通断器制造技术

第一开闭阀(2)及第二开闭阀(3)均为二通阀。在第一通路块(5)中，形成有第一开闭阀用流入通路(11)及第一开闭阀用流出通路(12)。在第二通路块(6)中，形成有第二开闭阀用流入通路(14)及第二开闭阀用流出通路(15)。第二开闭阀用流出通路(15)通过在第一通路块(5)中形成的连通路(13)而与第一开闭阀用流出通路(12)的上游侧部分连通。在第二开闭阀用流出通路(15)与连通路(13)之间设置有孔板(20)。根据上述结构，能够防止由于流体的逆流所引起的内部污染，减少阀的更换频率。

Interruption

The first closed valve (2) and the two opening and closing valve (3) are all two - pass valves. In the first channel block (5), the flow path (11) and the first open and close valve for the first open and close valve are formed (12). In the second channel block (6), the flow path (14) and the two opening valve are formed with second open and close valves (15). The second opening and closing valve is connected by the outflow passage (15) through the connected path (13) formed in the first passage block (5) and the upstream side part of the first opening and closing valve with the outflow passage (12). A perforated plate (20) is arranged between the second opening and closing valves (15) and the connecting path (13). According to the above structure, the internal pollution caused by the reverse flow of the fluid can be prevented and the replacement frequency of the valve can be reduced.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】通断器
本专利技术涉及一种通断器，尤其涉及一种在半导体制造装置的气体供给部中适用的通断器。
技术介绍
在半导体制造装置的气体供给部中，使用由多个开闭阀和一个或多个块通路组合而成的通断器(专利文献1)。图7表示其一例。在图7中，通断器(31)具备：配置在下游侧的第一开闭阀(32)；与第一开闭阀(32)的上游侧相邻的第二开闭阀(33)；与第二开闭阀(33)的上游侧相邻的第三开闭阀(34)；支承第一开闭阀(32)的长方体状的第一通路块(35)；支承第二开闭阀(33)及第三开闭阀(34)的长方体状的第二通路块(36)；以及在第一通路块(35)的下游侧的端面设置且与外部装置连接的接头(37)。第一开闭阀(32)为三通隔膜阀，第二开闭阀(33)为二通隔膜阀，第三开闭阀(34)为二通隔膜阀。在与第一开闭阀(32)对应的第一通路块(35)中，形成有第一开闭阀用第一流入通路(41)、第一开闭阀用第二流入通路(42)、以及第一开闭阀用流出通路(43)。在与第二开闭阀(33)及第三开闭阀(34)对应的第二通路块(36)中，形成有第二开闭阀用流入通路(44)、第二开闭阀用流出通路(45)、第三开闭阀用流入通路(46)、第三开闭阀用流出通路(47)、以及第一开闭阀用连通路(48)。第二开闭阀用流出通路(45)在第一通路块(35)与第二通路块(36)的对接面上，通过密封部(49)与第一开闭阀用第二流入通路(42)连通。第一开闭阀用连通路(48)由一端在后面开口、另一端通往第三开闭阀用流出通路(47)的下端部的第一部分(48a)、和与第一部分(48a)相连而向前方延伸的第二部分(48b)组成，第二部分(48b)在第一通路块(35)与第二通路块(36)的对接面上，通过密封部(50)与第一开闭阀用第一流入通路(41)连通。作为三通隔膜阀的第一开闭阀(32)的通路即第一开闭阀用第二流入通路(42)与第一开闭阀用流出通路(43)通过阀室(52)的环状槽(52a)而始终连通。在使第一开闭阀(32)关闭，而使第二开闭阀(33)开放的状态下，如图7中的箭头所示，在使流体流入第二开闭阀用流入通路(44)的情况下，流体通过第二开闭阀用流出通路(45)流至第一开闭阀用第二流入通路(42)，并经过第一开闭阀用流出通路(43)供给至外部装置侧。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利公开2001-254857号公报
技术实现思路
