屏蔽膜的加工系统及方法技术方案

本发明专利技术提供了一种屏蔽膜的加工系统及方法，涉及电磁屏蔽技术领域。屏蔽膜的加工系统包括半成品加工系统以及成品加工系统；半成品加工系统用于在载体膜上涂布绝缘层以制得屏蔽膜的半成品；成品加工系统用于在保护膜上涂布导电层，并复合导电层与绝缘层以制得屏蔽膜的成品，解决了现有技术中存在的在屏蔽膜的半成品上直接涂布导电层胶水，容易造成涂布不均、涂布连续性降低、外观缺陷、影响产品性能的技术问题，由于成品加工系统首先在保护膜上涂布导电层，继而将导电层与半成品的绝缘层进行复合进而得到屏蔽膜，使得屏蔽膜的外观和性能更好。

Processing system and method of shielding film

The invention provides a processing system and method for shielding film, which relates to the field of electromagnetic shielding technology. Shielding film processing system including semi-finished products processing system and product processing system; semi-finished products processing system for coating insulation layer to produce semi-finished shielding film in the carrier film; product processing system is used in protective film coated on the conductive layer, and the conductive layer and the insulating layer to prepare shielding film products, solutions direct coating on the shielding film of semi-finished products in the prior art on the conductive layer of glue, easy to cause the uneven coating, coating continuity is reduced, technical problems of appearance defects, affecting the performance of the product, because the product processing system in protective film coated on the first conductive layer and the insulating layer, a conductive layer and the semi finished products then get the composite shielding film, the appearance and performance of better shielding film.

