一种背光键盘的双色键帽制造技术

本实用新型专利技术公开了一种背光键盘的双色键帽，具有帽盖以及胶体部；不透光的帽盖具有镂空的字符空隙，透光材质的胶体部具有浮字部以填塞字符空隙，部分键帽具有闭环式字符，闭环式字符中间具有与帽盖相同材质的填充部，帽盖在靠近闭环式字符处的下方，闭环式字符的下方，以及填充部与帽盖相对应处的下方底部分别具有第一断面、第二断面以及第三断面，第一断面、第二断面以及第三断面区域的平台高度与透光材质的胶体部的底面接近平齐，或是形成浅槽，或是同平面，或是形成台阶；第一断面、第二断面以及第三断面为利用铣刀去除闭环式字符底部的水平流道而得。第一流道胶体与第二流道胶体的底部外侧可以铣刀完全去除，或是保留边缘部分未经铣刀处理。

A backlit keyboard double color keycap

The utility model discloses a backlit keyboard double color keycap, with cap and colloid; opaque cap with a hollow space character, colloid transparent material having floating part of character to fill the gap, part of the key cap is provided with a closed-loop character, has filled with the cap of the same material closed-loop character in between, the cap at the bottom near the closed character, under the closed character, and with cap filler corresponding to the lower part of the bottom cover are respectively provided with a first section and second section and the third section, the first section, second section and third section area of the platform height and translucent portion of the bottom surface of the colloid close to the flush, or forming a shallow trench, or the same plane, or the formation of first step; section, second section and third section for the use of closed bottom cutter removal character A horizontal runner is obtained. The first runner colloid and the second runner colloid at the bottom of the bottom can be completely removed by the milling cutter, or the retained edge portion is not treated by the milling cutter.

