一种用于侦察车升降套筒防偏移的凸型键块研磨工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种用于侦察车升降套筒防偏移的凸型键块研磨工艺，包括以下步骤：步骤一、取凸型键块和带键槽的升降套筒；步骤二、在凸型键块的突出部外表面涂抹研磨膏，并将凸型键块的突出部插入升降套筒的键槽内；步骤三、驱动凸型键块在升降套筒的键槽内往复位移进行研磨；步骤四、取出凸型键块，在凸型键块的突出部两侧斜面涂满着色剂后，再将凸型键块插入升降套筒的键槽内，并驱动凸型键块在升降套筒的键槽内往复位移至少一次；步骤五、取出凸型键块，分别观察凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积，若凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积均小于20％，即完成研磨。有益效果是操作简单，升降套筒偏移量小于0.02mm，精度高。

The utility model relates to a convex key block grinding process used for preventing deviation of a lifting sleeve of a reconnaissance vehicle

The invention discloses a convex key block grinding process for reconnaissance vehicle lifting sleeve anti offset, which comprises the following steps: A, the convex key block and with keyway lifting sleeve; step two, the projection of convex key blocks on the outer surface of grinding paste, and the convex type key protrusion insert a block lifting sleeve key groove; step three, driving the convex key block in the lifting sleeve in a keyway of the reciprocating movement of the grinding; step four, remove the convex key block, in a prominent on both sides of the inclined convex key block covered with stains, then the convex block is inserted into the keyway sleeve lifting button inside, and drive the convex key block in the lifting sleeve in a keyway of the reciprocating movement of at least one; step five, remove the convex key block, the colored areas were observed on both sides of the inclined convex key protruding block, if a convex type key prominent on both sides of the bevel block of coloring The area is less than 20%, that is, complete grinding. The utility model has the advantages that the operation is simple, the offset of the lifting sleeve is less than 0.02mm, and the accuracy is high.

