The embodiment of the utility model provides a laser pretreatment system of an optical element, belonging to the field of laser pretreatment of optical materials. The laser pre processing system of the optical element comprises a laser light source, a first reflecting device and a two reflecting device. The reflecting surface of the first reflecting device is parallel to the reflecting surface of the second reflecting device, and the sample to be processed is arranged between the reflecting surface of the first reflecting device and the reflecting surface of the second reflecting device. The first reflector and the second reflector reflection device, laser light emitted from the laser beam into the reflection cavity after treated samples by reflecting cavity repeatedly reflected a plurality of preset processing points were used to treat radiation, sample pretreatment. The laser pre processing system of the optical element provided by the embodiment of the utility model effectively improves the laser pretreatment efficiency of the optical component, and reduces the cost of the laser pretreatment of the optical element.
【技术实现步骤摘要】
一种光学元件激光预处理系统
本技术涉及光学材料激光预处理领域,具体而言,涉及一种光学元件激光预处理系统。
技术介绍
为了提高光学元件的激光损伤性能,通常在元件上架之前,用低于损伤阈值的激光能量对元件通光区域进行激光预处理,即用激光光束对光学元件进行辐照。通过激光预处理,元件损伤阈值最高可提升1到2倍,如此大幅度的损伤性能提升对于光学元件的应用来说具有重要意义,目前,激光预处理已成为高功率激光系统光学元件上架前的必要步骤。预处理过程中,激光脉冲的辐照通量需要从低到高逐渐增加,以避免元件可能出现的激光损伤。影响激光预处理效果的关键参数有:初始辐照通量、辐照通量增加幅度、每个通量下对元件的辐照发次、最高辐照通量。大量研究表明,辐照通量增幅(能量台阶)越小、元件被辐照发次(遍数)越多、最大辐照通量越高(不发生损伤的前提下),预处理效果就越好。所以,为了获得好的预处理效果,需要用尽可能小的能量台阶对元件进行多发次的辐照。而激光系统中的元件口径可达几百毫米,要处理完一块元件,需要辐照的发次是相当可观的。如此多的辐照发次不仅耗时耗力,对于激光器的消耗也会使运行成本增加。
技术实现思路
鉴于此,本技术的目的在于提供一种光学元件激光预处理系统,以改善上述问题。为了实现上述目的,本技术实施例采用的技术方案如下:第一方面,本技术实施例提供了一种光学元件激光预处理系统,包括激光光源、第一反射装置及第二反射装置,所述第一反射装置的反射面与所述第二反射装置的反射面相互平行。待处理样品设置在所述第一反射装置的反射面与所述第二反射装置的反射面之间,所述第一反射装置与所述第二反射装置组成反射腔。所 ...
【技术保护点】
一种光学元件激光预处理系统,其特征在于,包括激光光源、第一反射装置及第二反射装置,所述第一反射装置的反射面与所述第二反射装置的反射面相互平行,待处理样品设置在所述第一反射装置的反射面与所述第二反射装置的反射面之间,所述第一反射装置与所述第二反射装置之间的距离可调,所述第一反射装置、所述待处理样品以及所述第二反射装置相互独立设置,所述第一反射装置与所述第二反射装置组成反射腔,所述激光光源发出的激光光束进入所述反射腔,经所述反射腔多次反射后对所述待处理样品的多个预设处理点进行辐照,用以对所述待处理样品进行激光预处理。
【技术特征摘要】
1.一种光学元件激光预处理系统,其特征在于,包括激光光源、第一反射装置及第二反射装置,所述第一反射装置的反射面与所述第二反射装置的反射面相互平行,待处理样品设置在所述第一反射装置的反射面与所述第二反射装置的反射面之间,所述第一反射装置与所述第二反射装置之间的距离可调,所述第一反射装置、所述待处理样品以及所述第二反射装置相互独立设置,所述第一反射装置与所述第二反射装置组成反射腔,所述激光光源发出的激光光束进入所述反射腔,经所述反射腔多次反射后对所述待处理样品的多个预设处理点进行辐照,用以对所述待处理样品进行激光预处理。2.根据权利要求1所述的光学元件激光预处理系统,其特征在于,所述第一反射装置的第一端高度高于所述第二反射装置的第一端高度。3.根据权利要求2所述的光学元件激光预处理系统,其特征在于,所述第一反射装置与所述第二反射装置相对于所述待处理样品对称设置。4.根据权利要求3所述的光学元件激光预处理系统,其特征在于,相邻两个所述预设处理点上的激光光斑之...
【专利技术属性】
技术研发人员:王凤蕊,刘红婕,耿锋,蒋晓东,黄进,李青芝,叶鑫,孙来喜,周晓燕,
申请(专利权)人:中国工程物理研究院激光聚变研究中心,
类型:新型
国别省市:四川,51
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