OLED显示装置及其制作方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种OLED显示装置及其制作方法。所述OLED显示装置包括：OLED显示基板以及与所述OLED显示基板相对设置的封装盖板；所述OLED显示基板包括：衬底基板以及位于所述衬底基板靠近所述封装盖板的一侧的阵列排布的多个OLED显示单元；所述封装盖板远离所述基板的一侧表面形成有阵列排布的多个凹槽，每一个凹槽内均填充有散射层，每一个凹槽均对应与一个OLED显示单元相对设置，通过在封装盖板上形成凹槽，并在凹槽内填充散射层，能够在保证封装效果的前提下，提升OLED显示装置的出光效率，改善OLED显示装置的显示效果。

【技术实现步骤摘要】
OLED显示装置及其制作方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种OLED显示装置及其制作方法。
技术介绍
平面显示器件具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。现有的平面显示器件主要包括液晶显示器件(LiquidCrystalDisplay，LCD)及有机发光二极管显示器件(OrganicLightEmittingDisplay，OLED)。有机发光二极管显示器件由于同时具备自发光，不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制程较简单等优异特性，被认为是下一代平面显示器的新兴应用技术。OLED显示器件通常包括：基板、设于基板上的阳极、设于阳极上的空穴注入层、设于空穴注入层上的空穴传输层、设于空穴传输层上的发光层、设于发光层上的电子传输层、设于电子传输层上的电子注入层、及设于电子注入层上的阴极。OLED显示器件的发光原理为半导体材料和有机发光材料在电场驱动下，通过载流子注入和复合导致发光。具体的，OLED显示器件通常采用氧化铟锡(ITO)像素电极和金属电极分别作为器件的阳极和阴极，在一定电压驱动下，电子和空穴分别从阴极和阳极注入到电子传输层和空穴传输层，电子和空穴分别经过电子传输层和空穴传输层迁移到发光层，并在发光层中相遇，形成激子并使发光分子激发，后者经过辐射弛豫而发出可见光。目前，OLED显示器件的出光效率较低，大部分的光由于在内部进行折射或反射，而无法有效的提取出来，导致光损失较多，因此需要针对OLED显示器件设计额外的光提取装置，提升OLED显示器件的出光效率，目前使用较多光提取的方法包括：在OLED器件内部或玻璃基板内部掺杂散射粒子以及直接加外部的出光装置，但是在OLED器件或玻璃基板内部掺杂散射粒子这种方法实现较难，器件内部的U％(膜厚均匀性)得不到有效保证，而加入外置光提取装置，会增加整个器件的厚度，不利于未来商业化生产。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种OLED显示装置，能够在保证封装效果的前提下，提升OLED显示装置的出光效率，改善OLED显示装置的显示效果。本专利技术的目的还在于提供一种OLED显示装置的制作方法，能够在保证封装效果的前提下，提升OLED显示装置的出光效率，改善OLED显示装置的显示效果。为实现上述目的，本专利技术提供了一种OLED显示装置，包括：OLED显示基板以及与所述OLED显示基板相对设置的封装盖板；所述OLED显示基板包括：衬底基板以及位于所述衬底基板靠近所述封装盖板的一侧的阵列排布的多个OLED显示单元；所述封装盖板远离所述基板的一侧表面形成有阵列排布的多个凹槽，每一个凹槽内均填充有散射层，每一个凹槽均对应与一个OLED显示单元相对设置。所述散射层的材料为无机金属氧化物。所述散射层的材料为二氧化钛。所述凹槽的深度大于所述散射层的厚度，所述凹槽的深度小于或等于15μm，所述散射层的厚度大于5μm且小于15μm。每一个OLED显示单元均包括至少一个OLED子像素。本专利技术还提供一种OLED显示装置的制作方法，包括如下步骤：步骤S1、提供一封装盖板，对所述封装盖板进行图案化，形成位于所述封装盖板的第一表面上的阵列排布的多个凹槽；步骤S2、提供一保护膜，将所述保护膜贴附到所述封装盖板第一表面上，所述保护膜遮挡所述封装盖板的第一表面上未形成凹槽的区域，同时暴露出所述凹槽；步骤S3、将所述封装盖板浸泡于散射层前驱体溶液中，并对所述散射层前驱体溶液进行加热，使得散射层前驱体溶液进行自组装，形成覆盖所述凹槽和保护膜的散射薄膜；步骤S4、剥离所述保护膜及位于所述保护膜上的散射薄膜，得到填充于所述凹槽内的散射层；步骤S5、提供一衬底基板，在所述衬底基板上形成阵列排布的多个OLED显示单元，得到OLED显示基板；步骤S6、将所述封装盖板与所述OLED显示基板组合，得到OLED显示装置，组合后，所述封装盖板的第一表面位于所述封装盖板远离所述OLED显示基板的一侧，所述OLED显示单元位于所述OLED显示基板靠近所述封装盖板的一侧，每一个凹槽均对应与一个OLED显示单元相对设置。所述散射层的材料为无机金属氧化物，所述散射层前驱体溶液包括：前驱体介质、辅助溶剂及分散剂。所述散射层的材料为二氧化钛，所述前驱体介质为四氯化钛或钛酸四丁酯，所述辅助溶剂为盐酸和水，所述前驱体溶液的质量分数为15％～40％。所述凹槽的深度大于所述散射层的厚度，所述凹槽的深度小于或等于15μm，所述散射层的厚度大于5μm且小于15μm。