(一)要解决的技术问题上述通断器(31)有时设置在半导体处理装置的处理炉附近。在该情况下，由于第一开闭阀(32)的通路即第一开闭阀用第二流入通路(42)与第一开闭阀用流出通路(43)始终连通，因此在处理炉侧的压力较高的情况下，处理炉内的流体有时会逆流至第一开闭阀用流出通路(43)、第一开闭阀用第二流入通路(42)、以及第二开闭阀用流出通路(45)中。在处理炉内的流体侵入通断器(1)的情况下，阀内部会受到污染、腐蚀，或产生微粒，因此存在阀的更换频率增加这样的问题。本专利技术的目的在于，提供一种能够防止因流体的逆流所引起的内部污染，而减少阀的更换频率的通断器。(二)技术方案本专利技术的通断器具备：配置在下游侧的第一开闭阀、与第一开闭阀的上游侧相邻的第二开闭阀、支承第一开闭阀及第二开闭阀的通路块，所述通断器的特征在于，第一开闭阀及第二开闭阀均为二通阀，在通路块中形成有第一开闭阀用流入通路、第一开闭阀用流出通路、第二开闭阀用流入通路以及第二开闭阀用流出通路，第二开闭阀用流出通路通过在通路块中形成的连通路而与第一开闭阀用流出通路连通，在第二开闭阀用流出通路与连通路之间设置有节流部。二通开闭阀通常是隔膜按压或离开阀座而开闭流体通路的隔膜阀。优选地，在隔膜阀的阀室底面设置环状槽，且该环状槽的周向上的一处为通往流入通路开口的入口端。在使第一开闭阀关闭，使第二开闭阀开放的状态下，流入第二开闭阀用流入通路的流体经过第二开闭阀用流出通路、连通路、以及第一开闭阀用流出通路而被供给至外部装置(半导体处理装置的处理炉等)。在该情况下，通过关闭第一开闭阀，流体不会从第一开闭阀用流出通路流入第一开闭阀的阀室。另外，在设置有节流部的部分，流体通路的直径变小，由此，在一次侧(第二开闭阀用流出通路)的压力比二次侧(连通路)的压力更高的状态下，流体从第二开闭阀用流出通路被送至连通路及第一开闭阀用流出通路。因此，即使外部装置侧的流体的压力在一定程度上变高，也可防止流体从连通路逆流至第二开闭阀用流出通路，流体不会进入第二开闭阀的阀室。这样，第一开闭阀及第二开闭阀均能够防止来自外部装置侧的逆流所引起的逆扩散，防止由于逆流的流体而使隔膜腐蚀，并减少开闭阀的更换频率。节流部的形状及结构并不特别受限。例如，作为节流部，可以使用喷嘴、孔板。另外，孔板可以是将通常的垫圈的孔的直径减小的孔板垫圈，其中该通常的垫圈的孔径与通路直径相同。孔板垫圈可以是与用于形成密封部的垫圈不同的部件，与垫圈共同使用。通路块例如由支承第一开闭阀的第一通路块、和支承第二开闭阀的第二通路块构成。在通路彼此的对接部，根据需要，设置有使用了垫圈的密封部。有时，通断器还具备与第二开闭阀的上游侧相邻的第三开闭阀，第三开闭阀为二通阀，在通路块中，形成有第三开闭阀用流入通路、第三开闭阀用流出通路、以及第一开闭阀用连通路，第一开闭阀用连通路的一端在通路块的外面上开口，中间部分与第三开闭阀用流出通路连通，而另一端与第一开闭阀用流入通路连通。第三开闭阀可以被第三通路块所支承，但优选被支承第二开闭阀的第二通路块所支承。通过增加第三开闭阀以及与之对应的通路，从而除了向第一开闭阀供给流体的流体供给管路，还能够通过在第三开闭阀上连接真空泵，来形成真空排放管路。(三)有益效果根据本专利技术的通断器，在使第一开闭阀关闭，使第二开闭阀开放的状态下，在流体流入第二开闭阀用流入通路的情况下，通过关闭第一开闭阀，流体不会从第一开闭阀用流出通路进入第一开闭阀的阀室，另外，在设置有节流部的部分，流体通路的直径变小，在一次侧(第二开闭阀用流出通路)的压力比二次侧(连通路)的压力更高的状态下，流体从第二开闭阀用流出通路被送至连通路及第一开闭阀用流出通路。由此，能够防止流体从连通路逆流至第二开闭阀用流出通路，流体不会进入第二开闭阀的阀室。这样，第一开闭阀及第二开闭阀均能够防止来自外部装置侧的逆流所引起的内部污染，并能够减少阀的更换频率。附图说明图1是表示本专利技术的通断器的一个实施方式的侧视图。图2是图1仰视图。图3是图1的主要部分(取下开闭阀的状态)的俯视图。图4是图3的垂直截面图。图5是表示第一通路块的第一开闭阀用流入通路的水平截面图。图6是图1的立体图。图7是表示以往的通断器一例的切除一部分的侧视图。附图标记说明(1)-通断器；(2)-第一开闭阀；(3)-第二开闭阀；(4)-第三开闭阀；(5)-第一通路块；(6)-第二通路块；(11)-第一开闭阀用流入通路；(12)-第一开闭阀用流出通路；(13)-连通路；(14)-第二开闭阀用流入通路；(15)-第二开闭阀用流出通路；(16)-第三开闭阀用流入通路；(17)-第三开闭阀用流出通路；(18)-第一开闭阀用连通路；(20)-孔板(节流部)。具体实施方式以下，参照附图对本专利技术的实施方式进行说明。在以下的说明中，上下指本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种通断器，其具备：配置在下游侧的第一开闭阀、与第一开闭阀的上游侧相邻的第二开闭阀、支承第一开闭阀及第二开闭阀的通路块，所述通断器的特征在于，第一开闭阀及第二开闭阀均为二通阀，在通路块中形成有第一开闭阀用流入通路、第一开闭阀用流出通路、第二开闭阀用流入通路以及第二开闭阀用流出通路，第二开闭阀用流出通路通过在通路块中形成的连通路而与第一开闭阀用流出通路连通，在第二开闭阀用流出通路与连通路之间设置有节流部。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.04.15 JP 2015-0829981.一种通断器，其具备：配置在下游侧的第一开闭阀、与第一开闭阀的上游侧相邻的第二开闭阀、支承第一开闭阀及第二开闭阀的通路块，所述通断器的特征在于，第一开闭阀及第二开闭阀均为二通阀，在通路块中形成有第一开闭阀用流入通路、第一开闭阀用流出通路、第二开闭阀用流入通路以及第二开闭阀用流出通路，第二开闭阀用流出通路通过...

【专利技术属性】
技术研发人员：石桥圭介，谷川毅，山路道雄，船越高志，木曾秀则，冈部庸之，菊地广秋，坂下训康，
申请(专利权)人：株式会社富士金，
类型：发明
国别省市：日本,JP