导电结构体及其制备方法技术

本申请涉及一种导电结构体及其制备方法。根据本申请的一个示例性实施方案的导电结构体包括：基板；设置在所述基板上的金属层；以及设置在所述金属层的至少一个表面上并且包含铜‑锰‑镍氧化物的减光反射层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】导电结构体及其制备方法
本申请要求于2015年8月13日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2015-0114720的优先权和权益，该申请的公开内容通过引用全部并入本文中。本申请涉及一种导电结构体及其制备方法。
技术介绍
通常，根据信号检测类型，触摸屏面板可以如下分类。也就是说，存在：施加直流电压时通过电流或电压值的变化来检测由压力按压的位置的电阻型；在施加AC电压时使用电容耦合的电容型；在施加磁场时因为电压变化来感测选定位置的电磁型等。近来，随着对大面积触摸屏面板的需求的增加，需要开发能够实现具有优异的可视性同时降低电极的电阻的大型触摸屏面板的技术。
技术实现思路
技术问题本申请试图提供能够应用于大面积触摸屏的导电结构体，使诸如耐热性、耐盐水性、高温和高湿环境的耐久性的性能的劣化最小化，并且减少导电图案的光反射，同时使对导电图案的导电性的影响最小化。技术方案本申请的一个示例性实施方案提供一种导电结构体，包括：基板；设置在所述基板上的金属层；以及设置在所述金属层的至少一个表面上并且包含铜-锰-镍氧化物的减光反射层，其中，所述减光反射层中的铜含量为28原子％至46原子％，锰含量为3原子％至12原子％，镍含量为17原子％至24原子％，氧含量为18原子％至52原子％。本申请的另一示例性实施方案提供一种用于导电结构体的制备方法，该制备方法包括：在基板上形成金属层；以及形成设置在所述金属层的至少一个表面上并且包含铜-锰-镍氧化物的减光反射层，其中，所述减光反射层中的铜含量为28原子％至46原子％，锰含量为3原子％至12原子％，镍含量为17原子％至24原子％，氧含量为18原子％至52原子％。本申请的又一示例性实施方案提供一种包括所述导电结构体的触摸屏面板。本申请的再一示例性实施方案提供一种包括所述触摸屏面板的显示器件。有益效果根据本申请的示例性实施方案，所述导电结构体具有保持优异的导电性并且有效地防止金属层的眩光效果的优点。此外，根据本申请的示例性实施方案的导电结构体具有优异的可视性和优异的化学耐久性和物理耐久性的优点。此外，根据本申请的示例性实施方案的导电结构体在应用于诸如显示器件的电子器件的情况下，能够使根据工艺环境的导电结构体的导电性的劣化最小化。此外，根据本说明书的示例性实施方案的导电结构体可以实现精细线宽并且改善可视性。因此，根据本申请的示例性实施方案的导电结构体不影响金属层的导电性并且可以防止由金属层引起的反射，并且通过改善吸光度来改善金属层的遮蔽性。此外，可以通过使用根据本申请的示例性实施方案的导电结构体来开发具有改进的可视性的触摸屏面板以及使用该触摸屏面板的显示器件和太阳能电池。附图说明图1至图3分别是示出根据本申请的一个示例性实施方案的包括金属层和减光反射层的导电结构体的层叠结构的图；图4至图6分别是示出根据本申请的另一示例性实施方案的包括金属图案层和减光反射图案层的导电结构体的层叠结构的图；图7示出根据实施例和比较例制备的导电结构体的减光反射层的折射率n的测量，作为本申请的一个示例性实施方案；图8示出根据实施例和比较例制备的导电结构体的减光反射层的消光系数k的测量，作为本申请的一个示例性实施方案；图9示出导电结构体的减光反射层在耐热性试验之前和之后的颜色变化，作为本申请的一个示例性实施方案；图10示出导电结构体在耐热性试验之前和之后的反射率，作为本申请的一个示例性实施方案；图11是导电结构体的减光反射层在耐热性试验之前和之后的晶相比较的图，作为本申请的一个示例性实施方案。<附图标记说明>100：基板200：减光反射层220：减光反射层300：金属层201：减光反射图案层221：减光反射图案层301：金属图案层具体实施方式在本申请中，应当理解，当元件被称为在另一元件“上”时，它可以直接在另一元件上，或者也可以存在居间元件。在整个申请中，除非有明确的相反描述，否则，词语“包括(comprise)”以及诸如“包括(comprises)”或“包含(comprising)”的变形将被理解为包括指定要素，但是不排除任何其它要素。在下文中，将更详细地描述本申请。在本说明书中，显示器件统指TV、计算机显示屏等，并且包括形成图像的显示元件和支撑显示元件的壳体。作为显示元件，可以例示等离子体显示面板(PDP)、液晶显示器(LCD)、电泳显示器、阴极射线管(CRT)、OLED显示器等。