【技术实现步骤摘要】
屏蔽膜的加工系统及方法
本专利技术涉及电磁屏蔽
，尤其是涉及一种屏蔽膜的加工系统及方法。
技术介绍
电磁屏蔽广泛应用于通信、电子产品、网络硬件、医疗仪器、航天及国防等领域，在通信方面，电磁屏蔽就是对两个空间区域之间进行金属的隔离，以控制电场、磁场和电磁波由一个区域对另一个区域的感应和辐射。具体讲，就是用屏蔽体将元部件、电路、组合件、电缆或整个系统的干扰源包围起来，防止干扰电磁场向外扩散，用屏蔽体将接收电路、设备或系统包围起来，防止它们受到外界电磁场的影响，电磁屏蔽膜即是一种常用的屏蔽体。涂布机主要用于薄膜、纸张等的表面涂布工艺生产，它是将成卷的基材涂上一层特定功能的胶、涂料或油墨等，并且在烘干后进行收卷存放的机器设备。涂布机采用专用的多功能涂布头，能实现多种形式的表面涂布生产，涂布机发展至今，已能实现镭射转移、烫金、光学膜、保护膜、电子薄膜和介质交换薄膜等的涂布工艺。现有的电磁屏蔽膜的涂布生产流程主要是在载体膜上涂布绝缘层，将绝缘层的表面烘干待硬化后，根据实际需要选择在绝缘层的外侧加工金属层制成半成品，并在半成品的外侧涂布导电层胶水，最后在导电层的外侧贴合保护膜从而制得电磁屏蔽膜。但是，载体膜涂布绝缘层后需经过涂布烘箱进行烘干并收卷，有的绝缘层具有熟化制程，涂布绝缘层后的载体膜经过涂布烘箱或者收卷后的熟化制程，由于绝缘层与载体膜热膨胀系数不一样，会产生应力导致边缘翘曲或者张力不均，后续直接往绝缘层上涂布导电层可能有涂布不均的风险；其次，由于半成品可能由于种种问题出现收卷米数不一的情况，若直接在半成品上涂布导电层，可能会由于半成品米数不一造成涂布连续性降低，从而降低产品良率；再者，由于屏蔽膜的绝缘层里含有填充物，如颜料、阻燃剂等各种添加剂，在导电层的涂布过程中，可能会出现涂布头装置将上述成分刮破而造成外观缺陷的情况；最后，在半成品上直接涂布导电胶层，刚涂上的胶层是含有溶剂的湿膜，溶剂可能会对半成品的绝缘层起到破坏作用，从而影响产品性能。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种屏蔽膜的加工系统及方法，以解决现有技术中存在的在屏蔽膜的半成品上直接涂布导电层胶水，容易造成涂布不均、涂布连续性降低、外观缺陷、影响产品性能的技术问题。本专利技术提供的屏蔽膜的加工系统包括半成品加工系统以及成品加工系统；所述半成品加工系统用于在载体膜上涂布绝缘层以制得所述屏蔽膜的半成品；所述成品加工系统用于在保护膜上涂布导电层，并复合所述导电层与所述绝缘层以制得所述屏蔽膜的成品。进一步的，所述半成品加工系统包括依次连接的第一发送装置、第一涂布装置、第一烘干装置以及第一压合装置；所述第一发送装置用于发送所述载体膜至所述第一涂布装置；所述第一涂布装置用于在所述载体膜上涂布所述绝缘层；所述第一烘干装置用于对所述绝缘层进行烘干；所述第一压合装置用于使涂布所述绝缘层的所述载体膜经过所述第一压合装置后得到所述半成品。进一步的，所述半成品加工系统还包括第一收卷装置；所述第一收卷装置与所述第一压合装置相连。进一步的，所述成品加工系统包括依次连接的第二发送装置、第二涂布装置、第二烘干装置、第二压合装置以及第三发送装置；所述第二发送装置用于发送所述保护膜至所述第二涂布装置；所述第二涂布装置用于在所述保护膜上涂布所述导电层；所述第二烘干装置用于对所述导电层进行烘干；所述第三发送装置用于发送所述半成品至所述第二压合装置；所述第二压合装置用于对所述导电层和所述绝缘层进行压合以得到所述成品。进一步的，所述成品加工系统还包括第二收卷装置；所述第二收卷装置与所述第二压合装置相连。本专利技术提供的应用上述技术方案中任一项所述的屏蔽膜的加工系统加工屏蔽膜的方法，包括：在所述载体膜上涂布所述绝缘层以制得所述半成品；在所述保护膜上涂布所述导电层，并将所述导电层背离所述保护膜的一侧与所述绝缘层背离所述载体膜的一侧进行复合以制得所述成品。进一步的，在所述载体膜上涂布所述绝缘层以制得所述半成品具体为：在所述载体膜的一侧涂布所述绝缘层；对所述绝缘层进行烘干；对烘干后的涂布所述绝缘层的所述载体膜进行压合以得到所述半成品。进一步的，还包括：对所述半成品进行收卷。进一步的，在所述保护膜上涂布所述导电层，并将所述导电层背离所述保护膜的一侧与所述绝缘层背离所述载体膜的一侧进行复合以制得所述成品具体为：在所述保护膜的一侧涂布所述导电层；对所述导电层进行烘干；将烘干后的所述导电层背离所述保护膜的一侧与所述半成品的所述绝缘层背离所述载体膜的一侧进行压合以制得所述成品。进一步的，还包括：对所述成品进行收卷。本专利技术提供的屏蔽膜的加工系统包括半成品加工系统以及成品加工系统。具体地，半成品加工系统用于在载体膜上涂布绝缘层以制得屏蔽膜的半成品，成品加工系统用于在保护膜上涂布导电层，并复合导电层与绝缘层以制得屏蔽膜的成品。相比于现有技术中，屏蔽膜的涂布生产主要是在载体膜上涂布绝缘层，得到半成品，并在半成品的外侧涂布导电层胶水，最后在导电层的外侧贴合保护膜而制得屏蔽膜，虽然得到的屏蔽膜的结构特征相同，但是由于成品加工系统首先在保护膜上涂布导电层，继而将导电层与半成品的绝缘层进行复合进而得到屏蔽膜，使得利用本专利技术提供的屏蔽膜的加工系统得到的屏蔽膜的外观和性能更好。现有技术中，由于载体膜涂布绝缘层后需经过涂布烘箱进行烘干并收卷，有的绝缘层具有熟化制程，涂布绝缘层后的载体膜经过涂布烘箱或者收卷后的熟化制程，由于绝缘层与载体膜热膨胀系数不一样，会产生应力导致边缘翘曲或者张力不均，后续直接往绝缘层上涂布导电层可能有涂布不均的风险，由于半成品加工系统在得到半成品后，并不直接涂布导电层，因此避免了半成品边缘翘曲或张力不均导致的导电层直接涂布至半成品上产生的涂布不均现象；其次，由于半成品可能由于种种问题出现收卷米数不一的情况，例如半成品的后制程或镀层加工等，若直接在半成品上涂布导电层，可能会由于半成品米数不一造成涂布连续性降低，从而降低产品良率，由于半成品加工系统在得到半成品后，并不直接涂布导电层，而是将导电层涂布于保护膜上，从而使得涂布连续性提高，并且提高了产品良率；再者，由于屏蔽膜的绝缘层里含有填充物，如颜料、阻燃剂等各种添加剂，在导电层的涂布过程中，可能会出现涂布头装置将上述成分刮破而造成外观缺陷的情况，由于半成品加工系统在得到半成品后，并不直接涂布导电层，而是将导电层涂布于保护膜上，继而再将导电层与绝缘层复合加工得到屏蔽膜，从而避免了涂布头装置刮破绝缘层的填充物而造成外观缺陷情况的发生；最后，在半成品上直接涂布导电胶层，刚涂上的胶层是含有溶剂的湿膜，溶剂可能会对半成品的绝缘层起到破坏作用，从而影响产品性能，由于成品加工系统在保护膜上涂布导电层后再与绝缘层复合加工时，能够使导电层中的溶剂挥发，导电层中的溶剂挥发后形成的胶膜通过树脂本身的粘性与半成品复合，避免了直接涂布至半成品造成的溶剂对半成品的破坏作用，从而保证了产品的性能。附图说明为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术中屏蔽本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种屏蔽膜的加工系统，其特征在于，包括半成品加工系统(100)以及成品加工系统(200)；所述半成品加工系统(100)用于在载体膜上涂布绝缘层以制得所述屏蔽膜的半成品；所述成品加工系统(200)用于在保护膜上涂布导电层，并复合所述导电层与所述绝缘层以制得所述屏蔽膜的成品。

