述接近传感器的透镜的有效工作距离。上述方案中,所述透镜安装有与所述驱动器连接的曲轴,所述驱动器包括:控制器,用于向信号接口发出正向运转的正向指令;所述信号接口,用于将来自所述控制器的正向指令传输至线圈马达;所述线圈马达,用于接收来自所述信号接口的正向指令,通过所述线圈马达带动与所述接近传感器的透镜相连接的曲轴正向运转,使得所述透镜向远离所述传感器的光源的方向运动,以增大所述接近传感器的透镜的有效工作距离;所述控制器还用于:向所述信号接口发出反向运转的反向指令;所述信号接口还用于:将来自所述控制器的反向指令传输至所述线圈马达;所述线圈马达还用于:接收来自所述信号接口的反向指令,通过所述线圈马达带动与所述接近传感器的透镜相连接的曲轴反向运转,使得所述透镜向接近所述传感器的光源的方向运动,以缩小所述接近传感器的透镜的有效工作距离。本专利技术实施例期望提供的接近传感器的校准方法及装置,包括:计算接近传感器所采集的静态数据,获得所述接近传感器的平均静态数据;将所述平均静态数据与预设范围作比较;如果所述平均静态数据超出所述预设范围,改变到达所述接近传感器的光束的数量,触发所述接近传感器因感应所述光束的数量而形成的静态数据发生改变。如此,能够直接调整所述接近传感器,保证接近传感器的平均静态数据的准确,避免了现有技术中通过软件校准而产生的底部噪声饱和问题和黑头发零距离问题。附图说明图1为本专利技术实施例中接近传感器校准方法的实现流程示意图;图2为本专利技术实施例中接近传感器校准装置的组成结构示意图;图3为本专利技术实施例一中,带有磁性部件的接近传感器的校准过程实现流程图;图4为本专利技术实施例一中,带有磁性部件的接近传感器的一种侧视图;图5为本专利技术实施本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种接近传感器校准方法,其特征在于,所述方法包括:采集接近传感器的静态数据;计算所述静态数据的平均值,获得所述接近传感器的平均静态数据;将所述平均静态数据与预设范围作比较;如果所述平均静态数据超出所述预设范围,改变到达所述接近传感器的光束的数量,以触发所述接近传感器因感应所述光束的数量而形成的静态数据发生改变。

【技术特征摘要】
1.一种接近传感器校准方法,其特征在于,所述方法包括:采集接近传感器的静态数据;计算所述静态数据的平均值,获得所述接近传感器的平均静态数据;将所述平均静态数据与预设范围作比较;如果所述平均静态数据超出所述预设范围,改变到达所述接近传感器的光束的数量,以触发所述接近传感器因感应所述光束的数量而形成的静态数据发生改变。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述改变到达所述接近传感器的光束的数量,触发所述接近传感器因感应所述光束的数量而形成的静态数据发生改变包括:通过调整所述接近传感器的透镜位置而改变所述接近传感器的透镜的有效工作距离,触发通过所述透镜到达所述传感器的光束数量跟随所述有效工作距离而改变,使得所述接近传感器因感应所述光束的数量而形成的静态数据发生改变。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述调整所述接近传感器的透镜位置改变所述接近传感器的透镜的有效工作距离包括:通过缩小所述透镜的有效工作距离,触发所述透镜至所述传感器的光源的距离同步缩小,并触发通过所述透镜到达所述传感器的光束数量同步增多,使得所述接近传感器因感应到所述光束的数量的增多而形成同步增大的静态数据;或者,通过增大所述透镜的有效工作距离,触发所述透镜至所述传感器的光源的距离同步增大,并触发通过所述透镜到达所述传感器的光束数量同步减少,使得所述接近传感器因感应到所述光束的数量的减少而形成同步减小的静态数据。4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述调整所述接近传感器的透镜位置改变所述接近传感器的透镜的有效工作距离,包括:向线圈马达发出产生正向电流的正向指令,触发所述线圈马达形成与所述接近传感器的透镜中的磁性部件相互相吸的磁性作用力,使得所述透镜因所述磁性作用力向远离所述传感器的光源的方向运动,以增大所述接近传感器的透镜的有效工作距离;或者,向线圈马达发出产生反向电流的反向指令,触发所述线圈马达形成与所述接近传感器的透镜中的磁性部件相互排斥的磁性作用力,使得所述透镜因所述磁性作用力向接近所述传感器的光源的方向运动,以缩小所述接近传感器的透镜的有效工作距离。5.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述调整所述接近传感器的透镜位置改变所述接近传感器的透镜的有效工作距离包括:向线圈马达发出正向运转的正向指令,通过所述线圈马达带动与所述接近传感器的透镜相连接的曲轴正向运转,使得所述透镜向远离所述传感器的光源的方向运动,以增大所述接近传感器的透镜的有效工作距离;或者,向线圈马达发出反向运转的反向指令,通过线圈马达带动与所述接近传感器的透镜相连接的曲轴反向运转,使得所述透镜向接近所述传感器的光源的方向运动,以缩小所述接近传感器的透镜的有效工作距离。6.一种接近传感器校准装置,其特征在于,所述装置包括:数值采集器,用于采集接近传感器的静态数据;数值计算器,用于计算所述静态数据的平均值,获得所述接近传感...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈庆威
申请(专利权)人:中兴通讯股份有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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