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一种激光直写系统与光刻方法,包括焦距测量系统和曝光系统,所述焦距测量系统采用离线的方式测量整个待刻物体表面的三维形貌信息之后,将所述三维形貌信息转化为调焦信息并发送给所述曝光系统,所述曝光系统根据所述调焦信息,在对所述待刻物体表面进行光刻过...该专利属于苏州苏大维格光电科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州苏大维格光电科技股份有限公司授权不得商用。
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一种激光直写系统与光刻方法,包括焦距测量系统和曝光系统,所述焦距测量系统采用离线的方式测量整个待刻物体表面的三维形貌信息之后,将所述三维形貌信息转化为调焦信息并发送给所述曝光系统,所述曝光系统根据所述调焦信息,在对所述待刻物体表面进行光刻过...