每一个OLED显示单元均包括至少一个OLED子像素。本专利技术的有益效果：本专利技术提供一种OLED显示装置，所述OLED显示装置包括：OLED显示基板以及与所述OLED显示基板相对设置的封装盖板；所述OLED显示基板包括：衬底基板以及位于所述衬底基板靠近所述封装盖板的一侧的阵列排布的多个OLED显示单元；所述封装盖板远离所述基板的一侧表面形成有阵列排布的多个凹槽，每一个凹槽内均填充有散射层，每一个凹槽均对应与一个OLED显示单元相对设置，通过在封装盖板上形成凹槽，并在凹槽内填充散射层，能够在保证封装效果的前提下，提升OLED显示装置的出光效率，改善OLED显示装置的显示效果。本专利技术还提供一种OLED显示装置的制作方法，能够在保证封装效果的前提下，提升OLED显示装置的出光效率，改善OLED显示装置的显示效果。附图说明为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制。附图中，图1为本专利技术的OLED显示装置的示意图暨本专利技术的本专利技术的OLED显示装置的制作方法的步骤S5和步骤S6的示意图；图2为本专利技术的OLED显示装置的制作方法的步骤S1的示意图；图3为本专利技术的OLED显示装置的制作方法的步骤S2的示意图；图4为本专利技术的OLED显示装置的制作方法的步骤S3的示意图；图5为本专利技术的OLED显示装置的制作方法的步骤S4的示意图；图6为本专利技术的OLED显示装置的制作方法的流程图。具体实施方式为更进一步阐述本专利技术所采取的技术手段及其效果，以下结合本专利技术的优选实施例及其附图进行详细描述。请参阅图1，本专利技术提供一种OLED显示装置，包括：OLED显示基板10以及与所述OLED显示基板10相对设置的封装盖板20；所述OLED显示基板10包括：衬底基板11以及位于所述衬底基板11靠近所述封装盖板20的一侧的阵列排布的多个OLED显示单元12；所述封装盖板20远离所述基板10的一侧表面形成有阵列排布的多个凹槽21，每一个凹槽21内均填充有散射层22，每一个凹槽21均对应与一个OLED显示单元12相对设置。具体地，所述散射层22的材料为无机金属氧化物。进一步地，所述散射层22可通过自组装工艺形成。优选地，所述散射层22的材料为二氧化钛，以获取较好的散射效果，同时还能减少外部的紫外线对OLED显示装置发光的影响。具体地，所述凹槽的深度大于所述散射层的厚度，优选地，所述凹槽21的深度小于或等于15μm，所述散射层22的厚度大于5μm且小于15μm。具体地，每一个OLED显示单元12均包括至少一个OLED子像素(Sub-Pixel)，例如在本专利技术的一些实施例中每一个本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种OLED显示装置，其特征在于，包括：OLED显示基板(10)以及与所述OLED显示基板(10)相对设置的封装盖板(20)；所述OLED显示基板(10)包括：衬底基板(11)以及位于所述衬底基板(11)靠近所述封装盖板(20)的一侧的阵列排布的多个OLED显示单元(12)；所述封装盖板(20)远离所述基板(10)的一侧表面形成有阵列排布的多个凹槽(21)，每一个凹槽(21)内均填充有散射层(22)，每一个凹槽(21)均对应与一个OLED显示单元(12)相对设置。

【技术特征摘要】
1.一种OLED显示装置，其特征在于，包括：OLED显示基板(10)以及与所述OLED显示基板(10)相对设置的封装盖板(20)；所述OLED显示基板(10)包括：衬底基板(11)以及位于所述衬底基板(11)靠近所述封装盖板(20)的一侧的阵列排布的多个OLED显示单元(12)；所述封装盖板(20)远离所述基板(10)的一侧表面形成有阵列排布的多个凹槽(21)，每一个凹槽(21)内均填充有散射层(22)，每一个凹槽(21)均对应与一个OLED显示单元(12)相对设置。2.如权利要求1所述的OLED显示装置，其特征在于，所述散射层(22)的材料为无机金属氧化物。3.如权利要求2所述的OLED显示装置，其特征在于，所述散射层(22)的材料为二氧化钛。4.如权利要求1所述的OLED显示装置，其特征在于，所述凹槽(21)的深度大于所述散射层(22)的厚度，所述凹槽(21)的深度小于或等于15μm，所述散射层(22)的厚度大于5μm且小于15μm。5.如权利要求1所述的OLED显示装置，其特征在于，每一个OLED显示单元(12)均包括至少一个OLED子像素。6.一种OLED显示装置的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1、提供一封装盖板(20)，对所述封装盖板(20)进行图案化，形成位于所述封装盖板(20)的第一表面上的阵列排布的多个凹槽(21)；步骤S2、提供一保护膜(40)，将所述保护膜(20)贴附到所述封装盖板(20)第一表面上，所述保护膜(40)遮挡所述封装盖板(20)的第一表面上未形成凹槽(21)的区域，同时暴露出所述凹槽(21)；步骤S3、将所述封装盖板(20)浸泡于散射层前驱体溶液中，并对所...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄辉，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44