【技术实现步骤摘要】
一种用于侦察车升降套筒防偏移的凸型键块研磨工艺
本专利技术涉及一种研磨工艺，具体是一种用于侦察车升降套筒防偏移的凸型键块研磨工艺。
技术介绍
目前，侦察车的侦查装置通过侦查车内安装的升降装置进行升降侦查外界情况，为保证侦查精度，对升降装置的升降套筒的偏移量要求极为严格，但现有升降装置的升降套筒受限于其键块研磨工艺，偏移量普遍较高，严重影响了侦察车的侦查装置的侦查精度。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种操作简单，升降套筒偏移量小于0.02mm，精度高的用于侦察车升降套筒防偏移的凸型键块研磨工艺。本专利技术解决上述技术问题的技术方案如下：一种用于侦察车升降套筒防偏移的凸型键块研磨工艺，包括以下步骤：步骤一、取凸型键块和带键槽的升降套筒，所述升降套筒的键槽经淬火处理，所述凸型键块的突出部两侧均为斜面并相互对称，所述凸型键块的突出部两侧斜面均预留0.1～0.2mm的研磨厚度；步骤二、在所述凸型键块的突出部外表面涂抹研磨膏，并将所述凸型键块的突出部插入所述升降套筒的键槽内；步骤三、驱动所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内往复位移进行研磨，研磨至所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内顺滑的往复位移状态时停止研磨；步骤四、取出所述凸型键块，在所述凸型键块的突出部两侧斜面涂满着色剂后，再将所述凸型键块插入所述升降套筒的键槽内，并驱动所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内往复位移至少一次；步骤五、取出所述凸型键块，分别观察所述凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积，若所述凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积均小于20％，即完成研磨；若所述凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积均大于20％，则锉薄所述凸型键块的肩部后重复步骤二至步骤四，直至获得突出部两侧斜面的着色面积均小于20％的所述凸型键块。本专利技术的有益效果是：操作简单，经本工艺研磨得到的凸型键块能够保证升降套筒偏移量小于0.02mm，精度高，保证侦察车的侦查装置对侦查精度。优选地，步骤三中采用气缸驱动所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内往复位移进行研磨。确保所述凸型键块稳定的在所述升降套筒的键槽内往复位移进行研磨。优选地，步骤四中采用红丹着色剂涂满所述凸型键块的突出部两侧斜面。便于观察所述凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积。优选地，步骤五中若所述凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积均大于20％，则采用锉刀锉薄所述凸型键块的肩部。利用锉刀锉薄所述凸型键块的肩部，可靠性高，且锉削快捷。具体实施方式以下对本专利技术的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本专利技术，并非用于限定本专利技术的范围。实施例1一种用于侦察车升降套筒防偏移的凸型键块研磨工艺，包括以下步骤：步骤一、取凸型键块和带键槽的升降套筒，所述升降套筒的键槽经淬火处理，所述凸型键块的突出部两侧均为斜面并相互对称，所述凸型键块的突出部两侧斜面均预留0.1mm的研磨厚度；步骤二、在所述凸型键块的突出部外表面涂抹研磨膏，并将所述凸型键块的突出部插入所述升降套筒的键槽内；步骤三、驱动所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内往复位移进行研磨，研磨至所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内顺滑的往复位移状态时停止研磨；步骤四、取出所述凸型键块，在所述凸型键块的突出部两侧斜面涂满着色剂后，再将所述凸型键块插入所述升降套筒的键槽内，并驱动所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内往复位移一次；步骤五、取出所述凸型键块，分别观察所述凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积，若所述凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积均小于20％，即完成研磨；若所述凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积均大于20％，则锉薄所述凸型键块的肩部后重复步骤二至步骤四，直至获得突出部两侧斜面的着色面积均小于20％的所述凸型键块。优选地，步骤三中采用气缸驱动所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内往复位移进行研磨。优选地，步骤四中采用红丹着色剂涂满所述凸型键块的突出部两侧斜面。优选地，步骤五中若所述凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积均大于20％，则采用锉刀锉薄所述凸型键块的肩部。实施例2一种用于侦察车升降套筒防偏移的凸型键块研磨工艺，包括以下步骤：步骤一、取凸型键块和带键槽的升降套筒，所述升降套筒的键槽经淬火处理，所述凸型键块的突出部两侧均为斜面并相互对称，所述凸型键块的突出部两侧斜面均预留0.15mm的研磨厚度；步骤二、在所述凸型键块的突出部外表面涂抹研磨膏，并将所述凸型键块的突出部插入所述升降套筒的键槽内；步骤三、驱动所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内往复位移进行研磨，研磨至所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内顺滑的往复位移状态时停止研磨；步骤四、取出所述凸型键块，在所述凸型键块的突出部两侧斜面涂满着色剂后，再将所述凸型键块插入所述升降套筒的键槽内，并驱动所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内往复位移两次；步骤五、取出所述凸型键块，分别观察所述凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积，若所述凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积均小于20％，即完成研磨；若所述凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积均大于20％，则锉薄所述凸型键块的肩部后重复步骤二至步骤四，直至获得突出部两侧斜面的着色面积均小于20％的所述凸型键块。优选地，步骤三中采用气缸驱动所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内往复位移进行研磨。优选地，步骤四中采用红丹着色剂涂满所述凸型键块的突出部两侧斜面。优选地，步骤五中若所述凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积均大于20％，则采用锉刀锉薄所述凸型键块的肩部。实施例3一种用于侦察车升降套筒防偏移的凸型键块研磨工艺，包括以下步骤：步骤一、取凸型键块和带键槽的升降套筒，所述升降套筒的键槽经淬火处理，所述凸型键块的突出部两侧均为斜面并相互对称，所述凸型键块的突出部两侧斜面均预留0.2mm的研磨厚度；步骤二、在所述凸型键块的突出部外表面涂抹研磨膏，并将所述凸型键块的突出部插入所述升降套筒的键槽内；步骤三、驱动所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内往复位移进行研磨，研磨至所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内顺滑的往复位移状态时停止研磨；步骤四、取出所述凸型键块，在所述凸型键块的突出部两侧斜面涂满着色剂后，再将所述凸型键块插入所述升降套筒的键槽内，并驱动所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内往复位移两次；步骤五、取出所述凸型键块，分别观察所述凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积，若所述凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积均小于20％，即完成研磨；若所述凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积均大于20％，则锉薄所述凸型键块的肩部后重复步骤二至步骤四，直至获得突出部两侧斜面的着色面积均小于20％的所述凸型键块。优选地，步骤三中采用气缸驱动所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内往复位移进行研磨。优选地，步骤四中采用红丹着色剂涂满所述凸型键块的突出部两侧斜面。优选地，步骤五中若所述凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积均大于20％，则采用锉刀锉薄所述凸型键块的肩部。实施例1～3的有益效果是：操作简单，经本工艺研磨得到的凸型键块能够保证升降套筒偏移量小于0.02mm，精度高，保证侦察车的侦查装置对侦查精度。以上所述仅为本专利技术的较佳实施例，并不用以限制本专利技术，凡在本专利技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于侦察车升降套筒防偏移的凸型键块研磨工艺，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、取凸型键块和带键槽的升降套筒，所述升降套筒的键槽经淬火处理，所述凸型键块的突出部两侧均为斜面并相互对称，所述凸型键块的突出部两侧斜面均预留0.1～0.2mm的研磨厚度；步骤二、在所述凸型键块的突出部外表面涂抹研磨膏，并将所述凸型键块的突出部插入所述升降套筒的键槽内；步骤三、驱动所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内往复位移进行研磨，研磨至所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内顺滑的往复位移状态时停止研磨；步骤四、取出所述凸型键块，在所述凸型键块的突出部两侧斜面涂满着色剂后，再将所述凸型键块插入所述升降套筒的键槽内，并驱动所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内往复位移至少一次；步骤五、取出所述凸型键块，分别观察所述凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积，若所述凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积均小于20％，即完成研磨；若所述凸型键块的突出部两侧斜面的着色面积均大于20％，则锉薄所述凸型键块的肩部后重复步骤二至步骤四，直至获得突出部两侧斜面的着色面积均小于20％的所述凸型键块。

【技术特征摘要】
1.一种用于侦察车升降套筒防偏移的凸型键块研磨工艺，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、取凸型键块和带键槽的升降套筒，所述升降套筒的键槽经淬火处理，所述凸型键块的突出部两侧均为斜面并相互对称，所述凸型键块的突出部两侧斜面均预留0.1～0.2mm的研磨厚度；步骤二、在所述凸型键块的突出部外表面涂抹研磨膏，并将所述凸型键块的突出部插入所述升降套筒的键槽内；步骤三、驱动所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内往复位移进行研磨，研磨至所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内顺滑的往复位移状态时停止研磨；步骤四、取出所述凸型键块，在所述凸型键块的突出部两侧斜面涂满着色剂后，再将所述凸型键块插入所述升降套筒的键槽内，并驱动所述凸型键块在所述升降套筒的键槽内往复位移至少一次；步骤五、取出所述凸型键块，分别观察所述凸型键块的突出部两侧斜...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈明清，刁军，
申请(专利权)人：重庆市巴山液压附件厂有限公司，
类型：发明
国别省市：重庆,50