【技术实现步骤摘要】
一种背光键盘的双色键帽
：本技术涉及计算机外设
，尤其是涉及一种背光键盘的双色键帽。
技术介绍
：目前的游戏背光键盘普遍要求具有背光字符，因此早期使用喷漆镭雕的键帽；后来为了降低成本，故开始使用双色键帽。但双色键帽因制作技术不足之原因，将具有封闭环的字符进行断开处理；虽然解决注塑技术的问题，但断开的闭环影响美观。因此有另一种架桥式的字符如图一所示，就是在靠近字符空隙11处以及填充部12与帽盖10相对应处的下方具有往下垂直延伸的第一流道胶体和第二流道胶体14，第一流道胶体13和第二流道胶体14的底部以水平流道15联通。如此的架桥式设计，虽然看起来表面没有断开，但是光照之下仍有阴影断开，因此必须另行设计，以解决上述问题。
技术实现思路
：本技术的目的就在于针对现有技术存在的不足之处而提供一种背光键盘的双色键帽，其具有美观的特点，而且不必使用复杂的针点式进胶，因此降低生产成本。为实现上述目的，本技术采用如下技术方案：一种背光键盘的双色键帽，应用在机械式键盘或是薄膜键盘，以双色注塑机经过二次注塑成型而得，具有不透光的帽盖以及透光材质的胶体部；不透光的帽盖具有镂空的字符空隙，透光材质的胶体部具有浮字部以填塞字符空隙，部分键帽具有闭环式字符，闭环式字符中间具有与帽盖相同材质的填充部，帽盖在靠近字符空隙处的下方以及填充部与帽盖相对应处的下方具有残留且垂直往下延伸的第一流道胶体和第二流道胶体，第一流道胶体和第二流道胶体的底部分别具有第一断面和第二断面，闭环式字符的下方也具有第二断面；第一断面、第二断面以及第三断面区域的平台高度与透光材质的胶体部的底面接近平齐，或是形成浅槽，或是同平面，或是形成台阶；第一断面、第二断面以及第三断面为利用铣刀去除部分或全部的第一流道胶体底部和第二流道胶体底部，以及全部的闭环式字符底部的水平流道而得；第一流道胶体与第二流道胶体的底部外侧可以铣刀完全去除，或是保留边缘部分未经铣刀处理。作为上述技术方案的优选，帽盖本身材质为可镭雕的塑料，在字符之外的其他区域，具有镭雕文字。作为上述技术方案的优选，第一断面、第二断面以及第三断面区域的平台高度与透光材质的胶体部的底面接近平齐；因加工精度的因素，在同一组键盘的不同键帽的三个断面同时存在形成浅槽，或是同平面，或是台阶。作为上述技术方案的优选，部分第一流道胶体与第二流道胶体的底部外侧未经铣刀处理，第一断面、第二断面以及第三断面之间的区域小于第一流道胶体与第二流道胶体两个底部外侧之间的区域。作为上述技术方案的优选，第一断面、第二断面以及第三断面为利用铣刀去除闭环式字符底部的水平流道而得，且表面具有残留铣刀纹。作为上述技术方案的优选，透光材质的胶体部在位于第一断面、第二断面以及第三断面临近区间具有铣刀形成的浅槽。作为上述技术方案的优选，透光材质的胶体部在位于第一断面、第二断面以及第三断面临近区间具有矮凸台。作为上述技术方案的优选，因加工精度之因素，同一组键盘的不同键帽，部分具有浅槽，而其余部分具有矮凸台。作为上述技术方案的优选，第一断面、第二断面以及第三断面为水平状。作为上述技术方案的优选，第一断面、第二断面以及第三断面为斜凹面状。本技术的有益效果在于：其具有美观的特点，而且不必使用复杂的针点式进胶，因此降低低生产成本。附图说明：下面结合附图对本技术做进一步的说明：图1为本技术实施例一以铣刀加工前的纵向剖面示意图；图2为本技术实施例一以铣刀加工后的纵向剖面示意图；图3为本技术实施例二以铣刀加工后的纵向剖面示意图；图4为本技术实施例三、四、五以铣刀加工前的纵向剖面示意图；图5为本技术实施例三以铣刀加工后的纵向剖面示意图；图6为本技术实施例四以铣刀加工前的纵向剖面示意图；图7为本技术实施例五铣刀加工后的纵向剖面示意图。图8为本技术实施例六以铣刀加工前的纵向剖面示意图；图9为本技术实施例六铣刀加工后的纵向剖面示意图。具体实施方式：见图1与图2所示的实施例一：一种背光键盘的双色键帽，以双色注塑机经过二次注塑成型而得，具有不透光的帽盖10以及透光材质的胶体部20；不透光的帽盖10具有镂空的字符空隙11，透光材质的胶体部20具有浮字部21以填塞字符空隙11，部分键帽具有闭环式字符21，闭环式字符21中间具有与帽盖10相同材质的填充部12，帽盖10在靠近闭环式字符21处的下方，闭环式字符21的下方，以及填充部12与帽盖10相对应处的下方底部分别具有第一断面131、第二断面141以及第三断面211。第一断面131、第二断面141以及第三断面211为利用铣刀去除全部的第一流道胶体13底部和第二流道胶体14底部，以及闭环式字符21底部的水平流道15而得，且表面具有残留铣刀纹。本例第一断面131、第二断面141以及第三断面211临近区间呈现为铣刀形成的浅槽22。图3所示的实施例二与实施例一不同的是：以CNC加工底部的水平流道15的技术，亦可用于薄膜式键盘火山口结构的键帽。图5所示的实施例三是针对图4所示的另一种流道形式经过铣刀加工而得。第一断面131、第二断面141以及第三断面211区域的平台高度与透光材质的胶体部20的底面接近平齐。图6所示的实施例四与实施例三不同的是：第一断面131、第二断面141以及第三断面211区域的平台高度高于透光材质的胶体部20的底面，形成极浅的浅槽22。图7所示的实施例五与实施例三不同的是：第一断面131、第二断面141以及第三断面211区域的平台高度低于透光材质的胶体部20的底面，形成矮凸台23。部分第二流道胶体14的底部外侧142未经铣刀处理，因此形成向下的突出部142，可以降低铣刀的工时。在此说明的是，例三、例四、例五都是以相同的加工方式，因制造精度或设定形成差异；甚至可能出现在同一批产品中。见图9所示的实施例六，乃是针对图8所示的另一种流道形式经过铣刀加工而得。与实施例一相同的是，具有残留流道，意即部分第一流道胶体13的底部外侧132未经铣刀处理，因此形成向下的突出部132，可以降低铣刀的工时。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种背光键盘的双色键帽，应用在机械式键盘或是薄膜键盘，以双色注塑机经过二次注塑成型而得，具有不透光的帽盖(10)以及透光材质的胶体部(20)；不透光的帽盖(10)具有镂空的字符空隙(11)，透光材质的胶体部(20)具有浮字部(21)以填塞字符空隙(11)，部分键帽具有闭环式字符(21)，闭环式字符(21)中间具有与帽盖(10)相同材质的填充部(12)，其特征在于：帽盖(10)在邻近字符空隙(11)处的下方以及填充部(12)与帽盖(10)相对应处的下方具有残留且垂直往下延伸的第一流道胶体(13)和第二流道胶体(14)，第一流道胶体(13)和第二流道胶体(14)的底部分别具有第一断面(131)和第二断面(141)，闭环式字符(21)的下方也具有第三断面(211)；第一断面(131)、第二断面(141)以及第三断面(211)区域的平台高度与透光材质的胶体部(20)的底面接近平齐，或是形成浅槽，或是同平面，或是形成台阶；第一断面(131)、第二断面(141)以及第三断面(211)为利用铣刀去除部分或全部的第一流道胶体(13)底部和第二流道胶体(14)底部，以及全部的闭环式字符(21)底部的水平流道(15)而得；第一流道胶体(13)与第二流道胶体(14)的底部外侧(132)、(142)可以铣刀完全去除，或是保留边缘部分未经铣刀处理。...

