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本发明公开了一种双位元闪存,包括两个位于同一有源区中且相邻的SONOS存储器以及位于两个SONOS存储器之间的选择管,选择管的栅极结构的位置和尺寸直接由两个SONOS存储器之间的两个相邻侧墙自对准定义。本发明还公开了一种双位元闪存的制造方法...该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。
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