【技术实现步骤摘要】
本技术涉及测厚仪探头结构
,具体为一种X射线测厚仪探头。
技术介绍
涂层测厚仪可无损地测量磁性金属基体上非磁性涂层的厚度及非磁性金属基体上非导电覆层的厚度。涂镀层测厚仪具有测量误差小、可靠性高、稳定性好、操作简便等特点,是控制和保证产品质量必不可少的检测仪器,广泛地应用在制造业、金属加工业、化工业、商检等检测领域,而涂层测厚仪探头则是其最为重要的部件,影响到测量效率及测量精度。现有的测厚仪探头结构复杂、抗干扰能力差,容易造成测量误差,而且采集的信号还存在失真现象,影响测量精度。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种X射线测厚仪探头,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种X射线测厚仪探头, 包括金属外壳体,所述金属外壳体内部分别设有气体电离室、前置放大板以及高压模块,所述气体电离室前端设有窗口,所述气体电离室与前置放大板相连,所述高压模块电性连接气体电离室,所述前置放大板上设有高倍低噪声运算放大模块,还包括屏蔽装置,所述屏蔽装置固定设置在窗口外侧。优选的,所述高倍低噪声运算放大模块包括运算放大器、两级场效应宽带放大器以及扼流线圈,所述运算放大器的一个输入端分别连接电阻B一端和电容B一端,电容B另一端接地,电阻B另一端分别连接电阻A一端和电容A一端,电容A另一端连接运算放大器的输出端,运算放大器的另一输入端分别连接电阻C一端和电阻D一端,电阻C另一端接地,电阻D另一端连接运算放大器的输出端;所述两级场效应宽带放大器的第一端连接电容E一端,电容E另一端连接电阻F一端,电阻F另一端连接运算放大器的输出端,两级场效应宽带放 ...
【技术保护点】
一种X射线测厚仪探头, 包括金属外壳体(1),其特征在于:所述金属外壳体(1)内部分别设有气体电离室(2)、前置放大板(3)以及高压模块(4),所述气体电离室(2)前端设有窗口(5),所述气体电离室(2)与前置放大板(3)相连,所述高压模块(4)电性连接气体电离室(2),所述前置放大板(3)上设有高倍低噪声运算放大模块(6),还包括屏蔽装置(7),所述屏蔽装置(7)固定设置在窗口(5)外侧。
【技术特征摘要】
1.一种X射线测厚仪探头, 包括金属外壳体(1),其特征在于:所述金属外壳体(1)内部分别设有气体电离室(2)、前置放大板(3)以及高压模块(4),所述气体电离室(2)前端设有窗口(5),所述气体电离室(2)与前置放大板(3)相连,所述高压模块(4)电性连接气体电离室(2),所述前置放大板(3)上设有高倍低噪声运算放大模块(6),还包括屏蔽装置(7),所述屏蔽装置(7)固定设置在窗口(5)外侧。2.根据权利要求1所述的一种X射线测厚仪探头,其特征在于:所述高倍低噪声运算放大模块(6)包括运算放大器(8)、两级场效应宽带放大器(9)以及扼流线圈(10),所述运算放大器(8)的一个输入端分别连接电阻B(2a)一端和电容B(2b)一端,电容B(2b)另一端接地,电阻B(2a)另一端分别连接电阻A(1a)一端和电容A(1b)一端,电容A(1b)另一端连接运算放大器(8)的输出端,运算放大器(8)的另一输入端分别连接电阻C(3a)一端和电阻D(4a)一端,...
【专利技术属性】
技术研发人员:李蔚森,朱卫民,
申请(专利权)人:马鞍山恒瑞测量设备有限公司,
类型:新型
国别省市:安徽;34
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