【技术特征摘要】
1.一种屏蔽膜的加工系统，其特征在于，包括半成品加工系统(100)以及成品加工系统(200)；所述半成品加工系统(100)用于在载体膜上涂布绝缘层以制得所述屏蔽膜的半成品；所述成品加工系统(200)用于在保护膜上涂布导电层，并复合所述导电层与所述绝缘层以制得所述屏蔽膜的成品。2.根据权利要求1所述的屏蔽膜的加工系统，其特征在于，所述半成品加工系统(100)包括依次连接的第一发送装置(110)、第一涂布装置(120)、第一烘干装置(130)以及第一压合装置(140)；所述第一发送装置(110)用于发送所述载体膜至所述第一涂布装置(120)；所述第一涂布装置(120)用于在所述载体膜上涂布所述绝缘层；所述第一烘干装置(130)用于对所述绝缘层进行烘干；所述第一压合装置(140)用于使涂布所述绝缘层的所述载体膜经过所述第一压合装置(140)后得到所述半成品。3.根据权利要求2所述的屏蔽膜的加工系统，其特征在于，所述半成品加工系统(100)还包括第一收卷装置(150)；所述第一收卷装置(150)与所述第一压合装置(140)相连。4.根据权利要求2所述的屏蔽膜的加工系统，其特征在于，所述成品加工系统(200)包括依次连接的第二发送装置(210)、第二涂布装置(220)、第二烘干装置(230)、第二压合装置(240)以及第三发送装置(250)；所述第二发送装置(210)用于发送所述保护膜至所述第二涂布装置(220)；所述第二涂布装置(220)用于在所述保护膜上涂布所述导电层；所述第二烘干装置(230)用于对所述导电层...

【专利技术属性】
技术研发人员：闫勇，韩得生，林文宇，
申请(专利权)人：苏州城邦达力材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32