The invention provides a substrate adsorption mechanism and a substrate transmission device. Among them, including the substrate adsorption mechanism: substrate adsorption part, a rotating shaft, a supporting part; the rotation axis is fixed on the supporting part; the adsorption substrate has a first surface and a second surface opposite to the first surface, used for the adsorption of substrate, substrate adsorption part is fixed on the rotating shaft, and through the second surface contact with the supporting part, and able to support as the fulcrum of the axis of rotation with the axis of the rotary shaft as the center of rotation based on the rotation. In the scheme of the invention, to support substrate absorption as the fulcrum of the axis of rotation to the axis of rotation of the shaft rotation center based on the rotation, so as to achieve a seesaw structure that one end of the base plate and the substrate adsorption of first contact, can make the substrate absorption not in contact with substrate tilt toward the substrate thus, in contact with the substrate, ensuring the adsorption substrate adsorption section can fully absorb the substrate surface, to achieve a more stable grasping effect.
【技术实现步骤摘要】
一种基板吸附机构和基板传输设备
本专利技术涉及显示器的制作领域,特别是指一种基板吸附机构和基板传输设备。
技术介绍
在显示装置的制作工艺中,需要在基板上形成各种功能图形,因此基板需要在生产线的不同制作节点之间进行运输。现有的基板运输装置设置有真空吸盘,从而以真空吸附的方式对基板进行抓取,之后进行运输。而真空吸盘是固定在基板运输装置上的,无法进行调整,因此当基板相对真空吸盘的吸附面产生一定翘起时,会使真空吸盘的吸附面与基板表面无法充分接触,导致基板抓取失败,甚至还会导致基板只有一侧被真空吸盘抓取后又发生坠落,造成基板上的功能图形产生结构性的损坏,使显示产品的良品率受到影响。有鉴于此,当前亟需一种能够保证真空吸盘能够稳定吸附基板的技术方案。
技术实现思路
本专利技术的目的是解决现有基板吸附装置无法以真空方式稳定抓取基板的问题。为实现上述目的,一方面,本专利技术的实施例提供一种基板吸附机构,包括:基板吸附部、旋转轴、支撑部;所述旋转轴固定在所述支撑部上;所述基板吸附部具有相反朝向的第一表面和第二表面,所述第一表面用于吸附基板,所述基板吸附部固定在所述旋转轴上,并通过所述第二表面与所述支撑部接触,从而能够以所述支撑部为支点,基于所述旋转轴进行以该旋转轴的轴线为转动中心的旋转。其中,所述支撑部具有一弧面支撑面,所述基板吸附部能够通过其第二表面,以所述弧面支撑面的为支点,基于所述旋转轴进行以该旋转轴为转动中心的旋转。其中,所述支撑部的弧面支撑面相对所述旋转轴的轴线对称,所述基板吸附部能够通过其第二表面,以所述弧面支撑面的顶点为支点,基于所述旋转轴进行以该旋转轴的轴线为转动 ...
【技术保护点】
一种基板吸附机构,其特征在于,包括:基板吸附部、旋转轴、支撑部;所述旋转轴固定在所述支撑部上;所述基板吸附部具有相反朝向的第一表面和第二表面,所述第一表面用于吸附基板,所述基板吸附部固定在所述旋转轴上,并通过所述第二表面与所述支撑部接触,从而能够以所述支撑部为支点,基于所述旋转轴进行以该旋转轴的轴线为转动中心的旋转。
【技术特征摘要】
1.一种基板吸附机构,其特征在于,包括:基板吸附部、旋转轴、支撑部;所述旋转轴固定在所述支撑部上;所述基板吸附部具有相反朝向的第一表面和第二表面,所述第一表面用于吸附基板,所述基板吸附部固定在所述旋转轴上,并通过所述第二表面与所述支撑部接触,从而能够以所述支撑部为支点,基于所述旋转轴进行以该旋转轴的轴线为转动中心的旋转。2.根据权利要求1所述的基板吸附机构,其特征在于,所述支撑部具有一弧面支撑面,所述基板吸附部能够通过其第二表面,以所述弧面支撑面的为支点,基于所述旋转轴进行以该旋转轴为转动中心的旋转。3.根据权利要求2所述的基板吸附机构,其特征在于,所述支撑部的弧面支撑面相对所述旋转轴的轴线对称,所述基板吸附部能够通过其第二表面,以所述弧面支撑面的顶点为支点,基于所述旋转轴进行以该旋转轴的轴线为转动中心的旋转。4.根据权利要求1所述的基板吸附机构,其特征在于,还包括:两个固定部,分别固定在所述旋转轴的两端,每一固...
【专利技术属性】
技术研发人员:高亚东,于闪闪,李晶晶,李健,徐文结,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,合肥京东方光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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