薄膜应力测量装置制造方法及图纸

技术编号:10985861 阅读:143 留言:0更新日期:2015-01-31 17:32
本发明专利技术公开了一种薄膜应力测量装置,包括激光器、扩束镜、会聚透镜、带分光镜的移测显微镜以及镀有铝半透膜的平面玻璃,所述激光器发出的激光束照射至扩束镜成为发散光束后,再通过会聚透镜成为平行光束至分光镜,所述分光镜将光垂直反射至平面玻璃上,所述分光镜为倾斜度可调,所述测试样品放在平面玻璃上,垂直入射的激光束照射在半透膜平面以及薄膜样品上,反射后的激光束产生等厚干涉条纹,并显示在移测显微镜中。本发明专利技术的薄膜应力测量方法基于基片弯曲发和牛顿环的原理,搭建了简便的薄膜应力测量装置,能够快速准确地测量薄膜的应力随薄膜厚度的变化,本发明专利技术的装置结构简便,测量结果准确,适用性广。

【技术实现步骤摘要】
薄膜应力测量装置
本专利技术涉及一种应力测量装置,特别涉及一种薄膜应力测量装置。
技术介绍
应力是薄膜制备和生产过程中存在的普遍现象,薄膜所受的应力分为外应力和内应力,内应力是在薄膜制造过程中,在内部自己产生的应力,薄膜中应力的大小和分布对薄膜的结构和性质有重要的影响,可导致薄膜的光、电、磁、机械性能改变,因此,薄膜应力研究在薄膜基础理论和应用研究中起到重要的作用,薄膜应力的测量备受关注。
技术实现思路
为了克服上述缺陷,本专利技术提供了一种能够测量薄膜应力随膜厚变化的薄膜应力测量装置。 本专利技术为了解决其技术问题所采用的技术方案是:一种薄膜应力测量装置,包括激光器、扩束镜、会聚透镜、带分光镜的移测显微镜以及镀有铝半透膜的平面玻璃,所述激光器发出的激光束照射至扩束镜成为发散光束后,再通过会聚透镜成为平行光束至分光镜,所述分光镜将光垂直反射至平面玻璃上,所述分光镜为倾斜度可调,所述测试样品放在平面玻璃上,垂直入射的激光束照射在半透膜平面以及薄膜样品上,反射后的激光束产生等厚干涉条纹,并显示在移测显微镜中。 作为本专利技术的进一步改进,所述测试样品的两边放置有厚度均匀的硅片。 作为本专利技术的进一步改进,所述激光器为He-Ne激光器。 本专利技术的有益效果是:本专利技术的薄膜应力测量方法基于基片弯曲发和牛顿环的原理,搭建了简便的薄膜应力测量装置,能够快速准确地测量薄膜的应力随薄膜厚度的变化,本专利技术的装置结构简便,测量结果准确,适用性广。 【附图说明】 图1为本专利技术结构示意图;图中标示:1-激光器;2_扩束镜;3_会聚透镜;4_带分光镜;5_移测显微镜;6_铝半透膜;7-平面玻璃;8-薄膜样品。 【具体实施方式】 为了加深对本专利技术的理解,下面将结合实施例和附图对本专利技术作进一步详述,该实施例仅用于解释本专利技术,并不构成对本专利技术保护范围的限定。 图1示出了本专利技术一种薄膜应力测量装置的一种实施方式,包括激光器1、扩束镜 2、会聚透镜3、带分光镜4的移测显微镜5以及镀有铝半透膜6的平面玻璃7,所述激光器I发出的激光束照射至扩束镜2成为发散光束后,再通过会聚透镜3成为平行光束至分光镜4,所述分光镜4将光垂直反射至平面玻璃7上,所述分光镜为倾斜度可调,所述测试样品8放在平面玻璃7上,垂直入射的激光束照射在铝半透膜6平面以及薄膜样品8上,反射后的激光束产生等厚干涉条纹,并显示在移测显微镜5中,所述测试样品8的两边放置有厚度均匀的硅片,与测试样品之间形成空气隙。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜应力测量装置,其特征在于:包括激光器(1)、扩束镜(2)、会聚透镜(3)、带分光镜(4)的移测显微镜(5)以及镀有铝半透膜(6)的平面玻璃(7),所述激光器(1)发出的激光束照射至扩束镜(2)成为发散光束后,再通过会聚透镜(3)成为平行光束至分光镜(4),所述分光镜(4)将光垂直反射至平面玻璃(7)上,所述分光镜为倾斜度可调,所述测试样品(8)放在平面玻璃(7)上,垂直入射的激光束照射在铝半透膜(6)平面以及薄膜样品(8)上,反射后的激光束产生等厚干涉条纹,并显示在移测显微镜(5)中。

【技术特征摘要】
1.一种薄膜应力测量装置,其特征在于:包括激光器(I)、扩束镜(2)、会聚透镜(3)、带分光镜(4)的移测显微镜(5)以及镀有铝半透膜(6)的平面玻璃(7),所述激光器(I)发出的激光束照射至扩束镜(2)成为发散光束后,再通过会聚透镜(3)成为平行光束至分光镜(4),所述分光镜(4)将光垂直反射至平面玻璃(7)上,所述分光镜为倾斜度可调,所述测...

【专利技术属性】
技术研发人员:尚修鑫
申请(专利权)人:苏州精创光学仪器有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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