The invention relates to solid state imaging devices, imaging systems and movable objects. A solid-state imaging device comprises: a plurality of pixels, each of which contains an electro-optical converter. The photoelectric converter includes the first semiconductor region of the first conductive type, the second semiconductor region of the second conductive type set under the first semiconductor region, and the first conductive type of the third semiconductor area under the second semiconductor region. The second semiconductor region has a first end and a second end opposite to the first end. The third semiconductor region has a first region and a second region that overlaps the second semiconductor region in a plane diagram, and the first region and the second region are separated from one part of the first end to a part of the second end.
【技术实现步骤摘要】
固态成像器件、成像系统和可移动物体
本专利技术涉及固态成像器件和成像系统。
技术介绍
在由CCD图像传感器或CMOS图像传感器代表的固态成像器件中,光电转换器的灵敏度和饱和电荷量是决定固态成像器件的性能的重要特性。作为CCD图像传感器或CMOS图像传感器的光电转换器,使用包括pn结的嵌入式光电二极管的光电转换器成为主流,所述pn结具有设置在半导体基板的表面部分中的p型半导体区域和形成电荷蓄积区域的n型半导体区域。在这种情况下,在光电转换器中产生的信号载流子是电子。其中布置光电转换器的基板的结构可以是n型基板结构和p阱结构。n型基板结构是p型半导体区域被设置在具有低杂质浓度的n型半导体基板的深部中并且光电转换器被布置在与位于更深部分中的半导体基板电气隔离的基板表面部分的n型半导体区域内的结构。P阱结构是光电转换器被布置于设置在半导体基板的表面部分中的p阱内的结构。低浓度n型基板结构的特征在于其高灵敏度,这是由于在n型半导体区域内产生的信号电荷通过漂移力(driftforce)被收集。例如,在日本专利申请公开No.2008-078302中公开了具有n型基板结构的光电转换器的固态成像器件。另一方面,p阱结构的特征在于,由于在形成电荷蓄积区域的n型半导体区域与p阱之间形成p-n结电容器,因此饱和电荷量大。例如,在日本专利申请公开No.2014-165286中公开了具有p阱结构的光电转换器的固态成像器件。在日本专利申请公开No.2008-078302和日本专利申请公开No.2014-165286所公开的固态成像器件中,通过在形成电荷蓄积区域的n型半导体区域下面布置较 ...
【技术保护点】
1.一种固态成像器件,其特征在于包括:多个像素,所述多个像素中的每一个包含光电转换器,其中,光电转换器包含第一导电类型的第一半导体区域、被设置在第一半导体区域下面的第二导电类型的第二半导体区域和被设置在第二半导体区域下面的第一导电类型的第三半导体区域,其中,第二半导体区域具有第一端部和与第一端部相反的第二端部,以及其中,第三半导体区域具有第一区域和第二区域,第一区域和第二区域中的每一个在平面图中与第二半导体区域重叠,并且,第一区域和第二区域从第一端部的一部分到第二端部的一部分相互分开。
【技术特征摘要】
2016.12.28 JP 2016-2559131.一种固态成像器件,其特征在于包括:多个像素,所述多个像素中的每一个包含光电转换器,其中,光电转换器包含第一导电类型的第一半导体区域、被设置在第一半导体区域下面的第二导电类型的第二半导体区域和被设置在第二半导体区域下面的第一导电类型的第三半导体区域,其中,第二半导体区域具有第一端部和与第一端部相反的第二端部,以及其中,第三半导体区域具有第一区域和第二区域,第一区域和第二区域中的每一个在平面图中与第二半导体区域重叠,并且,第一区域和第二区域从第一端部的一部分到第二端部的一部分相互分开。2.根据权利要求1所述的固态成像器件,其中,第一区域与第二区域之间的间隙被布置为在平面图中横穿第二半导体区域。3.根据权利要求1或2所述的固态成像器件,其中,第一区域与第二区域之间的间隙在平面图中被第三半导体区域包围。4.根据权利要求1或2所述的固态成像器件,其中,光电转换器被设置在第一半导体区域与第二半导体区域之间,并且还包含第一导电类型的第四半导体区域,第四半导体区域的至少一部分在平面图中与第一区域和第二区域之间的间隙重叠。5.根据权利要求1或2所述的固态成像器件,其中,光电转换器还包含第二导电类型的第五半导体区域,第五半导体区域被设置在平面图中与设置第三半导体区域的区域相同的区域中的、第二半导体区域与第三半导体区域之间的深度中。6.根据权利要求1或2所述的固态成像器件,其中,所述多个像素中的每一个还包含电荷保持部分,并且还包含将电荷从光电转换器传送到电荷保持部分的传送晶体管,并且其中,第一区域与第二区域之间的间隙在平面图中不与传送晶体管的栅电极重叠。7.根据权利要求1或2所述的固态成像器件,其中,第一区域与第二区域之间的间隙在平面图中被布置于第二半导体区域的中心部分中。8.根据权利要求1或2所述的固态成像器件,其中,光电转换器被设置在第二导电类型的第六半导体区域中。9.根据权利要求8所述的固态成像器件,其中,光电转换器被设置在第二导电类型的半导体基板中,以及其中,第六半导体区域...
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