一种新型光谱仪制造技术

本发明专利技术属于光谱仪领域且公开了一种新型光谱仪，包括光谱仪内部、聚焦镜、阵列检测器、光栅、准直镜、光栅接头、入射光线、入射狭缝、干涉仪、光谱仪光学系统、光电传感器、外围处理器、数据采集卡、工控机处理平台、后台处理程序、反馈控制电路、反馈控制镜和折射光线，所述光线经过光栅接头到达准直镜折射到光栅折射到聚焦镜又折射到阵列检测器，所述光谱仪光学系统包括干涉仪和光电传感器，本发明专利技术通过改变光谱仪的光源具有了耗能少、重量轻、抗震性强、使用寿命长等特点，利用光焦度衡量像散大小，使得利用柱面镜校正像散时，其位置不受限制，可根据结构的需求任意摆放。成像光谱仪像面倾角的确定方法，实现了宽波段的像差校正。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光谱装置，具体涉及一种新型光谱仪，属于光谱仪领域。
技术介绍
传统光谱仪采用的光源少，寿命短，应用的领域不同所需要的光谱仪种类不同，所以花销增大，有些光谱仪的分辨率不够高无法完成所需要的工作要求，有些光谱仪没有准确的调整系统，波动大会影响使用者的摄用，为此，我们提出一种新型光谱仪。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题克服现有的缺陷，提供一种新型光谱仪，通过改变新的光路和全新的调节和反馈系统，可以有效解决
技术介绍
中的问题。为了解决上述技术问题，本专利技术提供了如下的技术方案:本专利技术提供一种新型光谱仪，包括光谱仪内部、聚焦镜、阵列检测器、光栅、准直镜、光栅接头、入射光线、入射狭缝、干涉仪、光谱仪光学系统、光电传感器、外围处理器、数据采集卡、工控机处理平台、后台处理程序、反馈控制电路、反馈控制镜和折射光线，所述光线经过光栅接头到达准直镜折射到光栅折射到聚焦镜又折射到阵列检测器，所述光谱仪光学系统包括干涉仪和光电传感器，所述工控机处理平台包括数据采集卡和后台处理程序，所述外围处理器里面有反馈控制电路。作为本专利技术的一种新型光谱仪，所述光栅接头的光经过入射狭缝到达准直镜进行折射。作为本专利技术的一种新型光谱仪，所述光谱仪内部包括聚焦镜、阵列检测器、光栅、准直镜和光栅接头。作为本专利技术的一种新型光谱仪，所述光经过干涉仪到达光电传感器里。作为本专利技术的一种新型光谱仪，所述外围处理器里的反馈控制电路将得到的信号经过反馈控制镜到达光谱仪光学系统。作为本专利技术的一种新型光谱仪，所述工控机处理平台里的数据采集卡和后台处理程序双向连接。本专利技术所达到的有益效果是:一种新型光谱仪设备通过改变光谱仪的光源具有了耗能少、重量轻、抗震性强、使用寿命长等特点利用光焦度衡量像散大小，使得利用柱面镜校正像散时，其位置不受限制，可根据结构的需求任意摆放。准直镜到光栅距离对成像光谱仪全视场像差校正具有显著影响，成像光谱仪像面倾角的确定方法，实现了宽波段的像差校正。【附图说明】附图用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本专利技术的实施例一起用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的限制。在附图中:图1是本专利技术实施例所述的一种新型光谱仪内部结构示意图；图2是本专利技术实施例所述的一种新型光谱仪的控制系统示意图；图中标号:1、光谱仪内部;2、聚焦镜;3、阵列检测器;4、光栅;5、准直镜;6、光栅接头;7、入射光线;8、入射狭缝;9、干涉仪;1、光谱仪光学系统；11、光电传感器;12、外围处理器；13、数据采集卡；14、工控机处理平台；15、后台处理程序；16、反馈控制电路；17、反馈控制镜;18、折射光线。【具体实施方式】以下结合附图对本专利技术的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。实施例:请参阅图1-2，本专利技术一种新型光谱仪，包括光谱仪内部1、2、阵列检测器3、光栅4、准直镜5、光栅接头6、入射光线7、入射狭缝8、干涉仪9、光谱仪光学系统1、光电传感器11、外围处理器12、数据采集卡13、工控机处理平台14、后台处理程序15、反馈控制电路16、反馈控制镜17和折射光线18，所述光线经过光栅接头6到达准直镜5折射到光栅4折射到聚焦镜2又折射到阵列检测器3，所述光谱仪光学系统10包括干涉仪9和光电传感器11，所述工控机处理平台14包括数据采集卡13和后台处理程序15，所述外围处理器12里面有反馈控制电路16。所述光栅接头6的光经过入射狭缝8到达准直镜5进行折射用于光线的传递。所述光谱仪内部I包括聚焦镜2、阵列检测器3、光栅4、准直镜5和光栅接头6用于光的反射。