光稳定剂组合物以及其树脂组合物制造技术

本发明专利技术提供一种光稳定剂组合物，其使2,2,6,6‑四甲基哌啶醇类与碳酸酯反应而得到的受阻胺化合物的操作性得到了改善；具体而言，提供一种光稳定剂组合物，其是相对于(A)含水率为2～7重量％的二氧化硅100质量份浸渗(B)由通式(1)表示的受阻胺化合物10～300质量份而成的。此外，优选配合(C)由通式(3)表示的苯甲酸酯系光稳定剂5～500质量份。通式(1)和(3)的详细情况如本说明书中所述。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光稳定剂组合物以及其树脂组合物
本专利技术涉及优选用于仪表板或减震器、内衬等车辆用部件的光稳定剂组合物；详细而言，本专利技术涉及对高含水二氧化硅浸渗受阻胺化合物而得到的光稳定剂组合物以及配合该光稳定剂组合物而成的树脂组合物。
技术介绍
聚烯烃系树脂会因光而劣化，从而无法耐受长时间的使用，因此通常配合紫外线吸收剂或受阻胺化合物以赋予长期的稳定化。对于作为光稳定剂使用的化合物来说，通常优选为熔点高、树脂增塑和来自树脂的挥发小的化合物。但是，当进行高分子量化时，树脂中的光稳定剂的移动被抑制，因此有稳定化效果变小的倾向。使2,2,6,6-四甲基哌啶醇类与脂肪酸反应而得到的受阻胺化合物虽然为低熔点的化合物，但能够赋予优异的耐候性。然而，在用于聚烯烃系树脂的情况下，容易从树脂中挥发，因此存在耐候性的效果无法持续之类的问题。并且，上述受阻胺化合物的分子量低而容易形成液态，表面容易形成粘着状，因此操作性存在问题。作为对液态或熔点添加剂的操作性进行改善的方法，专利文献1提出了利用母料化的方法；专利文献2提出了利用微胶囊化的方法；专利文献3提出了浸渗于吸油量为150ml/100g以上的粉体状无机物的方法。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2003-41008号公报专利文献2：US5837759号专利文献3：US2009/0088513号
技术实现思路
专利技术所要解决的问题但是，就利用母料化的方法来说，当配合高浓度的受阻胺化合物时，受阻胺化合物从母料中渗出，从而表面形成粘着状，因此不得不将配合量抑制为低浓度，技术上残留有问题。利用微胶囊化的方法的成本高，晶体化的促进与非晶质相比，虽然操作性提高，但是无法适用于液态产品，在晶体产品的熔点低的情况下，抗结块效果小、操作性的改善不充分。专利文献3所述的方法记载了使用高度碱性的粉体作为浸渗液态树脂添加剂的介质的方法，但碱性的粉体有时会使配合于树脂中的其它添加剂成分(特别是酚系抗氧化剂)着色。另外，还提出了使用硅酸铝化合物的方法，但硅酸铝化合物较昂贵，因此工业上的利用价值低。因此，本专利技术的目的在于：提供一种光稳定剂组合物，其使2,2,6,6-四甲基哌啶醇类与碳酸酯反应而得到的受阻胺化合物的操作性得到了改善。本专利技术人为了解决上述问题进行了反复深入的研究，结果通过使上述受阻胺化合物浸渗于含水率被调整为特定范围的二氧化硅，从而解决了上述问题。即，本专利技术提供一种光稳定剂组合物，其是相对于(A)含水率为2～7重量％的二氧化硅100质量份浸渗(B)由下述通式(1)表示的受阻胺化合物10～300质量份而成的。(式(1)中，R1表示氢原子、羟基、碳原子数为1～30的烷基、羟烷基、烷氧基、羟基烷氧基或氧自由基(oxyradical)，R2表示碳原子数为1～30的烷基、碳原子数为2～30的链烯基或由下述通式(2)表示的基团。)(R3表示与上述通式(1)中的R1相同的基团。)另外，本专利技术的光稳定剂组合物优选作为上述(A)成分的二氧化硅是粒径为0.1～100μm的二氧化硅。此外，本专利技术的光稳定剂组合物优选是进一步配合(C)由下述通式(3)表示的苯甲酸酯系光稳定剂5～500质量份而成的。(式中，R4和R5各自独立地表示氢原子、碳原子数为1～12的烷基或碳原子数为7～30的芳烷基，R6表示碳原子数为8～30的烷基。)另外，本专利技术提供一种树脂组合物，其特征在于，其是相对于树脂100质量份配合上述光稳定剂组合物0.01～1质量份而成的。本专利技术中，优选上述树脂为聚烯烃系树脂的树脂组合物。此外，本专利技术提供一种车辆用部件，其是将上述树脂组合物成型而成的。专利技术效果根据本专利技术，可以提供一种操作性优异、能够对树脂赋予优异的耐候性的光稳定剂组合物。另外，通过将上述光稳定剂组合物配合于树脂，能够提供耐候性优异的树脂组合物，其适合于车辆用部件。具体实施方式下面，对本专利技术进行详细说明。(A)二氧化硅二氧化硅有天然品和合成品，分别具有晶质和非晶质的性质。