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双相介金属互连结构及其制作方法技术
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文档序号:9903816
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一种双相介金属互连结构及其制作方法。所述双相介金属互连结构介于芯片与载板之间,包括第一介金属相、第二介金属相、第一焊接金属层以及第二焊接金属层。第二介金属相包覆第一介金属相,且第一介金属相与第二介金属相含有不同的高熔点金属。第一焊接金属层与...
该专利属于财团法人工业技术研究院所有,仅供学习研究参考,未经过财团法人工业技术研究院授权不得商用。
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