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还原炉制造技术
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文档序号:9909892
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本发明涉及一种尤其用于生产硅的还原炉,包括炉外壳(3)和带有尤其圆形截面的多个电极(1a,1b),电极彼此以所限定的布置方式尤其沿着圆弧(2)布置在炉外壳中,其中,电极(1a,1b)中的至少一个构造为由多个单电极(1a,1b)组成的电极束,...
该专利属于SMS西马格股份公司所有,仅供学习研究参考,未经过SMS西马格股份公司授权不得商用。
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