【技术特征摘要】
1.一种背光键盘的双色键帽，应用在机械式键盘或是薄膜键盘，以双色注塑机经过二次注塑成型而得，具有不透光的帽盖(10)以及透光材质的胶体部(20)；不透光的帽盖(10)具有镂空的字符空隙(11)，透光材质的胶体部(20)具有浮字部(21)以填塞字符空隙(11)，部分键帽具有闭环式字符(21)，闭环式字符(21)中间具有与帽盖(10)相同材质的填充部(12)，其特征在于：帽盖(10)在邻近字符空隙(11)处的下方以及填充部(12)与帽盖(10)相对应处的下方具有残留且垂直往下延伸的第一流道胶体(13)和第二流道胶体(14)，第一流道胶体(13)和第二流道胶体(14)的底部分别具有第一断面(131)和第二断面(141)，闭环式字符(21)的下方也具有第三断面(211)；第一断面(131)、第二断面(141)以及第三断面(211)区域的平台高度与透光材质的胶体部(20)的底面接近平齐，或是形成浅槽，或是同平面，或是形成台阶；第一断面(131)、第二断面(141)以及第三断面(211)为利用铣刀去除部分或全部的第一流道胶体(13)底部和第二流道胶体(14)底部，以及全部的闭环式字符(21)底部的水平流道(15)而得；第一流道胶体(13)与第二流道胶体(14)的底部外侧(132)、(142)可以铣刀完全去除，或是保留边缘部分未经铣刀处理。2.根据权利要求1所述的背光键盘的双色键帽，其特征在于：帽盖(10)本身材质为可镭雕的塑料，在字符(21)之外的其他区域，具有镭雕文字。3.根据权利要求1所述的背光键盘的双色键帽，其特征在于：第一断面(131)、第二断面(141)以及第三断面(211)区域的平台高度...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨丽，
申请(专利权)人：杨丽，
类型：新型
国别省市：广东,44