作为天然品的晶质，可以列举出：石英、水晶、硅砂等；作为天然品的非晶质，可以列举出：硅藻土、酸性白土等。作为合成品，可以列举出：干式二氧化硅、湿式二氧化硅、二氧化硅凝胶等非晶质。本专利技术中，从廉价和不阻碍与树脂一起配合的添加剂的性能的观点考虑，上述二氧化硅中优选pH为6～8左右的中性的二氧化硅。本专利技术的(A)二氧化硅的含水率为2～7重量％。在少于2重量％的情况下，粉体状的无机物带电而凝聚，操作性有时变得困难。在多于7重量％的情况下，将这些物质配合而成的聚烯烃系树脂组合物等在成型加工时可能会发泡。二氧化硅的含水率可通过放置于调整了湿度的环境下来容易地调整，可以通过喷雾水或利用真空或热源进行干燥来调整。上述(A)二氧化硅的平均粒径根据成型品的用途而异，优选为0.1～100μm、更优选为0.3～50μm、进一步优选为0.5～30μm。在平均粒径与上述范围相比过大的情况下，在树脂中的分散性变差，从而有时会使树脂的物性降低；在与上述范围相比过小的情况下，容易产生粉尘，有时会使作业环境变差。本专利技术中，对上述(A)二氧化硅没有特别限定，可以使用通过公知的合成方法得到的二氧化硅。作为具体的合成方法，例如可以列举出：使四氯化硅在氧或氢焰中燃烧的方法；由制造金属硅时产生的副产物得到的方法；通过硅酸钠和无机酸(硫酸、盐酸等)进行中和反应的方法；基于烷氧基硅烷水解的方法等。通过选择反应条件，可以得到粒径、表面结构、微孔状态等不同的二氧化硅。作为本专利技术的(A)二氧化硅的优选制品，例如可以列举出：水泽化学工业株式会社制造的商品名(MizukasilP-78D)、DSL日本株式会社制造的商品名(Carplex#80)、Evonik公司制造的商品名(SIPERNAT22S)、TosohSilica株式会社制造的商品名(NipgelKP、NipgelNS)等。但是，本专利技术不受上述制品的任何限制。(B)受阻胺化合物本专利技术中使用的受阻胺化合物是由上述通式(1)表示的化合物，可通过使2,2,6,6-四甲基哌啶醇类与碳酸酯反应而得到。上述通式(1)中，作为由R1和R2表示的碳原子数为1～30的烷基，例如可以列举出：甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、仲戊基、叔戊基、己基、庚基、辛基、异辛基、2-乙基己基、叔辛基、壬基、异壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基等。R1和R2可以相同，也可以不同。另外，作为上述通式(1)中由R1表示的碳原子数为1～30的羟烷基，例如可以列举出：羟乙基、2-羟丙基、3-羟丙基等上述烷基的羟基取代体。此外，作为上述通式(1)中由R1表示的碳原子数为1～30的烷氧基，可以列举出：与上述烷基对应的甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、辛氧基、2-乙基己氧基等。另外，作为上述通式(1)中由R1表示的碳原子数为1～30的羟基烷氧基，可以列举出：与上述烷氧基对应的羟基乙氧基、2-羟基丙氧基、3-羟基丙氧基、4-羟基丁氧基、2-羟基-2-甲基丙氧基、6-羟基己氧基等。此外，作为上述通式(1)中由R2表示的碳原子数为2～30的链烯基，可以列举出：乙烯基、丙烯基、丁烯基、己烯基、油烯基等。双键的位置可以为α-位、内部，或者也可以为ω-位本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光稳定剂组合物，其是相对于(A)含水率高于2重量％且为7重量％以下的二氧化硅100质量份浸渗(B)由下述通式(1)表示的受阻胺化合物10～300质量份而成的，

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.11.26 JP 2013-2441831.一种光稳定剂组合物，其是相对于(A)含水率高于2重量％且为7重量％以下的二氧化硅100质量份浸渗(B)由下述通式(1)表示的受阻胺化合物10～300质量份而成的，式(1)中，R1表示氢原子、羟基、碳原子数为1～30的烷基、羟烷基、烷氧基、羟基烷氧基或氧自由基，R2表示碳原子数为1～30的烷基、碳原子数为2～30的链烯基或由下述通式(2)表示的基团，R3表示与所述通式(1)中的R1相同的基团。2.根据权利要求1所述的光稳定剂组合物，其中，作为所述(A)成分的二氧化硅是...

【专利技术属性】
技术研发人员：绫部敬士，臼井崇，横森美奈子，
申请(专利权)人：株式会社艾迪科，
类型：发明
国别省市：日本,JP