在显示元件中，可以设置用于实现图像的RGB像素图案和附加光学滤波器。同时，对于显示器件，随着智能手机、平板PC、IPTV等的普及的加速，对于人的手成为直接输入装置，而不需要例如键盘或遥控器的单独的输入装置的触摸功能的需要逐渐增加。此外，需要能够进行手写和特定点识别的多点触控功能。目前，大多数商业化触摸屏面板(TSP)以透明导电ITO薄膜为基础，但是在应用大面积触摸屏面板时，存在由于ITO透明电极本身的相对高的表面电阻(最小为150Ω/sq，由NittoDenkoCorporation生产的ELECRYSTA产品)而引起的RC延迟而使得触摸识别速度降低的问题，并且需要引入附加的补偿芯片来克服该问题。本申请的本专利技术人研究了用表面电阻值为若干Ω/sq的金属精细图案代替透明ITO薄膜的技术。结果，本申请的本专利技术人发现，在使用电导率高的金属薄膜Ag、Mo/Al/Mo、Mo/Ti/Cu等作为触摸屏面板的电极用途的情况下，当施用具有特定形状的精细电极图案时，由于反射率高，在可视性方面，存在图案被人眼很好地观看到的问题，并且由于对外部光线的高反射率、高雾度值等，存在会发生眩光等问题。本申请的专利技术人发现如下事实，在包括设置在有效屏幕部分上的导电金属精细图案的触摸屏面板中，由图案层引起的光反射和衍射特性对导电金属精细图案的可视性具有重要影响，并且意图改善该事实。特别地，本申请的专利技术人发现，在现有的ITO类触摸屏面板中，由于ITO本身的高透射率，没有明显地表现出由导电图案的反射率引起的问题，但是在包括设置在有效屏幕部分中的导电金属精细图案的触摸屏面板中，导电金属精细图案的反射率和减光反射特性是重要的。为了解决上述问题，本申请提供一种导电结构体，其与使用传统的ITO类透明导电薄膜层的触摸屏面板不同，并且改善了金属精细图案电极的遮蔽性，并且改善了对外部光的反射和衍射特性。此外，当将根据本申请的一个示例性实施方案的导电层压体应用于诸如触摸屏面板的电子器件的显示单元时，可以确保优异的导电性和可视性。在本说明书中，“导电性”是指电传导性。此外，在本说明书中，“反射”指光反射，“折射率”指光折射率，吸收指光吸收。根据本申请的一个示例性实施方案的导电结构体包括：基板；设置在所述基板上的金属层；以及设置在所述金属层的至少一个表面上并且包含铜-锰-镍氧化物的减光反射层，其中，减光反射层中的铜含量为10原子％至50原子％，锰含量为0.1原子％至16原子％，镍含量为0.1原子％至28原子％，氧含量为30原子％至80原子％。在本申请的示例性实施方案中，减光反射层中的氧含量与铜含量、锰含量、镍含量和氧含量的总和的比例可以为0.18至0.52。当减光反射层中的氧含量与铜含量、锰含量、镍含量和氧含量的总和的比例为0.18至0.52时，减光反射层可以具有稳本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种导电结构体，包括：基板；设置在所述基板上的金属层；以及设置在所述金属层的至少一个表面上并且包含铜‑锰‑镍氧化物的减光反射层，其中，所述减光反射层中的铜含量为28原子％至46原子％，锰含量为3原子％至12原子％，镍含量为17原子％至24原子％，氧含量为18原子％至52原子％。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.08.13 KR 10-2015-01147201.一种导电结构体，包括：基板；设置在所述基板上的金属层；以及设置在所述金属层的至少一个表面上并且包含铜-锰-镍氧化物的减光反射层，其中，所述减光反射层中的铜含量为28原子％至46原子％，锰含量为3原子％至12原子％，镍含量为17原子％至24原子％，氧含量为18原子％至52原子％。2.根据权利要求1所述的导电结构体，其中，所述减光反射层中的氧含量与铜含量、锰含量、镍含量和氧含量的总和的比为0.18至0.52。3.根据权利要求1所述的导电结构体，其中，在波长范围为380nm至780nm的光中，所述减光反射层的消光系数k为0.6以上且为1.4以下。4.根据权利要求1所述的导电结构体，其中，在波长范围为380nm至780nm的光中，所述减光反射层的折射率n为1.7以上且为2.8以下。5.根据权利要求1所述的导电结构体，其中，所述导电结构体的总反射率为40％以下。6.根据权利要求1所述的导电结构体，其中，所述减光反射层的厚度为0.1nm至400nm。7.根据权利要求1所述的导电结构体，其中，所述减光反射层的厚度为0.1nm至100nm。8.根据权利要求1所述的导电结构体...

【专利技术属性】
技术研发人员：尹晶焕，宋斗勋，章盛晧，朴镇宇，金起焕，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国,KR