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一种光刻投影物镜波像差和成像最佳焦面的检测方法，通过对特殊设计的二维检测标记在最佳焦面位置的仿真空间像进行主成分分析和多元线性回归，提取出包含像差影响的空间像的主成分和线性回归矩阵，利用主成分拟合实测空间像，以拟合残差的均方根最小为判断依据...
该专利属于中国科学院上海光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海光学精密机械研究所授权不得商用。

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