所述光经过干涉仪9到达光电传感器11里用于光的干涉处理。所述外围处理器12里的反馈控制电路16将得到的信号经过反馈控制镜17到达光谱仪光学系统10用于对光信号的反馈处理。所述工控机处理平台14里的数据采集卡13和后台处理程序15双向连接用于数据的双向制约。需要说明的是，本专利技术为一种新型光谱仪，工作时，通过改变光谱仪的光源具有了耗能少、重量轻、抗震性强、使用寿命长等特点利用光焦度衡量像散大小，使得利用柱面镜校正像散时，其位置不受限制，可根据结构的需求任意摆放。准直镜到光栅距离对成像光谱仪全视场像差校正具有显著影响，成像光谱仪像面倾角的确定方法，实现了宽波段的像差校正。最后应说明的是:以上所述仅为本专利技术的优选实施例而已，并不用于限制本专利技术，尽管参照前述实施例对本专利技术进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本专利技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。【主权项】1.一种新型光谱仪，包括光谱仪内部(I)、聚焦镜(2)、阵列检测器(3)、光栅(4)、准直镜(5)、光栅接头(6)、入射光线(7)、入射狭缝(8)、干涉仪(9)、光谱仪光学系统(10)、光电传感器(11)、外围处理器(12)、数据采集卡(13)、工控机处理平台(14)、后台处理程序(15)、反馈控制电路(16)、反馈控制镜(17)和折射光线(18)，其特征在于，所述光线经过光栅接头(6)到达准直镜(5)折射到光栅(4)折射到聚焦镜(2)又折射到阵列检测器(3)，所述光谱仪光学系统(10)包括干涉仪(9)和光电传感器(11)，所述工控机处理平台(14)包括数据采集卡(13)和后台处理程序(15)，所述外围处理器(12)里面有反馈控制电路(16)。2.根据权利要求1所述的一种新型光谱仪，其特征在于，所述光栅接头(6)的光经过入射狭缝(8)到达准直镜(5)进行折射。3.根据权利要求1所述的一种新型光谱仪，其特征在于，所述光谱仪内部(I)包括聚焦镜(2)、阵列检测器(3)、光栅(4)、准直镜(5)和光栅接头(6)。4.根据权利要求1所述的一种新型光谱仪，其特征在于，所述光经过干涉仪(9)到达光电传感器(I I)里。5.根据权利要求1所述的一种新型光谱仪，其特征在于，所述外围处理器(12)里的反馈控制电路(16)将得到的信号经过反馈控制镜(17)到达光谱仪光学系统(10)。6.根据权利要求1所述的一种新型光谱仪，其特征在于，所述工控机处理平台(14)里的数据采集卡(13)和后台处理程序(15)双向连接。【专利摘要】本专利技术属于光谱仪领域且公开了一种新型光谱仪，包括光谱仪内部、聚焦镜、阵列检测器、光栅、准直镜、光栅接头、入射光线、入射狭缝、干涉仪、光谱仪光学系统、光电传感器、外围处理器、数据采集卡、工控机处理平台、后台处理程序、反馈控制电路、反馈控制镜和折射光线，所述光线经过光栅接头到达准直镜折射到光栅折射到聚焦镜又折射到阵列检测器，所述光谱仪光学系统包括干涉仪和光电传感器，本专利技术通过改变光谱仪的光源具有了耗能少、重量轻、抗震性强、使用寿命长等特点，利用光焦度衡量像散大小，使得利用柱面镜校正像散时，其位置不受限制，可根据结构的需求任意摆放。成像光谱仪像面倾角的确定方法，实现了宽波段的像差校正。【IPC分类】G01J3/45【公开号】CN105547479【申请号】CN201610016589【专利技术人】蔡元学 【申请人】天津纳正科技有限公司【本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型光谱仪，包括光谱仪内部(1)、聚焦镜(2)、阵列检测器(3)、光栅(4)、准直镜(5)、光栅接头(6)、入射光线(7)、入射狭缝(8)、干涉仪(9)、光谱仪光学系统(10)、光电传感器(11)、外围处理器(12)、数据采集卡(13)、工控机处理平台(14)、后台处理程序(15)、反馈控制电路(16)、反馈控制镜(17)和折射光线(18)，其特征在于，所述光线经过光栅接头(6)到达准直镜(5)折射到光栅(4)折射到聚焦镜(2)又折射到阵列检测器(3)，所述光谱仪光学系统(10)包括干涉仪(9)和光电传感器(11)，所述工控机处理平台(14)包括数据采集卡(13)和后台处理程序(15)，所述外围处理器(12)里面有反馈控制电路(16)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡元学，
申请(专利权)人：天津纳正科技有限公司，
类型：发明
国别省市：天津;12